公开(公告)号：CN105189345B

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201480014332.3

申请日：2014-03-11

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 平川诚 ,  水川茂

IPC: C01B3/38 ,  H01M8/06 ,  H01M8/12

CPC classification number: C01B3/38 ,  B01J8/0465 ,  B01J8/0496 ,  B01J2208/00504 ,  B01J2208/0053 ,  B01J2208/00849 ,  B01J2208/02 ,  C01B3/384 ,  C01B2203/0227 ,  C01B2203/0233 ,  C01B2203/066 ,  C01B2203/0816 ,  C01B2203/0822 ,  C01B2203/0827 ,  C01B2203/1288 ,  C01B2203/1294 ,  H01M8/0618 ,  H01M2008/1293 ,  Y02P20/128

Abstract: 燃料改性器(20)借助催化作用，并利用燃料气体来生成改性气体。包括布置在燃烧室(24)内的燃烧喷嘴(30)、排气管(15)、气体流通空隙(25)、外侧改性部(43)、燃料气体引入管(10)以及改性气体引出管(11)。柱状突出部(40)设置在燃烧室(24)内。

公开(公告)号：CN105009338A

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201480011896.1

申请日：2014-02-05

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 平川诚 ,  水川茂

IPC: H01M8/04 ,  H01M8/12

Abstract: 固体氧化物燃料电池(1)包括：电池堆(6)；改性气体导入路径(10)，其向电池堆(6)导入改性气体；氧化剂气体导入路径(11)，其向电池堆(6)导入氧化剂气体；以及冷却气体导入路径(14)，其向氧化剂气体导入路径(11)导入冷却气体。在电池堆(6)的周围设置有吸收热的吸热部(61)，冷却气体导入路径(14)经由吸热部(61)与氧化剂气体导入路径(11)连接。

公开(公告)号：CN104704418A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201380049445.2

申请日：2013-09-19

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 三崎登纪子

IPC: G02B26/08 ,  B81C1/00

CPC classification number: G02B26/0816 ,  B81B2201/042 ,  B81C1/00 ,  B81C1/00142 ,  G02B26/0858

Abstract: 在对执行部件本体部分(251)的外周部分(255)的SiO2膜(240)进行蚀刻时，让SiO2膜(240)以比压电元件(4)更探向外侧的状态残留在执行部件本体部分(251)的表面上。当形成覆盖执行部件本体部分(251)和镜部分(252)的第三抗蚀剂掩膜(330)后再进行蚀刻时，第三抗蚀剂掩膜(330)具有让镜部分(252)的外周部分(256)露出来的第二狭缝(332)和让执行部件本体部分(251)的外周部分(256)和执行部件本体部分(251)的SiO2膜(240)露出来且宽度比第二狭缝(332)宽的第一狭缝(331)。

公开(公告)号：CN104604006A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201380046624.0

申请日：2013-09-03

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 上荷広之

IPC: H01M8/02 ,  H01M8/24 ,  H01M8/12

Abstract: 多个被层叠的燃料电池(1)的发电元件(2)包括板状的电池单元(10)、正极板(30)以及负极板(20)。正极板(30)包括燃料供气歧管(4)、多条第一气体流路(35)以及第二气体流路(61)。在与第二气体流路(61)的气体进入口(38)相对的相对面上设置限制部(80)，该限制部(80)限制从燃料供气歧管(4)经由气体进入口(38)流入到第二气体流路(61)的燃料气体流入第一气体流路(35)。

公开(公告)号：CN102712472B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201080043675.4

申请日：2010-09-21

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 松野敬 ,  竹村理

IPC: C01B13/11

CPC classification number: C01B13/11 ,  C01B2201/32 ,  C01B2201/34 ,  C01B2201/64 ,  C01B2201/90

