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公开(公告)号：KR1020170122035A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：KR1020160051099
申请日：2016-04-26
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01L29/66545 , H01L21/0214 , H01L21/0217 , H01L21/28088 , H01L21/31144 , H01L21/3212 , H01L21/823431 , H01L21/823437 , H01L29/6656
Abstract: 본발명의반도체소자의제조방법은패턴형성영역을포함하는반도체기판의제1 영역에더미게이트절연층및 더미게이트전극을구비한더미게이트구조물을형성하는단계; 상기더미게이트구조물의양측벽에스페이서를형성하는단계; 상기스페이서들사이를매립하면서상기반도체기판및 더미게이트구조물상에층간절연층을형성하는단계; 비패턴영역을포함하는상기반도체기판의제2 영역에보호절연층을형성하는단계; 상기보호절연층상에라이너층을형성하는단계; 상기라이너층을식각저지층으로하여상기더미게이트구조물의상면이노출되도록상기층간절연층을평탄화하는단계; 상기더미게이트구조물을제거하여상기스페이서들사이의반도체기판을노출하는개구부를형성하는단계; 및상기개구부내에게이트절연층및 금속게이트전극을구비한게이트구조물을형성하는단계를포함한다.
Abstract translation: 本发明的半导体器件的制造方法包括：在包括图案形成区域的半导体衬底的第一区域中形成具有伪栅极绝缘层和伪栅极电极的伪栅极结构; 在伪栅极结构的两个侧壁上形成间隔物; 在填充所述间隔物之间的空间的同时在所述半导体衬底和所述伪栅极结构上形成层间绝缘层; 在包括非图案化区域的半导体衬底的第二区域中形成保护绝缘层; 在保护绝缘层上形成衬垫层; 平面化所述层间介电层，使得使用所述衬里层作为蚀刻停止层来暴露所述伪栅极结构的上表面; 去除所述伪栅极结构以形成在所述间隔件之间暴露所述半导体衬底的开口; 并且在开口中形成具有栅极绝缘层和金属栅电极的栅极结构。
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公开(公告)号：KR1020140113246A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：KR1020130056609
申请日：2013-05-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/768 , H01L21/28
CPC classification number: H01L21/76816 , H01L21/31144
Abstract: Provided is a method of fabricating a semiconductor device. The method of fabricating a semiconductor device includes providing a lower conductor and a first interlayer dielectric formed around the lower conductor, forming a second interlayer dielectric on the first interlayer dielectric and the lower conductor, forming a first hard mask pattern including a first opening part on the second interlayer dielectric, successively forming a planarization layer and a mask layer on the second interlayer dielectric and the first hard mask pattern, forming a second hard mask pattern including a second opening part on the mask layer, allowing the second hard mask pattern to include SiN and forming a mask pattern by patterning the mask layer by using the second hard mask pattern, removing the second hard mask pattern and forming a trench and a via hole in the second interlayer dielectric by using the mask pattern and the first hard mask pattern.
Abstract translation: 提供一种制造半导体器件的方法。 制造半导体器件的方法包括提供下导体和形成在下导体周围的第一层间电介质，在第一层间电介质和下导体上形成第二层间电介质，形成第一硬掩模图案，其包括第一开口部分 所述第二层间电介质，在所述第二层间电介质和所述第一硬掩模图案上依次形成平坦化层和掩模层，在所述掩模层上形成包括第二开口部分的第二硬掩模图案，所述第二硬掩模图案包括 SiN，并且通过使用第二硬掩模图案图案化掩模层并形成掩模图案，通过使用掩模图案和第一硬掩模图案，去除第二硬掩模图案并在第二层间电介质中形成沟槽和通孔。
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公开(公告)号：KR1020140105342A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：KR1020130019505
申请日：2013-02-22
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F3/0488 , G06F3/0481 , G06F3/0482 , G06F3/04883 , G06F9/451 , G06F3/0412 , G06F3/0416 , G06F3/04817 , G06F3/04842 , H04B1/40
Abstract: The present invention relates to a method and an apparatus for providing a user interface in a portable terminal to improve user convenience. The method includes a step of displaying a locked screen; a step of detecting the display request of a secondary window which includes predetermined modes on the locked screen; and a step of displaying the secondary window with a specific mode on one side of the locked screen when the display request of the secondary window is detected. The mode of the secondary window is changed by corresponding to a predetermined mode change event.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于在便携式终端中提供用户界面以提高用户便利性的方法和装置。 该方法包括显示锁定屏幕的步骤; 在锁定的屏幕上检测包括预定模式的辅助窗口的显示请求的步骤; 以及当检测到次窗口的显示请求时，在锁定屏幕的一侧上以特定模式显示次窗口的步骤。 辅助窗口的模式通过对应于预定的模式改变事件来改变。
