公开(公告)号：TW201702757A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105116008

申请日：2016-05-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 端孚 ,  HSU, DUAN-FU STEPHEN ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C. ,  賈建軍 ,  JIA, JIANJUN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/705 ,  G03F7/70125 ,  G06F17/5036 ,  G06F2217/12

Abstract: 本文中揭示一種電腦實施方法，其包括：判定由一微影投影裝置沿著一或多個方向之一第一群組傳播的一第一輻射部分形成的一第一部分影像；判定由該微影投影裝置沿著一或多個方向之一第二群組傳播的一第二輻射部分形成的一第二部分影像；藉由使該第一部分影像與該第二部分影像非相干地相加來判定一影像；其中一或多個方向之該第一群組與一或多個方向之該第二群組不同。

Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种电脑实施方法，其包括：判定由一微影投影设备沿着一或多个方向之一第一群组传播的一第一辐射部分形成的一第一部分影像；判定由该微影投影设备沿着一或多个方向之一第二群组传播的一第二辐射部分形成的一第二部分影像；借由使该第一部分影像与该第二部分影像非相干地相加来判定一影像；其中一或多个方向之该第一群组与一或多个方向之该第二群组不同。

公开(公告)号：TWI596422B

公开(公告)日：2017-08-21

申请号：TW103105512

申请日：2014-02-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G03F1/36 ,  G06F17/50

CPC classification number: G03F7/2008 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508

公开(公告)号：TWI519902B

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：TW102117935

申请日：2013-05-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5068 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705

公开(公告)号：TW201437737A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：TW103105512

申请日：2014-02-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G03F1/36 ,  G06F17/50

CPC classification number: G03F7/2008 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508

Abstract: 本文中揭示一種用於改良用於使用一微影投影裝置將一設計佈局之一部分成像至一基板上之一微影處理程序的電腦實施方法，該方法包含：提供一所要光瞳剖面；基於該所要光瞳剖面演算一離散光瞳剖面；選擇對該離散光瞳剖面之一離散改變；及將該選定離散改變應用於該離散光瞳剖面。根據本文所揭示之各種實施例之方法可將離散最佳化之計算成本自O(an)縮減至O(n)，其中a為常數且n為可產生該光瞳剖面中之離散改變的旋鈕之數目。

Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种用于改良用于使用一微影投影设备将一设计布局之一部分成像至一基板上之一微影处理进程的电脑实施方法，该方法包含：提供一所要光瞳剖面；基于该所要光瞳剖面演算一离散光瞳剖面；选择对该离散光瞳剖面之一离散改变；及将该选定离散改变应用于该离散光瞳剖面。根据本文所揭示之各种实施例之方法可将离散最优化之计算成本自O(an)缩减至O(n)，其中a为常数且n为可产生该光瞳剖面中之离散改变的旋钮之数目。

公开(公告)号：TWI424285B

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：TW100140773

申请日：2011-11-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 敦福 史帝芬 ,  HSU, DUAN-FU STEPHEN ,  陳洛祁 ,  CHEN, LUOQI ,  馮漢鷹 ,  FENG, HANYING ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C. ,  周新建 ,  ZHOU, XINJIAN ,  陳逸帆 ,  CHEN, YI FAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70066 ,  G03F7/705

公开(公告)号：TWI620034B

公开(公告)日：2018-04-01

申请号：TW105116008

申请日：2016-05-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 端孚 ,  HSU, DUAN-FU STEPHEN ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C. ,  賈建軍 ,  JIA, JIANJUN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/705 ,  G03F7/70125 ,  G06F17/5036 ,  G06F2217/12

公开(公告)号：TW201405252A

公开(公告)日：2014-02-01

申请号：TW102117935

申请日：2013-05-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5068 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705

Abstract: 本文描述一種用於一微影程序之方法，該微影程序用於使用一微影成像裝置將一設計佈局之一部分成像至一基板上，該微影程序具有複數個設計變數，該方法包含：相對於該等設計變數中至少一者來演算該微影程序之複數個評估點或圖案中每一者之一梯度；及基於該梯度自該複數個評估點或圖案選擇一評估點子集。

Abstract in simplified Chinese: 本文描述一种用于一微影进程之方法，该微影进程用于使用一微影成像设备将一设计布局之一部分成像至一基板上，该微影进程具有复数个设计变量，该方法包含：相对于该等设计变量中至少一者来演算该微影进程之复数个评估点或图案中每一者之一梯度；及基于该梯度自该复数个评估点或图案选择一评估点子集。

公开(公告)号：TWI624765B

公开(公告)日：2018-05-21

申请号：TW104105138

申请日：2015-02-13

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 端孚 ,  HSU, DUAN-FU STEPHEN ,  劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

公开(公告)号：TWI615684B

公开(公告)日：2018-02-21

申请号：TW103133629

申请日：2014-09-26

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 敦福 ,  HSU, DUAN-FU ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C. ,  劉風亮 ,  LIU, FENG-LIANG

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/705

公开(公告)号：TW201539226A

公开(公告)日：2015-10-16

申请号：TW104105138

申请日：2015-02-13

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 徐 端孚 ,  HSU, DUAN-FU STEPHEN ,  劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70558

Abstract: 本文中揭示一種用以改良一微影程序之電腦實施方法，該微影程序用於使用一微影投影裝置而將一設計佈局之一部分成像至一基板上，該微影投影裝置包含一照明源及投影光學件，該方法包含：獲得一源形狀及一光罩散焦值；最佳化該微影程序之一劑量；針對該照明源之複數個隙縫位置中之每一者來最佳化該設計佈局之該部分。

Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种用以改良一微影进程之电脑实施方法，该微影进程用于使用一微影投影设备而将一设计布局之一部分成像至一基板上，该微影投影设备包含一照明源及投影光学件，该方法包含：获得一源形状及一光罩散焦值；最优化该微影进程之一剂量；针对该照明源之复数个隙缝位置中之每一者来最优化该设计布局之该部分。