公开(公告)号：TW201730687A

公开(公告)日：2017-09-01

申请号：TW105139829

申请日：2016-12-02

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 布林克夫 拉夫 ,  BRINKHOF, RALPH ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  葛森 邁可 羅伯特 ,  GOOSEN, MAIKEL ROBERT ,  德莫吉斯 凡氏立 ,  DEMERGIS, VASSILI ,  力吉柏斯 巴特 ,  RIJPERS, BART

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7046 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

Abstract: 本發明揭示一種使用一光學系統來量測一基板上之至少一個對準目標之位置的方法。該方法包含：藉由運用輻射來照明至少一個子分段目標且使用一或多個偵測器來偵測由該子分段目標繞射之輻射而量測該子分段目標，以獲得含有該子分段目標之位置資訊的信號。該子分段目標包含在至少一第一方向上週期性地配置之結構，該等結構中之至少一些包含較小子結構，每一子分段目標被形成為在該等結構與該等子結構之間具有為已知分量與未知分量兩者之一組合的一位置偏移。使用該等信號連同關於該子分段目標之已知偏移之間的差之資訊，以計算針對該位置偏移之該未知分量而校正的至少一個對準目標之一經量測位置。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种使用一光学系统来量测一基板上之至少一个对准目标之位置的方法。该方法包含：借由运用辐射来照明至少一个子分段目标且使用一或多个侦测器来侦测由该子分段目标绕射之辐射而量测该子分段目标，以获得含有该子分段目标之位置信息的信号。该子分段目标包含在至少一第一方向上周期性地配置之结构，该等结构中之至少一些包含较小子结构，每一子分段目标被形成为在该等结构与该等子结构之间具有为已知分量与未知分量两者之一组合的一位置偏移。使用该等信号连同关于该子分段目标之已知偏移之间的差之信息，以计算针对该位置偏移之该未知分量而校正的至少一个对准目标之一经量测位置。

公开(公告)号：TW201727382A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：TW105139192

申请日：2016-11-29

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 科爾卡 派瑞格 法那雅克 ,  KELKAR, PARAG VINAYAK

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B27/283 ,  G02B27/142 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70633

Abstract: 本發明揭示一種方法，其包括：將一輻射光束分裂成具有一第一偏振的該光束之一第一部分及具有一第二偏振的該光束之一第二部分；形成具有在該第一偏振與該第二偏振之間之一第一偏振分佈及/或藉由調變該光束之該第一部分而形成具有一第一強度分佈之一第一光束；形成具有在該第一偏振與該第二偏振之間之一第二偏振分佈及/或藉由調變該光束之該第二部分而形成具有一第二強度分佈之一第二光束；及組合具有該第二偏振之該第一光束之至少一部分與具有該第一偏振之該第二光束之至少一部分。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种方法，其包括：将一辐射光束分裂成具有一第一偏振的该光束之一第一部分及具有一第二偏振的该光束之一第二部分；形成具有在该第一偏振与该第二偏振之间之一第一偏振分布及/或借由调制该光束之该第一部分而形成具有一第一强度分布之一第一光束；形成具有在该第一偏振与该第二偏振之间之一第二偏振分布及/或借由调制该光束之该第二部分而形成具有一第二强度分布之一第二光束；及组合具有该第二偏振之该第一光束之至少一部分与具有该第一偏振之该第二光束之至少一部分。

公开(公告)号：TWI587102B

公开(公告)日：2017-06-11

申请号：TW104123449

申请日：2015-07-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  克魯瑟 賈斯汀 洛依德 ,  KREUZER, JUSTIN LLOYD ,  提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 ,  TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7069

公开(公告)号：TWI585894B

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：TW104114310

申请日：2015-05-05

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  度沙 米爾西亞 ,  DUSA, MIRCEA ,  波伊茲 湯瑪士 ,  POIESZ, THOMAS ,  迪 庫魯夫 尼克 伊勞特 ,  DE KRUIJF, NIEK ELOUT ,  豪班 馬提恩 ,  HOUBEN, MARTIJN ,  慕德 裘漢斯 吉拉德斯 馬麗亞 ,  MULDER, JOHANNES GERARDUS MARIA ,  凡 丹 休維爾 馬可 安卓亞那斯 彼得 ,  VAN DEN HEUVEL, MARCO ADRIANUS PETER ,  傑利森 賈斯汀 裘漢斯 赫馬努斯 ,  GERRITZEN, JUSTIN JOHANNES HERMANUS ,  夫威傑 安東尼 亨佐克 ,  VERWEIJ, ANTONIE HENDRIK ,  索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 ,  SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER ,  凡東京 保羅 ,  VAN DONGEN, PAUL