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公开(公告)号：KR1020110087976A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：KR1020100007672
申请日：2010-01-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/8247 , H01L21/28 , H01L27/115
CPC classification number: H01L27/11526 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L21/28132 , H01L21/31144 , H01L21/76816 , H01L27/11529 , H01L21/76205
Abstract: PURPOSE: A formation method of a wiring structure for a semiconductor device and a manufacturing method of a non-volatile memory device using the same are provided to prevent a discordance of array by a distinct photo process and to improve the processing efficiency by forming a hard mask pattern with a double patterning technique by a single photo process in damascene process in order to form a wiring structure of the semiconductor device when a flash is buried. CONSTITUTION: A first region(A) and a second region(B) are prepared. An insulating layer(20), a hard mask layer(30), a sacrificing layer, and a variable mask layer are formed on a substrate including a plurality of lower part conductive constructs. A first reserves pattern comprises a first sacrificing layer pattern and a variable mask layer pattern which is laminated on the first region by patterning the sacrificing layer and the variable mask layer. A second reserves pattern comprises a second sacrificing layer pattern and a second mask layer pattern which is laminated on the second region. A first spacer and a second spacer are formed on the each side of the first and second reserves patterns at the same time. The first spacer leaves behind in the first region by eliminating the first reserves pattern. A first hard mask pattern which is arranged on the first region and a second hard mask pattern which is arranged on the second region are formed by eliminating the hard mask layer with an etching process using the first spacer, the second spacer, and the second reserves pattern as etching mask. A conductive pattern which fills a first trench and a second trench inside is formed.
Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体器件的布线结构的形成方法和使用该半导体器件的非易失性存储器件的制造方法，以通过不同的光刻工艺防止阵列的不一致，并且通过形成硬的方法来提高加工效率 掩膜图案，通过在镶嵌工艺中的单一光刻工艺进行双重图案化技术，以便在埋入闪光体时形成半导体器件的布线结构。 构成：准备第一区域（A）和第二区域（B）。 在包括多个下部导电构造的基板上形成绝缘层（20），硬掩模层（30），牺牲层和可变掩模层。 第一保留图案包括通过图案化牺牲层和可变掩模层而层压在第一区域上的第一牺牲层图案和可变掩模层图案。 第二保留图案包括层叠在第二区域上的第二牺牲层图案和第二掩模层图案。 在第一和第二储备图案的每一侧同时形成第一间隔物和第二间隔物。 第一个垫片通过消除第一个储备模式在第一个区域留下。 布置在第一区域上的第一硬掩模图案和布置在第二区域上的第二硬掩模图案通过使用第一间隔件，第二间隔件和第二间隔件的蚀刻工艺消除硬掩模层而形成 图案作为蚀刻掩模。 形成填充第一沟槽和第二沟槽内部的导电图案。
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公开(公告)号：KR1019940027601A
公开(公告)日：1994-12-10
申请号：KR1019930009168
申请日：1993-05-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박영주
IPC: H04Q3/10
Abstract: 본 발명은 동작 모드 및 대기 모드를 갖는 이중화 구성의 제어모듈을 구비하는 교환기에서 동작 모드의 제어모듈에서 에러 상태가 발생될 시 대기 모드의 제어모듈이 실시간으로 동작을 전환한다.이를 위하여 동작 모드의 제어모듈은 자기 모듈 내의 에러 발생 유무를 감시하며, 정상적인 상태이면 교환기의 고유한 기능의 수행을 제어한다. 그러나 자기 제어모듈 내에서 에러 신호가 감지되면 대기 모드의 제어모듈로 초기화신호를 출력하는 동시에 자기 모듈의 동작 상태를 디스에이블시킨다. 그러면 이런 초기화 신호를 수신하는 대기 모드의 제어모듈은 동작 모드의 제어모듈에 에러 상태가 발생된 시점에서 초기화 동작을 수행하여 이전 상태에서의 에러 상태를 제거하고, 실시간으로 동작 전환을 수행하여 동작모드의 제어모듈로 천이한다.
