公开(公告)号：CN1192821A

公开(公告)日：1998-09-09

申请号：CN96196231.3

申请日：1996-06-11

Applicant: 爱克斯光系统有限公司

Inventor： D·M·吉布森 ,  R·G·唐宁

IPC: G21K1/02 ,  G01N24/00

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/068

Abstract: 公开了一种装置和方法用于提供发散度的大小可控的聚焦的x－射线,伽马－射线,带电粒子和中性粒子,包括中子束,放射线束(18)。装置的特点是新颖地使用了放射线阻挡结构(54,142,218,240),当它与多通道全反射透镜(10)结合时,通过提供用户可控的输出束发散度增加了透镜组的多用性。

公开(公告)号：CN107408417A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680018150.2

申请日：2016-03-23

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 河原直树

IPC: G21K1/06 ,  G01N23/223

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N23/207 ,  G01N23/22 ,  G01N2223/315 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明的双重弯曲X射线分光元件(1)夹持于凸模成形夹具(21)所具有的双重弯曲凸面(21a)、与凹模成形夹具(22)所具有的与双重弯曲凸面(21a)吻合的双重弯曲凹面(22a)之间，在加热到400℃～600℃、按照具有双重弯曲面的形状而变形的玻璃板(3)的凹面(3a)上，形成反射X射线的反射膜(5)。

公开(公告)号：CN103765201B

公开(公告)日：2017-11-07

申请号：CN201280040742.6

申请日：2012-10-25

Applicant: X射线光学系统公司

Inventor： 陈泽武 ,  R·D·德莱尼 ,  J·H·伯德特 ,  辛凯

IPC: G01N23/223 ,  G02B27/00

CPC classification number: G21K1/06 ,  G01N23/2076 ,  G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G01N2223/308 ,  G01N2223/315 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种支撑结构，该结构具有多个高度对准的弯曲x射线光学器件，该支撑结构具有多个内部的部分同心或者完全同心的表面，所述光学器件安装在这些表面上，因此沿着它的中心光学轴线使所述光学器件对准并且因此对准源、样品和/或探测器，支撑结构可以与该源、样品和/或探测器相组合使用。这些表面绕中心光学轴线被套装；及该支撑结构借助一些壁绕中心光学轴线沿纵向被分隔成多个部分。在聚焦单色型光学器件的一个实施例中，至少一个x射线光学器件包括弯曲的衍射光学器件，以接纳散射x射线射束并且使该x射线射束聚焦到聚焦区域。在改进的实施例中，光学器件包括单层、塑性变形的LiF光学器件。

公开(公告)号：CN103493615B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201280017992.8

申请日：2012-03-06

Applicant: 富士机械制造株式会社

Inventor： 川合英俊 ,  赤塚良太

IPC: H05K13/04 ,  H05K13/08

CPC classification number: H05K13/0452 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  H05K13/041 ,  H05K13/0812

Abstract: 在生产开始前，分别计测由多个吸嘴（21）吸附的多个元件（A～D）的识别位置的偏差量，将该计测数据存储于存储单元，然后，在生产中从上述存储单元读入识别位置偏差量的数据，来校正由各吸嘴（21）吸附的元件（A～D）的识别位置偏差。可如下进行识别位置偏差量的计测：在生产开始前，在由吸嘴（21）吸附有元件的状态下使该吸嘴（21）的中心与相机的视野中心一致来拍摄该元件，并进行图像处理来识别该元件的位置，并且，使该吸嘴（21）的位置向生产中的一并摄像位置移动而利用该相机拍摄该元件，进行图像处理来识别该元件的位置，算出这两处识别位置之间的距离与该吸嘴（21）的移动距离之差作为识别位置偏差量。

公开(公告)号：CN102981201B

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201210518419.7

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  V·Y·班尼恩 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  M·M·J·W·范赫彭 ,  A·M·亚库林

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  B82Y10/00

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

公开(公告)号：CN102193121B

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：CN201110065446.9

申请日：2011-03-17

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 汉斯-于尔根.曼

IPC: G02B5/08 ,  G02B17/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0891 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0875 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 本申请公开了一种反射光学元件、投射系统和投射曝光设备。该反射光学元件用于紫外到极紫外波长范围中的工作波长。该反射光学元件包括在基底上的具有多层系统的反射面，所述多层系统具有至少两种交替材料的层，所述两种交替材料在工作波长具有不同的折射率实部。某个入射角带宽分布的工作波长的辐射可以入射在所述反射光学元件上。所述反射面具有一个或多个第一部分和一个或多个其它部分，第一部分中的交替材料的层具有第一周期厚度，以及第二部分中的交替材料的层具有第一周期厚度和至少一个其它周期厚度。第一部分和其它部分在反射面上的布置适配于所述入射角带宽分布。

公开(公告)号：CN101558454B

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN200780046503.0

申请日：2007-11-16

Applicant: X射线光学系统公司

Inventor： 陈泽武

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种用于接收和重定向X射线的衍射X射线光学器件。该光学器件包括至少两个层，所述层具有类似的或不同的材料组成和类似的或不同的晶体取向。所述层中的每一个显示出衍射效应，且他们的整体效应在接收的X射线上提供衍射效应。在一个实施例中，所述层为硅，且采用绝缘体上硅键合技术将所述层键合到一起。在另一实施例中，可以采用粘结键合技术。该光学器件可以为曲面、单色光学器件。

公开(公告)号：CN100485864C

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200580020010.0

申请日：2005-06-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 村上胜彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明的目的是提供一种EUV光源、EUV曝光装置及半导体元件的制造方法。在被加热的容器(4)内，收纳有使Sn固体微粒在树脂中分散的液体。由加压泵进行加压的树脂被导向喷嘴(1)，并从真空室(7)内所设置的喷嘴(1)的顶端喷出液体状的树脂。从喷嘴(1)所喷出的液体状的液体由表面张力而形成球形的形状，并在真空中被冷却而固化，形成固体状的标靶(2)。在真空室(7)内设置有激光光导入用的激光导入窗(10)，且从真空室(7)的外面所配置的激光光源(8)产生的激光光，由透镜(9)被聚光并导向真空室(7)内，将标靶等离子化而产生EUV光。

公开(公告)号：CN1324613C

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN03819527.5

申请日：2003-06-19

Applicant: 谢诺思公司

Inventor： P·霍格霍伊 ,  A·达里埃尔 ,  S·罗德里格斯

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。

公开(公告)号：CN1304311C

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：CN03154329.4

申请日：2003-08-15

Applicant: 肖特公开股份有限公司

Inventor： 索尔斯滕·德林 ,  拉尔夫·叶达姆兹克 ,  豪克·埃塞曼 ,  埃娃·赫尔策尔

IPC: C03B11/00 ,  C03B11/08 ,  C03B32/02 ,  C03B19/02 ,  C03C10/12 ,  C03C3/064 ,  C03C3/11 ,  G02B23/00

CPC classification number: C03B23/0357 ,  C03B19/02 ,  C03B23/025 ,  C03B23/0252 ,  C03B32/02 ,  C03B40/00 ,  C03C10/0027 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明公开了玻璃或玻璃陶瓷的成型方法，其中玻璃陶瓷模具(12)是由起始玻璃成模制得，该起始玻璃通过热处理转化成一种热液石英玻璃陶瓷，该热液石英玻璃陶瓷主要含有热液石英混合晶体。使用所述的热液石英玻璃陶瓷模具(12)，在重力作用和高于胚件(14)的转变温度下，可将胚件下陷到模具中而制备成型体。