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公开(公告)号：KR101769550B1
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：KR1020150155727
申请日：2015-11-06
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/08 , B23K26/06 , B23K26/046 , B23K26/04 , B23K26/70
Abstract: 본발명은공정속도를향상시키고, 및오차를감소시킬수 있는 3차원레이저조사장치를제공한다. 본발명의일 측면에따른 3차원레이저조사장치는제1 지령주기로이동이제어되는스테이지, 상기제1 지령주기보다더 짧은제2 지령주기로제어되어레이저빔을이동시키는스캐너, 상기제1 지령주기로상기스테이지의이동을제어하는제1 제어부, 상기스테이지의이동오차를측정하는오차측정부, 상기제2 지령주기로상기스캐너를제어하는제2 제어부, 및상기스테이지의이동오차를보상하도록상기스캐너의레이저조사경로를수정하는보상제어부를포함한다.
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公开(公告)号：KR101688612B1
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：KR1020140097629
申请日：2014-07-30
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/06 , B23K26/064
Abstract: 본발명은레이저광원, 레이저광원에서방출된레이저빔을반사빔과투과빔으로분리시키는빔 스플리터, 투과빔을가공대상물로집속시키는제1 광집속부, 가공대상물에서반사되어제1 광집속부와빔 스플리터를거친레이저빔을수광하고, 가공대상물의위치변화에따른레이저빔의프로파일변화를측정하는빔 프로파일러및 빔스플리터와빔 프로파일러사이에배치되어제1 광집속부와빔 스플리터를거친레이저빔을빔 프로파일러로집속시키는제2 광집속부를포함하는레이저가공장치를제공한다.
Abstract translation: 本发明是由分束器反射的第1部分的光聚焦于所发送的光束聚焦与所述对象的，从激光光源，激光光源发射的激光束分离成反射光束与透射光束的第一光聚焦单元的对象，并 接收通过分束器的激光束，和被布置在光束分析仪，和一个分束器作为光束分析仪之间，用于根据经由激光的第一光聚焦单元和分束器中的物体的位置的变化测量激光束的轮廓变化 第二个聚焦部分用于将光束聚焦到光束分析仪中。
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公开(公告)号：KR101528345B1
公开(公告)日：2015-06-12
申请号：KR1020140014250
申请日：2014-02-07
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B42D25/28 , B42D25/328 , B42D25/435 , G02B5/18 , B23K26/067
CPC classification number: B42D25/328 , B23K26/067 , B42D25/28 , B42D25/435 , G02B5/18
Abstract: 본기재의위조방지패턴생성장치는, 레이저빔을방출하는레이저발진기와, 상기레이저빔이입사되고회절되어복수의회절광으로분기시키는회절광학소자와, 상기회절광학소자를회전시키는회전구동부와, 상기분기된회절광을집광하여서로평행한복수의회절광으로유도하는제1 렌즈와, 상기서로평행한복수의회절광을굴절시켜피가공물에조사하는제2 렌즈, 및상기피가공물을지지하면서이동가능하도록구성된스테이지를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于产生防伪图案的装置和方法，该装置包括：发射激光束的激光振荡器; 衍射光学器件，其具有入射到其上并在其上衍射的激光束，使得激光束可以分支成多个衍射光; 旋转驱动单元，其使所述衍射光学装置旋转; 第一透镜，其收集被分支并引导到彼此平行的多个衍射光的衍射光; 第二透镜，其折射彼此平行的衍射光并将光照射到工件; 以及支撑并移动工件的台架。
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公开(公告)号：KR101528344B1
公开(公告)日：2015-06-12
申请号：KR1020130118068
申请日：2013-10-02
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 레이저를이용한접합장치및 이를이용한다중부재의접합방법이개시된다. 다중부재의접합방법은, 표면이서로맞닿도록상호적층된복수의부재를포함하는다중부재를스테이지위에배치하는단계와, 레이저광원으로부터극초단펄스레이저빔을발진하는단계와, 초점가변형렌즈와집속렌즈로구성된렌즈조립체를이용하여다중부재의계면주위에서다중부재의두께방향을따라레이저빔의초점을일정주기로움직이는단계와, 다중부재내에서비선형흡수현상에의해용접부를형성하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020150032384A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：KR1020130111357
申请日：2013-09-16
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 레이저 측정 및 가공 장치, 및 이의 구동 방법에 관한 발명이다. 본 발명은 펄스 발진하는 레이저 빔을 조사하는 레이저 헤드와, 레이저 빔을 연속 발진하는 측정용 레이저 빔으로 변환하는 변환부와, 가공 모드시 레이저 빔을 대상물에 조사하고, 측정 모드시 측정용 레이저 빔을 대상물에 조사하는 제어부, 및 대상물로부터 반사된 측정용 레이저 빔을 감지하여 감지 신호를 출력하는 공 초점 광학계를 포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及使用一个激光光源的激光测量和处理装置及其操作方法。 根据本发明，激光测量和处理设备包括：激光头，用于辐射脉冲振荡激光束; 转换单元，用于将激光束转换成连续振荡的用于测量的激光束; 控制单元，以处理模式将激光束照射到物体中，并以测量模式辐射用于测量的激光束; 以及共焦光学系统，通过检测用于从物体反射的测量的激光束来输出检测信号。 本发明通过使用一个激光光源来处理和测量物体具有简化装置的效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101421091B1
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：KR1020130011728
申请日：2013-02-01
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/36 , B23K26/067
Abstract: According to the present invention, disclosed are a micro-pattern processing apparatus comprising a laser generating device for generating a pulse laser, a light concentrating unit for processing a micro-pattern having a regular arrangement on the surface of a processing object by concentrating a laser beam coming from the laser generating device on the processing object, a liquid crystal display on silicon (LCoS) unit arranged on an optical path of the laser beam between the laser generating device and the light concentrating unit to output a pattern image for dividing the laser beam into a multi-beam, and a control unit connected with the LCoS unit to apply a signal for controlling the pattern image to the LCoS unit; and a micro-pattern processing method using an ultra-short pulse laser.
