公开(公告)号：KR100809707B1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：KR1020060100385

申请日：2006-10-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정동훈 ,  허성민 ,  김성혁 ,  윤기성

IPC: H01L21/28

CPC classification number: G03F1/30

Abstract: A photomask having improved contrast and a method for manufacturing the same are provided to optimize a quartz etching depth by using concave patterns having uniform etching depths formed on a transparent substrate. A light shielding layer pattern(32) is formed on a transparent substrate(30) which transmits an exposing light. The transparent substrate includes concave patterns(34) corresponding to the light shielding layer pattern. The concave patterns are formed by etching portions of the transparent substrate in a certain depth. The etching depth of the concave pattern is less than the wavelength of the exposing light. The etching depths of the concave patterns are less than a wavelength of the exposing light. The transparent substrate is made of SiO2, CaF2, or MgF2.

Abstract translation: 提供具有改善的对比度的光掩模及其制造方法，以通过使用形成在透明基板上的均匀蚀刻深度的凹形图案来优化石英蚀刻深度。 在透射曝光的透明基板（30）上形成遮光层图案（32）。 透明基板包括对应于遮光层图案的凹形图案（34）。 凹形图案通过以一定深度蚀刻透明基板的部分而形成。 凹形图案的蚀刻深度小于曝光光的波长。 凹形图案的蚀刻深度小于曝光光的波长。 透明基板由SiO 2，CaF 2或MgF 2制成。

公开(公告)号：KR1020070063213A

公开(公告)日：2007-06-19

申请号：KR1020050123223

申请日：2005-12-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장일용 ,  권혁주 ,  허성민 ,  박영주

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/54

Abstract: Provided is a method for manufacturing a photomask by using a light transmittance correction at a specific wavelength via treating chlorine plasma selectively on a specific portion of the photomask to control critical dimension. The method for manufacturing a photomask comprises the steps of: forming a light-shielding film on a transparent substrate(1); forming a resist pattern on the light-shielding film(3); etching the light-shielding film with resist pattern as an etching mask to form a light-shielding pattern(5); carrying out a chlorine plasma treatment on the substrate having the light-shielding pattern so as to perform a light transmittance correction to a desired level; and removing the resist pattern(7).

Abstract translation: 本发明提供一种通过在光掩模的特定部分选择性地处理氯等离子体来控制临界尺寸，通过使用特定波长的透光率校正来制造光掩模的方法。 制造光掩模的方法包括以下步骤：在透明基板（1）上形成遮光膜; 在所述遮光膜（3）上形成抗蚀剂图案; 用抗蚀剂图案蚀刻遮光膜作为蚀刻掩模以形成遮光图案（5）; 在具有遮光图案的基板上进行氯等离子体处理，以进行光透射校正至期望的水平; 并去除抗蚀图案（7）。

公开(公告)号：KR100725170B1

公开(公告)日：2007-06-04

申请号：KR1020050109253

申请日：2005-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허성민 ,  김희범 ,  최성운

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/72

CPC classification number: G03F1/84

Abstract: 포토마스크의 제작을 위한 시스템 및 방법을 제공한다. 이 방법은 마스크 레이아웃 데이터를 이용하여 취약지점 데이터를 준비하고, 마스크 레이아웃 데이터를 이용하여 포토마스크를 제작한 후, 취약지점 데이터에 이용하여 제작된 포토마스크의 에이리얼 이미지를 분석함으로써 중요 지점 데이터를 추출하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020070042778A

公开(公告)日：2007-04-24

申请号：KR1020050098739

申请日：2005-10-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김희범 ,  허성민

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 공간영상 측정 시스템에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로 공간영상 측정 시스템에서 측정된 공간영상을 보정하는 공간영상 측정 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 공간영상 측정 방법은 상기 전하 결합 소자가 측정한 공간영상 측정값에 상기 결상 렌즈를 통과하여 공간영상을 형성한 모든 회절광들이 포함하도록 상기 전하 결합 소자의 측정간격을 계산하는 단계; 상기 측정간격으로 상기 전하 결합 소자가 상기 공간영상을 측정하는 단계; 상기 측정한 공간영상의 측정값들로 상기 공간영상을 형성한 모든 회절광들의 각각의 성분을 계산하는 단계; 상기 계산된 회절광 성분들을 이용하여 상기 전하 결합소자에 의해 측정된 공간영상을 보정하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 공간영상 측정 방법은 공간영상 측정 시스템의 노광조건을 활용하여 공간영상 측정 시스템에 의해 측정된 왜곡된 공간영상을 보정하게 된다.
공간영상, 결상 렌즈

公开(公告)号：KR100135813B1

公开(公告)日：1998-06-15

申请号：KR1019940035074

申请日：1994-12-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김인 ,  최양훈 ,  최동수 ,  허성민

IPC: G06T1/60

CPC classification number: H04N21/236 ,  H04N7/24 ,  H04N19/42 ,  H04N19/61 ,  H04N21/434

Abstract: 본 발명은 MPEG으로 압축된 데이타 전송방법 및 그 방법을 수행하는 장치를 공개한다. 그 장치는 MPEG으로 압축된 소정의 데이타를 수신하여 저장후, 제1제어신호를 발생하고, 홀드요구신호를 입력하여 데이타의 주소 및 데이타 신호를 분리후 홀드허가신호를 발생하고, 주소제어신호에 응답하여 데이타를 전송하는 데이타입력수단과, 압축된 데이타를 요구하는 데이타 요구신호를 발생하여, 데이타허가신호가 입력되면 데이타를 받아 동화상으로 압축복원하는 MPEG 압축복원수단과, 제2제어신호와 데이타 요구신호에 응답하여 홀드요구신호를 발생하고, 홀드허가 신호에 응답하여 데이타를 MPEG 압축복원수단에 직접 전송하도록 제어하는 주소제어신호를 발생하고, 데이타의 전송이 완료되었음을 알리는 전송상태신호를 발생하는 데이타 연결수단과, 제1제어신호를 입력하여 제2제어신호를 발생하고, 전송상태신호를 입력하여 제3제어신호 를 발생하는 중앙처리수단을 구비하는 것을 특징으로 하고, 그 방법은, 소정의 데이타를 수신하여 동화상 복원장치에서 전송요구시에 직접 전송해주는 것을 특징으로 하고, 입출력되는 압축된 데이타를 ISA버스를 통하여 주기억부로 전달하지 않고, 데이타 입력부와 MPEG 압축복원부사이에 새로운 데이타 연결부를 구성하여 압축된 데이타가 MPEG 압축복원부로 바로 전달될 수 있도록 하여 ISA버스의 부하를 최소화하며, 불필요한 주기억부의 임시 기억영역을 없애는데 효과가 있다.