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公开(公告)号：TW201734650A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105143104
申请日：2016-12-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 , BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES , 奈其巴格魯 葛尼斯 , NAKIBOGLU, GUNES , 凡 尚默任 丹 丹尼爾 喬納斯 安東尼斯 , VAN SOMMEREN, DAAN DANIEL JOHANNES ANTONIUS , 瑞斯朋 吉斯博特 , RISPENS, GIJSBERT , 貝克斯 喬漢 法蘭西斯柯斯 瑪利亞 , BECKERS, JOHAN FRANCISCUS MARIA , 雷肯斯 希爾多 喬漢斯 安東尼爾斯 , RENCKENS, THEODORUS JOHANNES ANTONIUS
IPC: G03F7/16 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/3105
CPC classification number: G03F7/2028 , G03F7/168
Abstract: 本發明提供一種處理一基板之方法，其包含：使一基板在該基板之一表面上具備一感光性材料層；及自該感光性材料層之一外部邊緣周圍移除感光性材料，且控制該移除以便在保持於該基板之該表面上的該感光性材料層周圍產生具有一徑向寬度之一邊緣，其中該感光性材料之厚度變化，從而形成橫越該徑向寬度之一厚度剖面，且該移除經控制以便產生沿著該邊緣之長度之該厚度剖面的變化，及/或其中該移除經控制以便在保持於該基板之該表面上的該感光性材料層周圍產生一粗糙邊緣。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种处理一基板之方法，其包含：使一基板在该基板之一表面上具备一感光性材料层；及自该感光性材料层之一外部边缘周围移除感光性材料，且控制该移除以便在保持于该基板之该表面上的该感光性材料层周围产生具有一径向宽度之一边缘，其中该感光性材料之厚度变化，从而形成横越该径向宽度之一厚度剖面，且该移除经控制以便产生沿着该边缘之长度之该厚度剖面的变化，及/或其中该移除经控制以便在保持于该基板之该表面上的该感光性材料层周围产生一粗糙边缘。
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公开(公告)号：TWI599854B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW102127865
申请日：2013-08-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 明納特 阿瑟 威夫利德 愛達斯 , MINNAERT, ARTHUR WINFRIED EDUARDUS , 慕捷斯 馬歇爾 喬翰思 伊莉莎白 賀伯特 , MUITJENS, MARCEL JOHANNUS ELISABETH HUBERTUS , 亞庫寧 安卓 米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 史卡巴羅茲 路奇 , SCACCABAROZZI, LUIGI , 瑪門 韓斯 橋治 , MALLMANN, HANS JOERG , 貝爾 柯爾薩特 , BAL, KURSAT , 魯吉坦 卡羅 康妮斯 瑪里亞 , LUIJTEN, CARLO CORNELIS MARIA , 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 胡奇波茲 艾利珊卓 茉莉納司 雅諾得司 , HUIJBERTS, ALEXANDER MARINUS ARNOLDUS , 賈瑟林 寶拉司 雅伯特司 瑪麗亞 , GASSELING, PAULUS ALBERTUS MARIA , 李左 狄雅歌 佩卓 珠麗安 , RIZO DIAGO, PEDRO JULIAN , 凡 卡姆潘 馬騰 , VAN KAMPEN, MAARTEN , 凡 雅羅 尼可拉司 亞狄岡鐸 珍 瑪麗亞 , VAN AERLE, NICOLAAS ALDEGONDA JAN MARIA
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70575 , G21K1/10
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公开(公告)号：TW201732265A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141781
申请日：2016-12-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 鄒 葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
CPC classification number: G02B7/285 , G01N21/4795 , G02B7/32 , G02B21/247
Abstract: 本發明提供一種用於一散射計或其他光學系統之對焦監測配置(1000)。一第一對焦感測器(510)提供指示相對於一第一參考距離(z1)之對焦之一第一對焦信號(S1-S2)。一第二對焦感測器(1510)用於提供指示相對於一第二參考距離(z2)之對焦之一第二對焦信號(C1-C2)。一處理器(1530)藉由組合該第一對焦信號與該第二對焦信號來計算一第三對焦信號。藉由改變該第一對焦信號與該第二對焦信號之比例來計算該第三對焦信號，可在不移動元件的情況下以電子方式使一有效對焦偏移變化。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于一散射计或其他光学系统之对焦监测配置(1000)。一第一对焦传感器(510)提供指示相对于一第一参考距离(z1)之对焦之一第一对焦信号(S1-S2)。一第二对焦传感器(1510)用于提供指示相对于一第二参考距离(z2)之对焦之一第二对焦信号(C1-C2)。一处理器(1530)借由组合该第一对焦信号与该第二对焦信号来计算一第三对焦信号。借由改变该第一对焦信号与该第二对焦信号之比例来计算该第三对焦信号，可在不移动组件的情况下以电子方式使一有效对焦偏移变化。
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公开(公告)号：TWI596447B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105111907
申请日：2016-04-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 奈其巴格魯 葛尼斯 , 霍爾查思特 馬汀 , HOLTRUST, MAARTEN , 凡 度吉哈維 馬丁納斯 , VAN DUIJNHOVEN, MARTINUS , 法尼 法蘭西斯 , FAHRNI, FRANCIS , 凡 波克特 法蘭克 喬漢斯 賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 奎斯特 安妮 威廉密俊 博丁寧 , QUIST, ANNE WILLEMIJN BERTINE , 帕休斯 巴特 迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡 尚默任 丹 丹尼爾 喬納斯 安東尼斯 , VAN SOMMEREN, DAAN DANIEL JOHANNES ANTONIUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/709