Abstract translation: 根据本发明，公开了一种微图案处理装置，其包括用于产生脉冲激光的激光产生装置，用于通过集中激光来处理在处理对象的表面上具有规则排列的微图案的聚光单元 在处理对象上来自激光产生装置的光束，在激光产生装置和聚光装置之间布置在激光束的光路上的硅（LCoS）单元上的液晶显示器，以输出用于分割激光的图案图像 射入多光束，以及与LCoS单元连接的控制单元，以将用于控制图案图像的信号施加到LCoS单元; 以及使用超短脉冲激光器的微图案处理方法。
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公开(公告)号：KR1020110120139A
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：KR1020100039680
申请日：2010-04-28
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/359 , B23K26/36 , H01L21/027
CPC classification number: B23K26/361 , G03F7/2004 , H01L21/0273 , H01L21/0275
Abstract: PURPOSE: A pattern formation method which uses a laser is provided to arrange a protection layer including a protection layer pattern on a processed product, thereby preventing damage in the processed product due to debris generated during a product processing process. CONSTITUTION: A protection layer(200) is arranged on a processed product(100). A protection layer pattern(210) is arranged by projecting a pattern laser beam on the protection layer. The processed product is exposed through an opening part of the protection layer pattern. A processing pattern is arranged in the processed product by projecting a processing laser beam(11) to the processed product. The width of the opening part of the protection layer pattern is identically arranged as the width(d2) of the processing pattern.
Abstract translation: 目的：提供使用激光的图案形成方法，以将保护层图案的保护层布置在加工品上，从而防止由于产品处理过程中产生的碎屑而造成的加工产品的损坏。 构成：保护层（200）布置在加工产品（100）上。 通过将图案激光束投影在保护层上来设置保护层图案（210）。 经加工的产品通过保护层图案的开口部分露出。 通过将处理后的激光束（11）投射到处理后的产品上，将加工图案配置在加工品中。 保护层图案的开口部分的宽度与加工图案的宽度（d2）相同地排列。
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公开(公告)号：KR100920435B1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：KR1020070123093
申请日：2007-11-29
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 표면에 탈/부착시킬 수 있는 헤어 구조물을 생산하기 위한 레이져 드릴링을 이용한 헤어 구조물 제작방법에 관한 것으로, 이를 위해 동일 규격을 갖는 금속기판을 다수 준비하는 단계;(S100)와, 상기 각 금속기판의 일면에 레이져빔을 조사하여 관통된 섬모통로를 등간격으로 다수 형성하는 단계;(S200)와, 상기 각 금속기판에 형성된 섬모통로가 상통하도록 일방향으로 적층시켜 금속형틀을 제작하는 단계;(S300)와, 상기 금속형틀에 형성된 섬모통로에 플라스틱화합물을 주입하여 헤어 구조물을 생성하는 단계;(S400) 및 상기 헤어구조물을 금속형틀에서 이형시켜 완성하는 단계;(S500)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
중합체, 섬모, 레이져, 헤어구조물-
公开(公告)号：KR1020060073764A
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：KR1020040112158
申请日：2004-12-24
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 5인치 이상의 대면적을 갖는 기판에 대하여 미세 임프린트 리소그래피 공정을 수행하는데 있어서, 임프린트된 기판으로부터 스탬프를 또는 스탬프로부터 임트린트된 기판을 원활히 이격시킬 수 있는 미세 임프린트 리소그래피 공정을 제공하는 것이다.
이를 위하여 본 발명은 미세 구조물을 임프린트할 기판과, 미세 구조물 패턴이 형성된 스탬프 그리고 상기 기판 또는 스탬프를 지지하는 스테이지를 준비하는 단계;와 상기 기판의 상부에 레지스트를 도포하고 레지스트에 상기 스탬프의 미세 구조물 패턴을 임프린트하는 단계; 그리고 상기 임프린트된 기판과 상기 스탬프를 공기압이나 진공을 이용하여 이격시키는 단계; 를 포함하는 미세 임프린트 리소그래피 공정에서 스탬프와 기판을 이격하는 방법을 제공한다.
미세 임프린트 리소그래피, 기판, 스탬프, 이격공정, 공기노즐, 단차-
公开(公告)号：KR1020050087011A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：KR1020040012192
申请日：2004-02-24
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B82Y30/00 , B81C1/0046 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10T428/24917
Abstract: 본 발명에서 제공하는 나노임프린트 리소그래피 공정을 도입한 미세접촉 인쇄 방법은, 일 태양에서 나노임프린트 리소그래피 공정을 이용해서 기판 위에 나노 구조물을 형성하는 단계;와, 상기 미세접촉 인쇄 방법으로 패터닝하는 단계로 이루어지며, 상기 패터닝 단계가, 상기 나노 구조물에 금속 박막을 증착하는 단계; 자기조립 단층막(SAM: Self-Assembled Monolayer)이 잉킹(inking)된 스탬프와, 상기 금속 박막이 증착된 나노 구조물을 접촉시켜 상기 자기조립 단층막을 나노 구조물에 선택적으로 인쇄하는 단계; 상기 자기조립 단층막을 마스크(mask)로 상기 금속 박막을 선택적으로 제거하는 단계; 나노 구조물에서 상기 자기조립 단층막을 제거하는 단계; 그리고, 상기 나노 구조물에 잔존하는 금속 박막을 마스크로 사용해서 상기 기판을 패터닝(patterning)하는 단계;를 포함해서 이루어진다.
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