公开(公告)号：CN1906541A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200480040835.4

申请日：2004-11-22

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： B·格尔里希 ,  A·武姆布兰德 ,  J·库格勒 ,  A·舍帕赫 ,  C·詹格林 ,  S·布鲁努格赫

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/7095

Abstract: 一种物镜(1)中光学元件(5)的保持器件(6)，具有一方面与物镜(1)连接、另一方面至少间接地与光学元件(5)连接的底座(4)。在底座(4)与光学元件(5)之间设置有加固元件(8)，它的热膨胀系数大致对应于光学元件(5)的热膨胀系数。

公开(公告)号：CN1898610A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200480038897.1

申请日：2004-11-30

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： J·库格勒 ,  F·索尔格 ,  A·乌尔姆布兰德 ,  T·伊特纳 ,  T·施勒特雷尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B13/14 ,  G02B7/02 ,  G02B7/14 ,  G02B7/00

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B7/00 ,  G02B7/02 ,  G02B7/023 ,  G02B7/14 ,  G02B13/14 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825

Abstract: 一种用于光学元件更换设备，所述光学元件安装在光刻物镜(1)内的两个相邻光学元件(2)之间，所述更换设备具有用于要被更换的光学元件(2a)的托架(5)，所述托架(5)可以通过光刻物镜(1)的壳体(1a)内的侧面开口(6)移入到光刻物镜(1)内。

公开(公告)号：CN1295566C

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN03815782.9

申请日：2003-04-30

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： K·-H·舒斯特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70241 ,  G02B13/143

Abstract: 一种极高孔径的、纯折射的投影物镜被构造为具有一个物侧凸部、一个像侧凸部和位于这两个凸部之间的腰身(7)的两凸部系统。在像侧凸部内，系统光阑(5)位于像平面前的一定距离处。在腰身和系统光阑之间，在发射光线的区域内布置一个具有有效曲率的负组(LG5)，该有效曲率具有指向像平面的凹侧。该系统的特征在于数值孔径高、像差小并且结构紧凑、节约材料。

公开(公告)号：CN1653359A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810840.2

申请日：2003-03-12

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： A·格纳迈尔 ,  A·帕茨迪斯 ,  B·梅金 ,  C·扎策克 ,  D·克雷默

IPC: G02B1/02 ,  G02B5/30 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70966 ,  G02B1/02 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70566

Abstract: 一种物镜、尤其是用于微印刷投影曝光设备的投影物镜具有至少一个由氟化物晶体制成的透镜。如果这个透镜是一个具有一个透镜轴线的(100)－透镜，该轴线大约垂直于{100}－晶体面或与其等效的氟化物晶体的晶体面，则可以减小双折射的干扰影响。如果氟化物晶体透镜相对旋转地设置，对于具有至少两个氟化物晶体透镜的物镜是有利的。在此所述氟化物晶体透镜的透镜轴线除了指向 －晶体方向以外也可以指向 －或 －晶体方向。通过同时使用具有相对旋转的(100)－透镜的透镜组和具有相对旋转的(111)－透镜或(110)－透镜的透镜组可以进一步减小双折射的干扰影响。通过配置一个具有补偿涂层的光学元件可以进一步减小双折射的干扰影响。

公开(公告)号：CN1627114A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN200410100578.0

申请日：2004-11-12

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： J·劳 ,  M·马尔曼

IPC: G02B7/02 ,  G02B13/22 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7095 ,  G02B7/008 ,  G02B7/028 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70891

Abstract: 一种光学系统的法兰组件(1)，具有第一法兰(2)，补偿元件(4)以及第二法兰(2’)。法兰(2，2’)和补偿元件(4)基本轴向对称，两个法兰(2，2’)适用于以非破坏性和非正轴向可分离的方式连接到光学系统的其他元件(10，11)，两个法兰(2，2’)由具有不同线性热膨胀系数的不同材料组成，补偿元件(4)是径向软性的但在法兰的相对空间位置刚性连接两个法兰(2，2’)。

公开(公告)号：CN1620731A

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：CN02828229.9

申请日：2002-12-17

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： W·哈梅尔 ,  J·菲舍尔 ,  K·-E·奥贝勒 ,  E·默茨 ,  R·罗尔 ,  K·里夫 ,  S·舍恩加特 ,  M·诺伊迈尔 ,  B·特罗斯巴赫 ,  T·拉赛尔 ,  U·韦伯 ,  M·米尔贝耶 ,  H·霍尔德雷尔 ,  A·科尔 ,  J·韦伯 ,  J·利佩尔特

IPC: H01L41/09 ,  G02B7/02 ,  G02B7/18 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70825

