금속-절연물-금속 구조의 케패시터를 포함하는 반도체장치의 제조방법
    41.
    发明公开
    금속-절연물-금속 구조의 케패시터를 포함하는 반도체장치의 제조방법 无效
    用于制造包括MIM电容器的半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR1020040075374A

    公开(公告)日:2004-08-30

    申请号:KR1020030010816

    申请日:2003-02-20

    Inventor: 강성우 임충호

    Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a semiconductor device including a MIM capacitor is provided to minimize processing errors by improving a photo focus margin due to reduction of a design rule. CONSTITUTION: The first capacitor metal pattern(102a) and a wiring metal pattern(102b) are formed on a substrate(100). A dielectric layer is formed on the substrate, the first capacitor metal pattern, and the wiring metal pattern. A dielectric layer pattern(104a) is formed on the upper surface and a lateral part of the first capacitor metal pattern by etching partially the dielectric layer. A metal layer is formed on the substrate including the dielectric layer pattern. The second capacitor metal pattern(108a) is formed on the upper surface of the dielectric layer pattern by etching partially the metal layer.

    Abstract translation: 目的:提供一种制造包括MIM电容器的半导体器件的方法,以通过减少设计规则来改善照相焦距来最小化处理误差。 构成:在基板(100)上形成第一电容器金属图案(102a)和布线金属图案(102b)。 在基板,第一电容器金属图案和布线金属图案上形成介电层。 通过部分地蚀刻电介质层,在第一电容器金属图案的上表面和横向部分上形成电介质层图案(104a)。 在包括电介质层图案的基板上形成金属层。 第二电容器金属图案(108a)通过部分地蚀刻金属层而形成在电介质层图案的上表面上。

    하드 디스크 드라이브
    42.
    发明授权
    하드 디스크 드라이브 失效
    하드디스크드라이브

    公开(公告)号:KR100413759B1

    公开(公告)日:2003-12-31

    申请号:KR1020010025572

    申请日:2001-05-10

    CPC classification number: G11B5/6005 G11B21/21

    Abstract: A hard disk drive that includes a wave stringer. The wave stringer can attenuate energy which propagates through a base plate of the disk drive. The wave stringer may be designed by initially analyzing propagation patterns of both acoustic and shock waves applied to the drive. The wave stringer is then designed, constructed and assembled to the disk drive to attenuate critical frequencies at weak points of the disk drive. The wave stringer may have a plurality of ribs designed to vary the mechanical impedance of the drive to attenuate the propagated energy.

    Abstract translation: 包含wave stringer的硬盘驱动器。 波纵梁可以衰减传播通过磁盘驱动器底板的能量。 可以通过初始分析施加到驱动器的声波和冲击波的传播模式来设计波纵梁。 然后将波形纵梁设计,构造并组装到磁盘驱动器,以衰减磁盘驱动器弱点处的临界频率。 波纵梁可具有多个设计成改变驱动器的机械阻抗以减弱传播能量的肋。

    반도체 소자의 미세 콘택 홀 형성방법
    43.
    发明公开
    반도체 소자의 미세 콘택 홀 형성방법 无效
    形成半导体器件精细接触孔的方法

    公开(公告)号:KR1020020036255A

    公开(公告)日:2002-05-16

    申请号:KR1020000066351

    申请日:2000-11-09

    Inventor: 강성우

    Abstract: PURPOSE: A fine contact hole formation method of semiconductor devices is provided to minimize a line-width of fine contact hole by using two-step dry-etching processes. CONSTITUTION: After forming an insulating layer on the semiconductor substrate, a photoresist pattern is coated on the insulating layer to define a contact hole formation region(200). Then, a fine contact hole having a sloped sidewalls is formed by two-step dry-etching(210). That is, the insulating layer is firstly etched by using mixed gases of CF4 and CO under a high pressure of 50-200 mTorr more than(210a), and secondly etched by using mixed gases of C4F8, Ar and O2 under a lower pressure of 20-50 mTorr less than(210b).

