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公开(公告)号：KR1020160072930A
公开(公告)日：2016-06-24
申请号：KR1020140180638
申请日：2014-12-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B01D53/32
CPC classification number: B01D53/323 , B01D2259/818
Abstract: 본개시는, 풍력발전기에테슬러코일원리를이용한미세먼지차단시스템에관한것으로서, 타워, 타워의상부에설치된나셀및 날개를포함하는풍력발전기; 메인전원, 제1 캐패시터, 상기타워의하부에설치된 1차코일및 스파크갭을포함한 1차LC회로; 및상기 1차코일과자기적으로결합하며, 타워의상부까지타워를권취하도록설치된 2차코일, 상기 2차코일로부터소정간격이격되어그 상부에설치된제2 캐패시터를포함하는 2차LC회로로이루어진미세먼지차단시스템을제공한다.
Abstract translation: 本公开涉及在风力发电机中使用特斯线圈原理的超细颗粒物质屏障系统。 这种超细颗粒物质屏障系统包括：具有塔和机舱的风力发电机和设置在塔的上部的叶片; 具有主电源，第一电容器和初级线圈的主LC电路和设置在塔的下部的火花隙; 以及具有次级线圈和第二电容器的次级LC电路。 次级线圈与初级线圈磁耦合并且设置成绕塔架缠绕直到塔的上部。 第二电容器设置在次级线圈上方预定距离处。
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公开(公告)号：KR101247103B1
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：KR1020110032636
申请日：2011-04-08
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020120114846A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：KR1020110032636
申请日：2011-04-08
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
CPC classification number: H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32559 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: PURPOSE: A plasma generation apparatus and a substrate processing apparatus are provided to reduce lattice defect density of a substrate caused by impact of plasma by maintaining a floating state of the substrate. CONSTITUTION: A vacuum container includes an upper plate(104). A gas distribution part(130) including a plurality of nozzles(132) is arranged on a lower portion of the upper plate. Insulation support parts(150) are parallely extended in a first direction on the lower portion of the gas distribution part. Ground electrodes(120) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the gas distribution part. Power electrodes(110) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the insulation support part between the ground electrodes. A power supply part(240) supplies RF power to the power electrodes through the gas distribution part and the insulation support part. [Reference numerals] (AA) First direction; (BB) Second direction; (CC) Third direction
Abstract translation: 目的：提供等离子体产生装置和衬底处理装置，以通过维持衬底的浮动状态来减少由等离子体的冲击引起的衬底的晶格缺陷密度。 构成：真空容器包括上板（104）。 包括多个喷嘴（132）的气体分配部（130）布置在上板的下部。 绝缘支撑部件（150）在气体分配部件的下部沿第一方向平行延伸。 接地电极（120）在气体分配部分的下部沿第一方向平行延伸。 功率电极（110）在接地电极之间的绝缘支撑部分的下部在第一方向上平行延伸。 电源部件（240）通过气体分配部件和绝缘支撑部件向功率电极提供RF功率。 （附图标记）（AA）第一方向; （BB）第二方向; （CC）第三方向
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公开(公告)号：KR1020120113875A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：KR1020110031535
申请日：2011-04-06
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
IPC: H05H1/34 , H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/32559 , H01J37/32825 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: PURPOSE: A plasma generation apparatus and a substrate processing apparatus having process uniformity are provided to reduce a standing wave effect in a longitudinal direction of a power electrode by supplying RF power to a plurality of spots of the power electrode. CONSTITUTION: A vacuum container includes an upper plate. A gas distribution part(130) is arranged on a lower portion of the upper plate. An insulation support part(150) is arranged on the lower portion of the gas distribution part. Insulation support parts include a plurality of nozzles which discharges process gas provided from the gas distribution part. Ground electrodes(120) are parallely extended in a first direction between insulation support parts. Power electrodes(110) are parallely extended in the first direction on the lower portion of the insulation support part. RF power is applied to the power electrodes. [Reference numerals] (AA) First direction; (BB) Second direction; (CC) Third direction
Abstract translation: 目的：提供具有工艺均匀性的等离子体产生装置和衬底处理装置，通过向电力电极的多个点提供RF功率来减小电力电极的纵向方向上的驻波效应。 构成：真空容器包括上板。 气体分配部（130）配置在上板的下部。 绝缘支撑部分（150）设置在气体分配部分的下部。 绝缘支撑部件包括排出从气体分配部件提供的处理气体的多个喷嘴。 接地电极（120）在绝缘支撑部分之间沿第一方向平行延伸。 电力电极（110）在绝缘支撑部分的下部沿第一方向平行地延伸。 向功率电极施加RF功率。 （附图标记）（AA）第一方向; （BB）第二方向; （CC）第三方向
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公开(公告)号：KR101151225B1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：KR1020100037666
申请日：2010-04-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065 , C23C16/509
Abstract: 본 발명은 축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 축전 결합 플라즈마의 형성 방법을 제공한다. 이 장치는 위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극, 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더, 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제1 RF 전원, 및 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제2 RF 전원을 포함한다. 홀 영역들은 홀의 밀도, 홀의 직경, 및 홀의 형태 중에서 적어도 하나는 서로 다르다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110118206A
公开(公告)日：2011-10-31
申请号：KR1020100037666
申请日：2010-04-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065 , C23C16/509
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/32091 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: 본 발명은 축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 축전 결합 플라즈마의 형성 방법을 제공한다. 이 장치는 위치에 따라 다른 할로우 케소드 방전을 유발하는 복수의 홀 영역들을 포함하는 전극, 전극과 이격되어 배치되고 기판을 장착하는 기판 홀더, 전극에 제1 주파수를 가지는 제1 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제1 RF 전원, 및 전극에 제2 주파수를 가지는 제 2 RF 전력을 공급하여 플라즈마를 형성하는 제2 RF 전원을 포함한다. 홀 영역들은 홀의 밀도, 홀의 직경, 및 홀의 형태 중에서 적어도 하나는 서로 다르다.
