公开(公告)号：CN110100301A

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201780077239.0

申请日：2017-10-04

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 福本靖博 ,  大木孝文 ,  松尾友宏 ,  浅井正也 ,  春本将彦 ,  田中裕二 ,  中山知佐世

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明的曝光装置(100)具备投光部(160)、照度计(183)、遮光部(190)、投光控制部(12)。通过投光部向衬底(W)的被处理面照射真空紫外线。在从投光部向衬底照射真空紫外线的照射期间，通过照度计接收一部分真空紫外线，并计测所接收到的真空紫外线的照度。在照射期间，通过遮光部断断续续地遮挡真空紫外线向照度计的受光面的入射。基于通过照度计所计测出的照度，使投光部停止向衬底照射真空紫外线。

公开(公告)号：CN108535966A

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201810163638.5

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 松尾友宏 ,  福本靖博 ,  大木孝文 ,  浅井正也 ,  春本将彦 ,  田中裕二 ,  中山知佐世

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法。通过吸引装置将收纳有基板的处理室内的环境气体排出。在处理室内的氧浓度下降至预先设定的曝光开始浓度的时刻，通过光源部开始向基板照射真空紫外线。在向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。基于测量的照度计算基板的曝光量，在曝光量上升至预先设定的设定曝光量的时刻，停止向基板照射真空紫外线。曝光开始浓度被预先设定为，高于1％且低于大气中的氧浓度，使得通过真空紫外线的照射而从氧原子生成的臭氧不会损伤基板的被处理面的膜。

公开(公告)号：CN108428625A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201810095258.2

申请日：2018-01-31

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 福本靖博 ,  田中裕二 ,  松尾友宏 ,  石井丈晴

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/67098

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，处理涂覆有定向自组装材料的基板，该基板处理方法具备加热工序和冷却工序。加热工序将处理容器内保持为非氧化性气体环境，并且使基板位于加热位置，从而加热基板以使定向自组装材料相分离。冷却工序将处理容器内保持为非氧化性气体环境，使基板位于与加热位置相比离加热部远的处理容器内的冷却位置，向处理容器内供给非氧化性气体，并且排出处理容器内的气体，从而冷却基板。

公开(公告)号：CN108428624A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201711475467.1

申请日：2017-12-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中裕二 ,  中山知佐世 ,  春本将彦 ,  浅井正也 ,  福本靖博 ,  松尾友宏 ,  石井丈晴

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/56 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，将形成有处理膜的基板载置于热处理腔室内的热处理空间中来进行热处理，所述方法包括：排气步骤，排出所述热处理空间内的气体；非活性气体供给步骤，对所述热处理空间供给非活性气体；以及热处理步骤，对所述热处理空间中的基板进行热处理。

公开(公告)号：CN108352313A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680065775.4

申请日：2016-10-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中裕二 ,  浅井正也 ,  春本将彦 ,  金山幸司

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 一边由旋转卡盘保持基板一边旋转基板，向基板喷出涂敷液。从基板向外侧飞散的涂敷液由外杯接收。为了清洗外杯，从杯清洗喷嘴喷出的清洗液通过第一引导部向外杯的内周面喷出。由此，使附着于外杯的涂敷液及其固化物等溶解，并从外杯去除。接着，从杯清洗喷嘴喷出的金属用去除液通过第二引导部向外杯的内周面喷出。由此，使残留于外杯的金属成分溶解，并从外杯去除。

公开(公告)号：CN108352302A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680065516.1

申请日：2016-10-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中裕二 ,  浅井正也 ,  春本将彦 ,  金山幸司

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/304

CPC classification number: B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 在待机座的喷嘴容纳孔容纳有喷嘴。在该状态下，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出清洗液。由此，附着于喷嘴的涂敷液及其固化物等被溶解，从喷嘴除去。接着，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出金属用除去液。由此，残存于喷嘴的金属成分被溶解，从喷嘴除去。进而，从多个喷出口向喷嘴的外周面喷出纯水，从而冲洗附着于喷嘴的金属用除去液。