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公开(公告)号：TWI596437B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW101117125
申请日：2012-05-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 塞克漢諾夫 魯斯蘭 阿克曼多芬奇 , SEPKHANOV, RUSLAN AKHMEDOVICH
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/706 , G03F7/70308
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI596422B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW103105512
申请日：2014-02-19
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 劉曉峰 , LIU, XIAOFENG , 何威爾 羅福C , HOWELL, RAFAEL C.
CPC classification number: G03F7/2008 , G03F7/70116 , G03F7/70125 , G03F7/705 , G03F7/70508
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公开(公告)号：TWI596384B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW102100763
申请日：2013-01-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 亞庫寧 安卓 米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 莫斯 喬漢斯 哈博特 喬瑟菲那 , MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 微哈珍 馬提那斯 康納斯 瑪利亞 , VERHAGEN, MARTINUS CORNELIS MARIA , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 可瑞森 法狄米爾 米哈囉維茲 , KRIVTSUN, VLADIMIR MIHAILOVITCH , 史溫克斯 格爾達斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA , 瑞潘 米歇爾 , RIEPEN, MICHEL , 史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 , SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS , 梅德維得維 維爾契司拉維 , MEDVEDEV, VIACHESLAV
CPC classification number: G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70191 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G21K1/067 , G21K2201/064 , H05G2/008
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公开(公告)号：TW201727385A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106100486
申请日：2015-01-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 奈其巴格魯 葛尼斯 , 凡 巴倫 馬堤恩 , VAN BAREN, MARTIJN , 凡 波克特 法蘭克 喬漢斯 賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 賽伯斯 科恩 , CUYPERS, KOEN , 勾森 傑若恩 杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 凡 柏克哈文 羅倫堤斯 約翰納斯 安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70858 , G03F7/70358 , G03F7/70716 , G03F7/70908
Abstract: 本發明提供一種包含一障壁系統之微影裝置，及使用如所描述之微影裝置中之任一者之器件製造方法。該障壁系統用以維持一障壁內的氣體之一受保護體積。可在該微影裝置之不同組件相對於彼此而移動時維持該受保護體積。該障壁系統可用於該微影裝置內之不同部位中。該障壁之幾何形狀影響該受保護體積被維持之效率的程度，尤其是在高速度下。本發明之幾何形狀縮減自該障壁外部進入該受保護體積之環境氣體之量。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种包含一障壁系统之微影设备，及使用如所描述之微影设备中之任一者之器件制造方法。该障壁系统用以维持一障壁内的气体之一受保护体积。可在该微影设备之不同组件相对于彼此而移动时维持该受保护体积。该障壁系统可用于该微影设备内之不同部位中。该障壁之几何形状影响该受保护体积被维持之效率的程度，尤其是在高速度下。本发明之几何形状缩减自该障壁外部进入该受保护体积之环境气体之量。
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公开(公告)号：TWI591448B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW104142816
申请日：2015-12-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 福克斯 安迪亞司 , FUCHS, ANDREAS , 沃爾登尼爾 彼得 韓森 , WARDENIER, PETER HANZEN , 席恩 阿曼帝 , SINGH, AMANDEV , 德歐方守 麥可西姆 , D'ALFONSO, MAXIME , 博斯 希爾寇 德克 , BOS, HILKO DIRK
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G06T7/0004 , G03F7/70633 , G03F7/70941 , G06T7/11 , G06T2207/30148
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公开(公告)号：TWI589854B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105103330
申请日：2016-02-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH
CPC classification number: G01N21/4788 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G03F7/70941
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