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公开(公告)号：KR101073384B1
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：KR1020090019091
申请日：2009-03-06
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/66
Abstract: 본발명은측정패턴구조체, 보정구조체, 기판처리장치, 및기판처리방법을제공한다. 이방법은기판을마주보는상부전극에접촉하여기판을마주보도록배치되고위치에따라다른구조를가지는측정패턴을포함하는측정패턴구조체를제공하는단계, 상부전극에전력을인가하여형성된플라즈마를이용하여기판을처리하는단계, 기판의공정결과를위치에따라조사하여최적공정결과를선택하는단계, 최적공정결과에대응하는측정패턴을보정구조체에전사하는단계, 및보정구조체를이용하여기판을처리하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020100124061A
公开(公告)日：2010-11-26
申请号：KR1020090043113
申请日：2009-05-18
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
CPC classification number: C23C16/45565 , H01J37/32449 , H01L21/67028 , H01L21/67069
Abstract: PURPOSE: A fluid distributing apparatus and a fluid distributing method are provided to secure a uniform processing characteristic regardless of spaces by including pre-fluid distributing parts supplying different amounts of fluid. CONSTITUTION: An optimal processing position is selected using pre-distributing parts which include pre-unit regions. A fluid distributing part(201) is obtained by transferring the structure of pre-fluid distributing parts to correspond to the optical processing position. The pre-unit regions include split regions supplying different amount of fluid. A substrate(260) is processed using the fluid distributing part.
Abstract translation: 目的：提供流体分配装置和流体分配方法，通过包括提供不同量的流体的预流体分配部件来确保均匀的加工特性，而不管空间如何。 构成：使用包括预先单位区域的预分配部件选择最佳处理位置。 流体分配部件（201）通过将预流体分配部件的结构转移到光学处理位置而获得。 预单元区域包括提供不同量的流体的分割区域。 使用流体分配部件处理基板（260）。
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公开(公告)号：KR100991731B1
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：KR1020080033831
申请日：2008-04-11
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 탄소나노튜브 패치, 그 제조 방법, 및 그 사용 방법을 제공한다. 탄소나노튜브 패치는 전극, 전극의 일면에 배치된 탄소나노튜브들, 및 탄소 나노튜브들 사이를 채우는 층간 유전체를 포함한다. 상기 탄소나노튜브들의 일단은 상기 전극과 접촉하고, 상기 탄소나노튜브의 타단은 피부와 직접적 또는 간접적으로는 접촉한다.
탄소나노튜브, 패치, 이온 토퍼, 피부 자극, 전기장-
公开(公告)号：KR1020090108426A
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：KR1020080033831
申请日：2008-04-11
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: A61M35/003 , A61K8/0208 , A61K9/703 , A61M2037/0007 , A61N1/36014 , B82Y5/00 , B82Y15/00 , C01B32/158
Abstract: PURPOSE: A carbon nanotube patch and a fabrication method thereof are provided to control the absorption rate of cosmetics or medicines into skin in order to repair damaged skin. CONSTITUTION: A carbon nanotube patch comprises an electrode(100), carbon nanotubes(110), and interlayer dielectric(120). The carbon nanotubes are arranged on one side of the electrode. The interlayer dielectric is filled into the gaps between the carbon nanotubes. One ends of the carbon nanotubes are contacted with the electrode. The other ends of the carbon nanotubes are directly or indirectly in contact with a user's skin. The carbon nanotubes deliver voltage to the user's skin for electrostimulation.
Abstract translation: 目的：提供碳纳米管贴片及其制造方法，以控制化妆品或药物对皮肤的吸收率，以修复损伤的皮肤。 构成：碳纳米管贴片包括电极（100），碳纳米管（110）和层间电介质（120）。 碳纳米管布置在电极的一侧。 夹层电介质被填充到碳纳米管之间的间隙中。 碳纳米管的一端与电极接触。 碳纳米管的另一端直接或间接地与使用者的皮肤接触。 碳纳米管向用户的皮肤递送电压以进行电刺激。
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