一种方形离子源
    32.
    实用新型

    公开(公告)号:CN213781983U

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202023252502.3

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本实用新型公开了一种方形离子源,包括方形外壳,方形外壳的上部固定有前面板,前面板上设置有灯罩,方形外壳的下部固定有底板,底板的表面设置有调节杆,调节杆包括穿过底板并与其固定连接的固定壳、设置在固定壳内部并与其滑动设置的推动杆,方形外壳的内部中部设置有外壳固定环,外壳固定环与前面板通过支撑杆固定连接,外壳固定环与前面板之间设置有聚焦器固定环,且聚焦器固定环相对于支撑杆滑动设置,聚焦器固定环的内壁固定连接有聚焦器,推动杆与聚焦器固定连接。本实用新型前端增加固定板,紫外灯嵌入安装,安装更为牢固、聚焦器可前后调节、散热效果更好。

    一种电子枪注入器
    33.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210123712U

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201920970101.X

    申请日:2019-06-25

    Inventor: 唐涛

    Abstract: 本实用新型公开了一种电子枪注入器,包括F/V变换电路、栅控脉冲电路、联锁电路和灯丝保护电路,F/V变换电路、栅控脉冲电路和联锁电路均接电源模块和外部控制信号;F/V变换电路与高压控制电路连接,高压控制电路与电源模块和高压电源连接,栅控脉冲电路和栅控脉冲电源连接;灯丝保护电路与电源模块连接;高压电源、和栅控脉冲电源和灯丝保护电路均与电子枪连接。本方案拥有非常好的线性度,使得输出信号与输出信号成高度线性关系,从而使得电子束流强度连续可调、束流稳定。

    ION SOURCE WITH SUBSTANTIALLY PLANAR DESIGN
    34.
    发明申请
    ION SOURCE WITH SUBSTANTIALLY PLANAR DESIGN 审中-公开
    离子源与大规模平面设计

    公开(公告)号:WO2006055296A2

    公开(公告)日:2006-05-26

    申请号:PCT/US2005/040159

    申请日:2005-11-07

    CPC classification number: H01J37/08 H01J3/04 H01J27/143

    Abstract: In certain example embodiments of this invention, there is provide an ion source including an anode and a cathode. In certain example embodiments, the cathode does not overhang over the anode, or vice versa. Since no, or fewer, areas of overhang are provided between the anode and cathode, there is less undesirable build-up on the anode and/or cathode during operation of the ion source so that the source can run more efficiently. Moreover, in certain example embodiments, an insulator such as a ceramic or the like is provided between the anode and cathode.

    Abstract translation: 在本发明的某些示例实施例中,提供了包括阳极和阴极的离子源。 在某些示例性实施例中,阴极不会悬在阳极上,反之亦然。 由于在阳极和阴极之间没有或更少的突出区域被提供,所以在离子源操作期间在阳极和/或阴极上的不希望的积聚较少,使得源可以更有效地运行。 此外,在某些示例性实施例中,在阳极和阴极之间设置诸如陶瓷等的绝缘体。

    高能量离子源
    35.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212365918U

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN202022243115.7

    申请日:2020-10-10

    Abstract: 本实用新型提供一种高能量离子源。高能量离子源主要由离子聚焦机构、离子产生与引导机构、电子发射机构、氩气进入机构和角度可调机构组成。在这个核心构造里要产生氩离子,并完成对离子的加速和聚焦。本实用新型的离子产生与引导机构是由引出上覆盖栅网构成,该引导孔相对于氩离子处于负电压,电压值在数百至数千伏特之间可调。离子引导孔不仅可以加速氩离子,也可以约束离子束流的指向;本实用新型的离子聚焦机构采用三个互相绝缘的静电透镜,通过调节中间透镜可变电阻来调节离子束,进行进一步的约束;本实用新型的角度可调机构采用还可保证进气管与进气孔同轴心调形成团簇原子。本实用新型能够很好地约束离子束流的指向。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    具有多孔径进气通道的线性阳极层离子源

    公开(公告)号:CN210467749U

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201921888445.2

    申请日:2019-11-04

    Applicant: 陈伟

    Abstract: 本实用新型属于离子源技术领域,具体涉及一种具有多孔径进气通道的线性阳极层离子源,包括一具有长条状安装槽的壳体,所述安装槽的槽腔中心处设有一竖向布置的磁体;所述磁体与所述安装槽的槽底、两侧槽壁围合形成两个独立的放电室,所述的放电室内设有阳极支架且在所述放电室的底部设有贯穿壳体的注气孔,所述的阳极支架上设有连续的大直径段进气通道和小直径段进气通道连通至所述的注气孔供气体注入到放电室内,所述注气孔的孔径小于大直径段进气通道的孔径;由于气体通道的多级直径变化,供气瓶的压力被有效缓冲,进入放电室的气体的流速变缓;改变了放电室和离子源外部的真空压力差,使得低流速的气体实现了在放电室中充分的离化。

    一种新型射频离子源
    37.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207602507U

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201721642914.3

    申请日:2017-11-30

    Inventor: 周焱文

    Abstract: 本实用新型涉及射频离子源技术领域,尤其是一种新型射频离子源,包括射频离子源本体和安装射频离子源本体的底座,所述底座的上侧中部横向开设有凹槽,所述凹槽内安装有直线电机,所述直线电机的上部安装有射频离子源本体,所述底座的上部一侧开设有与凹槽垂直的滑槽,所述安装孔内均固定设置有轴承,两个所述调节螺杆远离限位螺母的一端均贯穿第二螺孔与轴承连接,所述滑槽靠近固定块的两侧均设置有调节块,两个所述调节螺杆分别插设在两个第一螺孔内,两个所述调节块的上部均设置有固定装置,两个所述固定装置的顶部通过锁紧螺栓连接,本实用新型结构简单,方便使用,便于调节,能够适用不同设备安装使用。

    一种流强可调的真空弧离子源

    公开(公告)号:CN203787380U

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201420218057.4

    申请日:2014-04-30

    Abstract: 本实用新型公开了一种流强可调的真空弧离子源,包括阳极(1)、阴极(4)、触发极(2)、阴极-触发绝缘体(3)、主弧电源(6),所述阴极(4)和阳极(1)均连接到主弧电源(6)上,且各连接主弧电源(6)的一个电极,所述触发极(2)与阴极(4)通过阴极-触发绝缘体(3)隔开,还包括可调电阻(5),所述可调电阻(5)连接在触发极(3)和阳极(1)之间,本实用新型的离子源不需要调节电源参数、不必改变主弧放电电流,只需调节可调电阻就可以实现离子流在较大范围内变化,具有结构简单紧凑、成本低、调节范围大等优点。

    射频离子源
    39.
    发明申请
    射频离子源 审中-公开

    公开(公告)号:WO2023040676A1

    公开(公告)日:2023-03-23

    申请号:PCT/CN2022/116632

    申请日:2022-09-01

    Abstract: 本申请涉及一种射频离子源,包括连接供气管路的放电腔体,设于放电腔体外的射频线圈,设于放电腔体前部的栅网,所述放电腔体的横截面面积大于所述栅网的面积,且所述放电腔体覆盖所述栅网;所述放电腔体通过供气管路导入气体,并在腔体内进行电离后通过所述栅网引出离子束;该技术方案,可以使得进入放电腔体的气体能够接收所有的射频功率,从而提升了气体电离效率,同时也提升了射频离子源产生离子束的效率。

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