    Abstract translation: 目的:提供半导体器件的微细接触孔形成方法,通过使用两步干法蚀刻工艺来最小化细接触孔的线宽。 构成:在半导体衬底上形成绝缘层之后,在绝缘层上涂覆光致抗蚀剂图形以形成接触孔形成区域(200)。 然后,通过两步干法蚀刻(210)形成具有倾斜侧壁的细小接触孔。 也就是说,首先通过在50-200mTorr以上(210a)的高压下使用CF4和CO的混合气体来蚀刻绝缘层,然后在较低压力下使用C4F8,Ar和O2的混合气体二次蚀刻 20-50 mTorr小于(210b)。

    하드 디스크 드라이브
    44.
    发明公开
    하드 디스크 드라이브 失效
    硬盘驱动器及其设计方法

    公开(公告)号:KR1020010103699A

    公开(公告)日:2001-11-23

    申请号:KR1020010025572

    申请日:2001-05-10

    CPC classification number: G11B5/6005 G11B21/21

    Abstract: 웨이브 스트링어를 포함하는 하드 디스크 드라이브에 관해 개시된다. 웨이브 스트링어는 하드 디스크 드라이브의 베이스 플레이트를 통해 전파되는 에너지를 감소시킬 수 있다. 웨이브 스트링어는 하드 디스크 드라이브에 가해지는 음향 및 충격 파동의 전파 패턴의 초기 분석에 의해 설계될 수 있다. 웨이브 스트링어는 하드 디스크 드라이브의 취약점에서 임계 주파수를 감소시키도록 설계, 구성 및 조립된다.웨이브 스트링어는 전파된 에너지를 감소시키도록 하드 디스크 드라이브의 기계적 임피던스를 변화시키도록 설계되는 다수의 리브를 가질 수 있다.

    초음파 트랜스듀서
    45.
    发明授权
    초음파 트랜스듀서 失效
    超声波传感器

    公开(公告)号:KR100242660B1

    公开(公告)日:2000-02-01

    申请号:KR1019970055245

    申请日:1997-10-27

    Abstract: 본 발명은 초소형 정밀가공기술을 이용하여 각 음파방사판 픽셀들을 격자형태로 원하는 갯수만큼 실리콘웨이퍼상에 한꺼번에 형성한 초소형의 판형 초음파 트랜스듀서에 관한 것으로, 전기적으로 그라운드가 되어 있고, 상면부에 차단층이 형성된 실리콘웨이퍼; 상기 실리콘웨이퍼상에 형성된 차단층위에 구성되어 음의 바이어스전압이 인가되는 음전극들; 상기 음전극들에 각각 수직입설형성되어 있으며, 상단부에 파지편이 구비되어 있는 지지봉들; 상기 지지봉들의 상단에 상기 실리콘웨이퍼와 평행하게 소정간격 이격되어 지지되어 있는 음파방사판; 상기 파지편과 음파방사판 사이에 연결되어 상기 음파방사판이 진동할 수 있도록 상기 음파방사판의 모서리를 파지고정하고 있는 탄성체들; 및 상기 음파방사판과 대향하는 상기 실리콘웨이퍼의 차단층상에 형성돼 재생시키고자 하는 초음파신호가 인가되면, 음의 바이어스전압이 걸린 음파방사판과의 정전력에 의해 상기 음파방사판을 진동시키는 양전극층을 포함하며, 이상과 같은 구조를 갖는 본 발명의 초음파 트랜스듀서는 반도체공정에서 이미 보편화돼 널리 사용되고 있는 초소형 정밀가공기술을 이용하여 각 음파방사판 픽셀들을 격자형태로 원하는 갯수만큼 실리콘웨이퍼상에 한꺼번에 형성하므로 판형구조로 초소형화할 수 있어 스피커의 박형소형화를 이룩할 수 있게 하는 첨단의 기술이다.

    반도체장치의 제조방법
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1019990065268A

    公开(公告)日:1999-08-05

    申请号:KR1019980000483

    申请日:1998-01-10

    Inventor: 강성우 성석현

    Abstract: 본 발명은 반도체장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다층 폴리실리콘을 형성하기 위한 반도체장치의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 하부구조를 갖는 반도체 기판 상에 제1폴리실리콘을 증착하는 단계; 상기 제1폴리실리콘을 사진공정을 한 후 등방성 식각을 하여 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1폴리실리콘 위에 절연막을 증착하는 단계; 상기 절연막의 패턴을 형성하는 단계; 상기 절연막 상에 제2폴리실리콘을 증착하는 단계; 및 상기 제2폴리실리콘의 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.
    따라서, 제1폴리실리콘을 등방성식각을 하여 상기 제1폴리실리콘 상부의 전열막 패턴을 완만하게 하므로써 상기 전열막 상의 상기 제2폴리실리콘 식각시 상기 전열막 패턴에 형성되는 스트링거의 발생을 방지하는 효과가 있다.