Abstract: 本发明公开了一种臭氧气体发生装置。该臭氧气体发生装置在一对电极(14、14)的各相向面侧分别设置有一个电介质(13)。在一对电介质(13、13)之间形成有放电间隙(20)，该放电间隙(20)与原料气体供给通路和臭氧气体排出通路连接。在一对电介质(13、13)上设置有面向放电间隙(20)的功能膜(17)。功能膜(17)中包含：选自铌、钽、钼、铬中的一种或两种以上金属的第一金属氧化物、以及选自钛、钨、锌、铁中的一种或两种以上金属的第二金属氧化物。

公开(公告)号：CN103958399A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201380000830.8

申请日：2013-01-31

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 片山信英 ,  鸟谷部真法 ,  寺岛裕二 ,  木本齐 ,  吉田久次

IPC: C01B13/11

CPC classification number: C25B9/08 ,  C01B13/11 ,  C01B2201/14 ,  C01B2201/32 ,  C02F2201/782 ,  C25B1/13

Abstract: 一种包括臭氧生成单元（30A）的管型臭氧生成装置（1）。臭氧生成单元（30A）具有外侧电极管（31）、和隔着放电间隙（36）设置在外侧电极管的内侧的内侧电极管（32）。内侧电极管（32）具有介电体管（33）、和与介电体管（33）的内周面紧密接触的圆筒状电极（34）。电极（34）以可被取下的状态插入介电体管（33）中。

公开(公告)号：CN101041540A

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200710086719.1

申请日：2007-03-06

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 鸟居久伦 ,  河野孝

IPC: C02F9/14 ,  C02F1/78

CPC classification number: Y02W10/15

Abstract: 本发明涉及一种难分解性有机物处理方法。通过结合了臭氧处理和生物处理的复合处理，对含有难以进行生物处理的高分子有机物的排出液进行有效且经济的处理。对含有高分子有机化合物的被处理排出液，用臭氧处理和生物处理进行复合处理，该高分子有机化合物通过GPC法测定重均分子量Mw为1500以上、数均分子量Mn为300以上。以臭氧处理后高分子有机化合物的重均分子量Mw为1000以下、数均分子量Mn为250以下的臭氧注入量进行臭氧处理。

公开(公告)号：CN1272805C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN03800802.5

申请日：2003-06-25

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 西田宏 ,  保崎一生 ,  小卷贤治

IPC: H01B1/02 ,  C22C21/00 ,  G01C19/56

CPC classification number: C22C21/02 ,  C22C21/00 ,  C22C21/12 ,  G01C19/56

Abstract: 一种以晶粒的平均截面积在1μm2以下为特征的以Al为主体的可动电路用导电体(最适合于配设在以在电路动作中电路本身的形状进行变化为前提的可动体的电路的导电体)。该导电体优选含有原子浓度N+O：550～20000ppm，更优选含有原子浓度为Si：0.5～5.0%、Ta：0.5～5.0%及Cu：0.5～5.0%中的一种以上。特别优选含有Nd：0.5～5.0%。该可动电路用导电体最适合于振动式旋转仪的配线图案。

公开(公告)号：CN1246895C

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN02800031.5

申请日：2002-02-21

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 水川茂 ,  中田胜利 ,  松元俊二

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67706 ,  B65G49/061 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明涉及一种将基板从处理线的一方搬送至另一方且可在搬送中处理基板的升降式基板处理装置及具备其的基板处理系统。升降式基板处理装置具备：具有上下并排的基板投入口(11a)及基板排出口(11b)的壳体状盖体(11)；装于盖体内且具备收纳并支撑着从前述基板投入口(11a)搬入的基板并从前述基板排出口排出前述基板的搬送及支撑机构、支撑着该搬送及支撑机构的支撑架台(21)、及配设于该搬送及支撑机构的上方，用来向基板上喷出处理流体的处理流体喷出机构的处理机构(20)；以及支撑着前述处理机构(20)并使其上下升降，且使该处理机构(20)经过前述基板投入口(11a)及基板排出口(11b)的升降机构(40)。

公开(公告)号：CN1224083C

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN01804736.X

申请日：2001-12-07

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 下田亨志 ,  田内仁

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。