IPC: H01L21/683 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6838

公开(公告)号：TW201702761A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105118977

申请日：2016-06-16

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 黎昂斯 喬瑟夫 哈利 ,  LYONS, JOSEPH HARRY ,  溫古雷亞努 尼古拉 馬利安 ,  UNGUREANU, NICOLAE MARIAN ,  詹姆士 漢米頓 華許 ,  WALSH, JAMES HAMILTON ,  林內 馬丁諾斯 康奈利斯 ,  REIJNEN, MARTINUS CORNELIS ,  勒馬克 艾立可 喬漢 ,  ARLEMARK, ERIK JOHAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G01B13/12 ,  G03F9/7057

Abstract: 諸如一微影設備之一設備具有一度量衡框架，該度量衡框架具有安裝於其上之包含一參考表面的一參考框架。一氣體量規可相對於該參考框架、該度量衡框架及一經量測表面而移動。該氣體量規中之一參考噴嘴將氣體提供至該參考表面，且一量測噴嘴將氣體提供至該經量測表面。可搭配該氣體量規使用一MEMs感測器以感測來自該參考噴嘴及該量測噴嘴中之每一者的反壓之一差。視情況，多個氣體量規係以可在實質上平行於該經量測表面之一平面之一方向上延伸的一陣列之形式而定位。該等量規可以流體方式連接至該氣體量規之一參考噴嘴。一通道可橫越該陣列來分配氣體。

Abstract in simplified Chinese: 诸如一微影设备之一设备具有一度量衡框架，该度量衡框架具有安装于其上之包含一参考表面的一参考框架。一气体量规可相对于该参考框架、该度量衡框架及一经量测表面而移动。该气体量规中之一参考喷嘴将气体提供至该参考表面，且一量测喷嘴将气体提供至该经量测表面。可搭配该气体量规使用一MEMs传感器以传感来自该参考喷嘴及该量测喷嘴中之每一者的反压之一差。视情况，多个气体量规系以可在实质上平行于该经量测表面之一平面之一方向上延伸的一数组之形式而定位。该等量规可以流体方式连接至该气体量规之一参考喷嘴。一信道可横越该数组来分配气体。

公开(公告)号：TW201635042A

公开(公告)日：2016-10-01

申请号：TW104143226

申请日：2015-12-22

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 考齊斯博革 彼德 ,  KOCHERSPERGER, PETER ,  拉米瑞茲 大衛 ,  RAMIREZ, DAVID

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70866

Abstract: 一種微影設備在一圖案化裝置與一圖案化裝置遮蔽葉片之間噴射氣體，以幫助保護該圖案化裝置免受污染。該氣體可藉由經配置於該圖案化裝置之至少一側上的一或多個氣體供應噴嘴噴射至界定於該圖案化裝置與該圖案化裝置葉片之間的空間中。該一或多個氣體供應噴嘴耦接至一框架，支撐結構相對於該框架移動。每一噴嘴可經建構並配置以在該反射圖案化裝置之至少該圖案化區上方供應氣體。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备在一图案化设备与一图案化设备屏蔽叶片之间喷射气体，以帮助保护该图案化设备免受污染。该气体可借由经配置于该图案化设备之至少一侧上的一或多个气体供应喷嘴喷射至界定于该图案化设备与该图案化设备叶片之间的空间中。该一或多个气体供应喷嘴耦接至一框架，支撑结构相对于该框架移动。每一喷嘴可经建构并配置以在该反射图案化设备之至少该图案化区上方供应气体。

公开(公告)号：TW201610615A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：TW104123449

申请日：2015-07-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  克魯瑟 賈斯汀 洛依德 ,  KREUZER, JUSTIN LLOYD ,  提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 ,  TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7069

Abstract: 一種用於微影裝置之對準感測器，其經配置及建構以量測微影裝置之可移動部件相對於該微影裝置之靜止部件的對準。對準感測器包含：光源，其經組態以產生處於光學波長及脈衝重複頻率之脈衝串；非線性光學元件，其配置於脈衝串之光學傳播路徑中，非線性光學元件經組態以將處於光學波長之脈衝串變換成在光學波長範圍內之經變換脈衝串；光學成像系統，其經組態以將經變換脈衝串投影至包含繞射光柵之對準標記上；偵測器，其用以偵測如由繞射光柵繞射之繞射圖案；及資料處理器件，其經組態以自如由偵測器偵測之經偵測繞射圖案導出對準資料。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于微影设备之对准传感器，其经配置及建构以量测微影设备之可移动部件相对于该微影设备之静止部件的对准。对准传感器包含：光源，其经组态以产生处于光学波长及脉冲重复频率之脉冲串；非线性光学组件，其配置于脉冲串之光学传播路径中，非线性光学组件经组态以将处于光学波长之脉冲串变换成在光学波长范围内之经变换脉冲串；光学成像系统，其经组态以将经变换脉冲串投影至包含绕射光栅之对准标记上；侦测器，其用以侦测如由绕射光栅绕射之绕射图案；及数据处理器件，其经组态以自如由侦测器侦测之经侦测绕射图案导出对准数据。

