Abstract:
본 발명은 탄소 나노 엠보패턴 표면을 갖는 고분자 소재의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 고분자 소재에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 PDMS(polydimethylsiloxane)과 같은 고분자 표면에 탄소 나노박막(DLC)을 증착하여 고분자 표면에 나노 엠보(embossing) 패턴이 형성되도록 한 탄소 나노 엠보패턴 표면을 갖는 고분자 소재의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 고분자 소재에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, PDMS를 포함하는 다양한 고분자 재료 표면에 탄소 나노 박막 증착을 이용하여, 탄소 나노 엠보패턴을 형성함으로써 얼룩방지, 미끄럼 방지, 내마모성 및 색상이 향상된 고분자 소재를 제조함으로써, 자동차용 내외장재, 인공혈관, 바이오칩 및 각종 전자제품 내외장재에 유용하게 적용될 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 고분자 재료 상부에 형성되는 엠보패턴을 조절할 수 있어, 디자인적 자유도가 향상되어 각종 내외장재 등의 고급화 및 기능적 측면의 향상을 동시에 도모할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 혈액 적합성이 향상된 실리콘 함유 다이아몬드상 카본 박막에 관한 것으로서, 내부 및 표면에 실리콘을 함유한 다이아몬드상 카본 박막의 표면에, 상기 박막 표면에 친수성을 부여하는 원자 (A)가 화학적으로 결합되어, 상기 박막의 표면에 C와 A의 결합 및 Si와 A의 결합이 존재하는 것을 특징으로 하는 혈액 적합성이 향상된 실리콘 함유 다이아몬드상 카본 박막 및 그 제조 방법과, 이를 이용한 의료용 재료를 제공한다. 실리콘 함유 다이아몬드상 카본 박막, 표면 개질, 플라즈마, 산소, 친수성
Abstract:
PURPOSE: Plastic with nano-embossed surfaces and a manufacturing method thereof are provided to ensure resistances of plastic against stains by static electricity, slip, and scratch. CONSTITUTION: A method for manufacturing plastic having nano-embossed surfaces is as follows. Ion beams are irradiated on the surfaces of a polymer material within a vacuum chamber while controlling the irradiation time and the magnitude of acceleration voltage so that a nano-size embossing pattern is formed on the surface of the polymer material.
Abstract:
PURPOSE: A silicon-contained diamond carbon film, a fabrication method thereof, and a biomedical material using the same are provided, which improve anti-corrosiveness of the diamond carbon thin film. CONSTITUTION: A silicon-contained diamond carbon film forms binding of carbon and the atom and Si and the atom since an atom which gives the hydrophile property to the thin film surface is chemically combined with the surface of the diamond carbon film which contains the silicon on the inside and surface. A manufacturing method of the silicon-contained diamond carbon film comprises: a process of forming a diamond carbon film containing silicon on the inside and surface of the basic material; and a process of generating bond of carbon and the atom and Si and the atom by cutting the chemical bonding of the thin film surface.