Abstract: 披露的是一种用于微刻的投影曝光设备(1)的成像装置(7)，其包括至少一个光学元件(10、33、34)和至少一个操纵装置(9、36、41)，该操纵装置设置有线性驱动器(11)，用于操纵光学元件(10、33、34)的位置。该线性驱动器(11)包括驱动的部分(14)和不驱动的部分(15)，它们沿着轴线(17)朝着彼此可移动。这两个部分(14、15)至少临时地经由沿着轴线(17)可操作的功能元件(18)，以及经由在一个方向上可操作的功能元件(19)来至少近似平行于移动轴线(17)来相互连接。

公开(公告)号：CN1584536A

公开(公告)日：2005-02-23

申请号：CN200410063454.X

申请日：2004-07-05

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： U·维格曼恩 ,  M·门格尔

IPC: G01M11/02

CPC classification number: G02B5/3058 ,  G01J4/04 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/3091 ,  G02B27/4222 ,  G02B27/4255 ,  G02B27/4261 ,  G02B27/4277 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591

Abstract: 本发明涉及一种装置，涉及带有这样装置的光学成像系统和所属的校准方法，用于偏振特定地研究光学系统，特别是通过光学成像系统的光线的偏振状态影响，所述装置带有检测器部分，所述的检测器部分具有偏振检测器装置，用于测量从光学系统发出的光线(6)的出射偏振状态。一种根据本发明的装置含有偏振检测器装置，所述的偏振检测器装置含有偏振化光栅结构(4)。所述的偏振检测装置含有双折射元件(7)，用于光线角度依赖性地延迟改变从光学系统发出的光线，并且还带有一个后置的起偏振器元件(4)。作为可替代的选择，还提出一种用于快照偏振测量的装置，设有双折射元件和后置的起偏振器元件，这适用于充分地偏振化，即使是非准平行的，以非平行的入射角从双折射元件发来的光线。应用例如是确定通过显微照像投影物镜的紫外线光线的偏振状态影响。

公开(公告)号：CN1534381A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200310125191.6

申请日：2003-12-20

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： L·P·巴克 ,  R·库尔特 ,  B·M·梅坦斯 ,  M·维斯 ,  J·特伦克勒 ,  W·辛格

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B08B6/00 ,  B08B7/0035 ,  G03F7/70925

Abstract: 清洗系统，光刻投射装置的组件表面的清洗方法，光刻投射装置，器件制造方法。一种用于从光刻投射装置(1)的组件(101)的表面(104)的至少一部分上除去污染(105)的清洗系统(100)，包括：一个清洗粒子供给装置，用于在所述表面提供清洗粒子，该清洗粒子供给装置包括一个用于产生电场(107)的电场发生器(106，V)。此外，一种从光刻投射装置(1)的组件(101)的表面(104)的至少一部分上除去污染(105)的方法。该方法包括在该光刻投射装置的至少一部分产生电场；通过所述的电场(107)在该污染附近提供清洗粒子；并且通过所述的清洗粒子和所述的污染的相互作用除去所述的污染。因此，污染(105)从该表面(104)除去。

公开(公告)号：CN1525160A

公开(公告)日：2004-09-01

申请号：CN200410033011.6

申请日：2004-02-23

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： R·库尔特 ,  M·C·范贝克 ,  A·E·迪斯特温克 ,  E·R·基夫特 ,  H·梅林 ,  B·M·默滕斯 ,  J·H·J·穆尔斯 ,  L·H·J·斯蒂芬斯 ,  B·T·沃尔施里恩

IPC: G01N21/88

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/95684

Abstract: 一种用于确定光刻投影装置中元件表面污染物的测量设备。该测量设备具有用于将辐射投射到至少一部分所述表面上的辐射发射器设备和用于接收来自该元件的辐射的辐射接收器设备。处理器设备与辐射接收器设备通信连接，用于得到接收辐射的一个属性，并根据辐射的该属性得到污染物的一个属性。以及一种用于测量光刻投影装置中元件表面污染物的属性的方法，包括；将辐射投射到表面上；接收来自该元件的辐射，以及根据接收的辐射得到污染物的属性。

公开(公告)号：CN101952779A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200980105201.5

申请日：2009-02-06

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 马库斯·门格尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70566

Abstract: 本发明涉及微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法。微光刻投射曝光设备的光学系统包括具有镜布置(200)的照明装置(10)和至少一个偏振态改变装置，该镜布置(200)具有可彼此独立调整的多个镜元件(200a、200b、200c、……)，用于改变由该镜布置(200)反射的光的角度分布，偏振态改变装置例如光弹性调制器(100)。