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公开(公告)号：CN104342045B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410312324.9
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/10 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN103194152B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210545119.8
申请日：2012-12-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J183/04 , C09J133/00 , B32B7/12 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。
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公开(公告)号：CN104342045A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410312324.9
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/10 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN117965109A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410203244.3
申请日：2016-09-27
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/40 , C09J7/25 , C09J7/30 , C09J133/08 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且具有不经时劣化的优异的剥离抗静电性能，使用时易剥离剥离片。本发明提供的抗静电表面保护膜，通过在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一面上形成粘着剂层(2)，在粘着剂层(2)的表面上贴合剥离片(5)而形成，其中，剥离片(5)通过在基材(3)的一面上具有剥离剂层(4)而形成，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂的树脂组合物而形成。
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公开(公告)号：CN111196909B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN201911113004.X
申请日：2019-11-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/29 , C09J7/40 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J133/14 , C09J133/24 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜对光学用膜的翘曲的抑制效果高，且贴合有表面保护膜的光学用膜的处理性能得以提升，并且在使用后易剥离去除，其在出货时等无需进行重贴或擦拭污渍。表面保护膜(P)依次层叠有第一透明膜(1)、第一粘着剂层(2)、第二透明膜(3)及第二粘着剂层(4)。第一粘着剂层(2)在23℃下的储能模量为1.0×104Pa以上且小于8.0×104Pa，且第一粘着剂层(2)对玻璃的粘着力为5N/25mm以下。
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公开(公告)号：CN115612421A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210818145.7
申请日：2022-07-12
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜和光学部件，表面保护膜具备基材膜、粘接剂层和剥离膜。所述剥离膜具备树脂膜和剥离剂层，所述剥离剂层层叠于所述树脂膜的所述粘接剂层一侧的面。所述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂、和抗静电剂。所述粘接剂层由含有(甲基)丙烯酸酯共聚物、硅氧烷类表面活性剂、氟类表面活性剂和交联剂的粘接剂形成。所述交联剂使所述(甲基)丙烯酸酯共聚物交联。所述粘接剂中的所述硅氧烷类表面活性剂与所述氟类表面活性剂的添加比率(硅氧烷类表面活性剂/氟类表面活性剂)为以固体成分换算计的质量比20/80～90/10。
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公开(公告)号：CN115612420A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210817383.6
申请日：2022-07-12
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜和光学部件，表面保护膜具备基材膜、粘接剂层和剥离膜。所述粘接剂层由含有(甲基)丙烯酸酯共聚物、抗静电剂、硅氧烷类表面活性剂、氟类表面活性剂和交联剂的粘接剂形成。所述交联剂使所述(甲基)丙烯酸酯共聚物交联。所述粘接剂中的所述硅氧烷类表面活性剂与所述氟类表面活性剂的添加比率(硅氧烷类表面活性剂/氟类表面活性剂)为以固体成分换算计的质量比20/80～90/10。
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公开(公告)号：CN106189892B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201510349771.6
申请日：2015-06-23
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/20 , C09J7/25 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06
Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜，该透明导电性膜用表面保护膜的粘接剂层维持表面的平滑性，即使贴合到透明导电性膜上也具有优异的处理性，在透明导电性膜的制造、加工工艺中，起因于表面保护膜的外观的缺陷不良得到改善，且在触控面板用透明电极制造工艺中的生产率良好。一种透明导电性膜用表面保护膜5，其贴合到在一个表面上形成有透明导电膜的树脂膜的另一个表面上来使用，在基材膜1的单面上具有使用含有异氰酸酯系交联剂和交联催化剂的丙烯酸类粘接剂而层叠的粘接剂层2，所述粘接剂层在30℃下的储能模量为4.0×105Pa以上，且所述粘接剂层的干燥开始15分钟后的所述粘接剂层的反应率K为75％以上。
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公开(公告)号：CN106010324B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201610089997.1
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J7/40 , C09J133/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜可对表面具有凹凸的光学用膜使用，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，形成粘结剂层(2)，该粘结剂层(2)含有作为抗静电剂的离子化合物，在粘结剂层(2)上贴合有具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，所述剥离剂层(4)由碱金属盐及有机硅类剥离剂构成，碱金属盐成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
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