    비대칭 청취점에서의 대칭음상 획득을 위한 스피커 구동장치

    公开(公告)号:KR100185955B1

    公开(公告)日:1999-05-15

    申请号:KR1019960049811

    申请日:1996-10-29

    Abstract: 개시된 내용은 비대칭 청취점에서의 대칭음상 획득을 위한 스피커 구동장치에 관한 것으로서, 다수의 채널을 갖는 음향 시스템에서 다수 채널의 음을 각각 출력하는 스피커들로부터 비대칭이 되는 특정 청취점에서 스피커들로부터의 대칭음상을 얻기 위한 장치에 있어서, 스피커들 중 한 개의 스피커에는, 다른 스피커들로부터 발생되는 비대칭 청취점에서의 음량 및 위상을 추정하도록, 입력되는 채널신호를 필터링하여 출력하는 보상필터가 포함된다. 이와 같은 스피커 구동장치는, 비대칭 청취점에서도 좌·우측 스피커로부터 출력되는 대칭음상 및 동일한 음량을 감상할 수 있게 하여 청취자로 하여금 최적의 상태에서 음악을 감상할 수 있게 하는 효과를 가져온다.

    반도체 소자의 미세 패턴의 형성을 위한 식각 공정의 제어 방법
    49.
    发明公开
    반도체 소자의 미세 패턴의 형성을 위한 식각 공정의 제어 방법 审中-实审
    控制形成半导体器件精细图案的蚀刻工艺的方法

    公开(公告)号:KR1020160041104A

    公开(公告)日:2016-04-18

    申请号:KR1020140134127

    申请日:2014-10-06

    Abstract: 본발명은반도체소자의미세패턴형성을위한식각공정의제어방법에관한것으로, 기판상에복수의개구부들을갖는하부패턴을형성하는것, 상기하부패턴의선폭값을획득하는것 및상기선폭값을이용하여상기하부패턴의형성을위한식각공정의공정조건을제어하는것을포함하는반도체소자의미세패턴의형성을위한식각공정의제어방법이제공된다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成半导体器件的精细图案的蚀刻工艺控制方法。 蚀刻工艺控制方法包括以下步骤:在衬底上形成具有多个开口的下部图案; 获取下图案的线宽值; 以及通过使用线宽值来控制用于形成下部图案的蚀刻处理的处理条件。 因此,可以改善半导体器件的细颗粒之间的接触故障。

    딜레이를 수용하는 상태 추정기를 이용하는 서보 제어 방법및 그 방법이 적용된 하드 디스크 드라이브
    50.
    发明授权
    딜레이를 수용하는 상태 추정기를 이용하는 서보 제어 방법및 그 방법이 적용된 하드 디스크 드라이브 失效
    伺服控制器方法和适用于每英寸硬盘驱动器的高轨道使用延迟定位stae估计器

    公开(公告)号:KR100734268B1

    公开(公告)日:2007-07-02

    申请号:KR1020050069144

    申请日:2005-07-28

    CPC classification number: G11B5/5547 G11B5/596

    Abstract: 본 발명은 하드디스크 드라이브에서 적어도 보이스 코일 액츄에이터의 보이스코일을 동작시키는 서보 콘트롤러에 관한 것이다.
    본 발명은 하드 디스크 드라이브의 적어도 보이스코일 모터를 위한 서보 콘트롤러에 적용된다. 오늘날, 많은 제어 알고리즘은 다음 제어를 계산하는데 샘플링 주기의 80~90 퍼센트를 요구하고, 그에따라 계산 시간 딜레이는 더이상 무시할 수 없는 것이 되었다.
    본 발명은 연산 시간 딜레이와 같은 전송 딜레이를 상태 추정기 및 전체 시스템에 수용한다.
    시뮬레이션 결과 뿐만 아니라, 시판되는 하드 드라이브를 사용한 실험 결과는 본 발명의 방법이 위상 마진과 이득 마진을 증가시킴으로써 하드 디스크 드라이브 제어 시스템의 안정성을 효과적으로 향상시킨다는 것을 보여준다.
    본 발명은 서보 콘트롤러를 동작시키는 방법 뿐만 아니라, 그 방법을 구현하는 장치를 포함한다. 본 발명은 또한 본 발명의 방법을 구현하는 서보 콘트롤러를 구비하는 하드 디스크 드라이브를 포함하고, 본 발명의 방법을 구현하는 서보 콘트롤러안에서 컴퓨터에 접근 가능하게 연결된 메모리에 상주하는 프로그램 시스템을 포함한다.

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