公开(公告)号：TWI488008B

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：TW099107675

申请日：2010-03-16

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 強森 理查 約翰 ,  JOHNSON, RICHARD JOHN ,  凡 丹 慕蘭 佛利茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  韋斯特伯 艾瑞克 伯納德 ,  WESTPHAL, ERIC BERNARD ,  希斯頓 傑瑞米 克雷斯 ,  HEASTON, JEREMY REX

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70741 ,  H01L21/67 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67745 ,  Y10S901/45

公开(公告)号：TWI485394B

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：TW099114710

申请日：2010-05-07

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 丹 伯夫 艾瑞 傑佛瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  瓦拉狄米斯基 由利 ,  VLADIMIRSKY, YULI ,  薛瑪 葉伊慈 康斯坦那屈 ,  SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH ,  史卡巴羅茲 路奇 ,  SCACCABAROZZI, LUIGI ,  薩瑞德森 羅伯特 艾伯特 ,  THARALDSEN, ROBERT ALBERT ,  傑克伯斯 理查 大衛 ,  JACOBS, RICHARD DAVID

IPC: G01N21/94 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/84 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95676 ,  G03H1/0443 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2001/0447 ,  G03H2001/0456 ,  G03H2001/0458 ,  G03H2222/43 ,  G03H2223/12 ,  G03H2223/55

公开(公告)号：TW201435518A

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：TW103105692

申请日：2014-02-20

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 賽伯斯 科恩 ,  CUYPERS, KOEN ,  迪 安得烈 歐力拉 瑪切洛 亨利克 ,  DE ANDRADE OLIVEIRA, MARCELO HENRIQUE ,  瑞米 瑪里努斯 珍 ,  REMIE, MARINUS JAN ,  席恩 查泰博 ,  SINGH, CHATTARBIR ,  凡 柏克哈文 羅倫堤斯 約翰納斯 安卓那斯 ,  VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS ,  范 戴 凡 亨利可思 安妮塔 橋瑟夫 威西莫司 ,  VAN DE VEN, HENRICUS ANITA JOZEF WILHEMUS ,  風賽卡 裘尼爾 荷西 倪爾頓 ,  FONSECA JUNIOR, JOSE NILTON ,  凡 波克特 法蘭克 喬漢斯 賈柏斯 ,  VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS ,  波本克 丹尼爾 奈森 ,  BURBANK, DANIEL NATHAN ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  昂夫里 喬漢斯 ,  ONVLEE, JOHANNES ,  史雀司特 馬克 喬瑟夫 ,  SCHUSTER, MARK JOSEF ,  范 巴利高伊 羅博特 尼可丹 賈庫巴 ,  VAN BALLEGOIJ, ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS ,  華德 克里斯多弗 查爾斯 ,  WARD, CHRISTOPHER CHARLES ,  威斯特雷肯 禎 史蒂芬 克里斯丁 ,  WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70866

Abstract: 本發明揭示一種用於藉由控制圍繞一微影裝置之一圖案化器件之氣流來縮減疊對誤差的系統。該微影裝置包括一照明系統，該照明系統經組態以調節一輻射光束。該微影裝置進一步包括一可移動載台，該可移動載台包含一支撐結構，該支撐結構可經組態以支撐一圖案化器件。該圖案化器件可經組態以在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束。另外，該微影裝置包含一板，該板定位於該可移動載台與投影系統之間。該板包括一開口，該開口包含一第一側壁及一第二側壁。該板可經組態以在該可移動載台與該投影系統之間的一區中提供一氣體流型，該氣體流型實質上垂直於該照明系統之一光軸。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于借由控制围绕一微影设备之一图案化器件之气流来缩减叠对误差的系统。该微影设备包括一照明系统，该照明系统经组态以调节一辐射光束。该微影设备进一步包括一可移动载台，该可移动载台包含一支撑结构，该支撑结构可经组态以支撑一图案化器件。该图案化器件可经组态以在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。另外，该微影设备包含一板，该板定位于该可移动载台与投影系统之间。该板包括一开口，该开口包含一第一侧壁及一第二侧壁。该板可经组态以在该可移动载台与该投影系统之间的一区中提供一气体流型，该气体流型实质上垂直于该照明系统之一光轴。