따라서 이중화 구성의 제어모듈을 구비하는 교환기에서 동작 중인 제어모듈에 에러 상태가 발생되는 경우 에러가 발생된 시점에서 실시간으로 동작 전환이 이루어져 교환기의 기능을 중단없이 수행할 수 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019930010728A
公开(公告)日：1993-06-23
申请号：KR1019910021979
申请日：1991-11-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박영주
IPC: G06F12/02
Abstract: 본 발명은 어드레스중 m비트를 입력하여 n비트의 데이타를 출력하는 ROM을 구비하고 중앙처리장치가 Kn비트 단위로 ROM을 동작시키는 방법 및 장치에 관한 것으로 ROM을 인에이블하기 위한 신호를 발생하는 제1과정과 M〉1og
2 K를 만족하는 최소정수 M을 결정하는 제2과정과 일정한 시간간격으로 0에서 K까지의 해당하는 수를 M비트의 2진수로 발생하는 제3과정과 어드레스중 하위 mK의 어드레스와 상기 제3과정에서 얻어지는 M비트의 2진수를 일정한 시간간격으로 ROM에 인가하여 ROM이 n비트의 데이타를 일정한 시간간격으로 K번 출력하게 하는 제4과정과 n비트의 데이타를 랫치할 수 있는 랫치수단 K개를 구비하여 상기 제4과정에서 ROM이 출력하는 n비트의 데이타를 순차적으로 랫치시키는 제5과정과 ROM이 K번 데이타를 출력하고 랫치수단이 이를 모두 랫치하였 때 Kn비트의 데이타를 중앙처리장치에 인가하는 제6과정을 구비하는 ROM동작방법과 ROM선택신호를발생하는 ROM선택부와 ROM의 출력을 랫치하는 랫치수단과 랫치수단을 인에이블 시키는 랫치인에이블 신호를 출력하는 랫치신호부와 M〉1og
2 K인 최소정수 M비트의 오프셋데이타를 출력하는 오프셋생성부를 구비하고 ROM의 입력단자에는 어드레스버스에서 mK비트와 오프셋이 인가되어지는 것을 특징으로 하는 ROM동작장치로 구성되어 n비트를 저장할 수 있는 1개의 ROM으로 Kn(단 K는 자연수임)비트의 데이타동작을 할 수 있게 하여 메모리의 낭비를 없애는 효과와 이를 하드웨어적으로 구현하여 종래에 소프트웨어적으로 할 경우 보다 액세스시간이 줄어드는 효과와 프로그래머가 프로그램 작성시 소프트웨어가 간단해지는 효과가 있다.-
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公开(公告)号：KR102080524B1
公开(公告)日：2020-05-27
申请号：KR1020190091140
申请日：2019-07-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F3/0481 , G06F3/0483 , G06F3/0482 , G06F3/0484 , G06F3/14 , G06F9/46 , G06F9/48
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公开(公告)号：KR101761190B1
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：KR1020130019505
申请日：2013-02-22
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F3/0488 , G06F3/0481 , G06F3/0482 , G06F3/04883 , G06F9/451
Abstract: 본발명은사용자의편의성을향상시킬수 있는휴대단말기의사용자인터페이스제공방법및 장치에관한것으로, 잠금화면을표시하는단계; 상기잠금화면에서기 정의된다수의모드를포함하는보조창의표시요청을감지하는단계; 및상기보조창의표시요청감지시 상기보조창을특정모드로상기잠금화면의일측에표시하는단계를포함하되, 상기보조창의모드는기 설정된모드변경이벤트에대응하여변경되는것을특징으로한다.
Abstract translation: 用于提供移动终端的用户界面的方法和设备技术领域本发明涉及一种用于提供移动终端的用户界面的方法和设备，该方法和设备可以改善用户的便利，该方法包括： 检测包括在锁定屏幕中定义的数字模式的子窗口的显示请求; 并且当感测到子窗口的显示请求时，在锁定屏幕的一侧以特定模式显示子窗口，其中子窗口的模式对应于预定模式改变事件而改变。
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公开(公告)号：KR101690786B1
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：KR1020100036108
申请日：2010-04-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박영주
IPC: G06F3/0481 , G06F3/0486 , G06F3/0488 , H04B1/40
CPC classification number: G06F3/0488 , G06F3/0481 , G06F3/0486 , G06F3/04883 , G06F9/451
Abstract: 본발명은멀티태스킹수행장치및 방법에관한것으로, 특히복수의어플리케이션들간의전환및 초기어플리케이션으로의전환을쉽게할 수있는멀티태스킹수행장치및 방법에관한것이다. 이를달성하기위해멀티태스킹수행방법이, 현재작업중인어플리케이션윈도우를표시하는과정과; 상기현재작업중인어플리케이션윈도우에실행중인적어도하나이상의어플리케이션윈도우를중첩하여동시에표시하는과정을포함하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 公开了一种用于执行多任务的装置和方法，更具体地涉及一种易于实现正在执行的多个应用程序与初始应用程序之间的移位的多任务执行装置和方法。 通过根据预定格式在当前操作的应用程序窗口上重叠执行的应用程序窗口，同时显示当前操作的应用程序窗口，其中至少一个执行的应用程序窗口。
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