Abstract:
본 발명은 발광 소자 및 발광 소자의 제조방법에 관한 것이고, 본 발명에 따른 발광 소자에서 무기 발광 소자는 투명 전극과 접촉되는 발광층 또는 상부 도핑층에 산화막, 질화막 또는 금속막을 형성시킨 후 플라즈마 처리하여 플라즈마 식각층을 형성하여 투명 전극과 상부 도핑층과의 접촉력을 향상시킨 것이고, 또한, 본 발명에 따른 발광 소자에서 유기 발광 소자는 투명 전극이 접촉되는 기판, 특히 플라스틱 기판 상부에 산화막, 질화막 또는 금속막을 형성시킨 후 플라즈마 처리하여 플라즈마 식각층을 형성하여 기판과 투명 전극과의 접촉력을 향상시킨 것이다. 이와 같이 본 발명에 따른 발광 소자는 투명 전극의 접촉력을 개선시킴으로써 층분리를 방지하여 발광 소자의 효율을 개선시키면서 동시에 생산 수율을 향상시킨다. 발광, 소자, 플라즈마, 접촉력
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본 발명의 발광소자용 실리콘 질화막은 실리콘 질화물 기저체와 그 내부에 동시에 형성된 실리콘 나노 결정구조들을 포함한다. 이 실리콘 질화막을 이용하면, 발광효율이 우수하고, 청색 및 보라색과 같은 단파장 영역을 비롯한 가시광선 영역뿐만 아니라 근적외선 영역에서의 발광도 가능한 발광소자를 제작할 수 있는 효과가 있다. 실리콘 질화막, 실리콘 발광소자, 나노 결정, 발광
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본 발명은 비정질 실리콘 양자점과 희토류 원소가 함께 분산되어 포함되며 비정질 실리콘 양자점에 의해 희토류 원소가 여기되어 광을 방출시키는 광소자용 실리콘 질화물 박막 및 그 제조방법을 제공한다. 이를 이용하면, 비정질 실리콘 양자점이 희토류 원소의 발광특성을 매우 향상시켜 우수한 성능의 광소자를 만들 수 있다.
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본 발명은 발광소자의 발광층에서의 광발생률을 높여 발광효율이 우수한 발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에서 제안하는 발광소자는 발광소자 내부의 발광층 굴절률보다 큰 굴절률을 가지는 고(高)굴절률체를 발광소자의 상단면에 적층하여 형성한 덮개층을 가지고 있는 것이 특징이다. 본 발명에 따르면, 발광소자의 내부로 반사되는 광의 비율을 높임으로써 발광층에서 광흡수가 증가되므로 발광층에서의 광발생률이 높아지며, 동일한 발광층 재료를 사용하더라도 발광소자의 효율을 향상시킬 수 있어 고휘도 디스플레이라는 상업적 요구를 충족시킬 수 있다.
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본 발명은 터치 스크린 및 그의 제조방법을 개시한다. 그의 스크린은, 기판과, 상기 기판 상에 제 1 방향으로 연장되는 제 1 전극과, 상기 제 1 전극 상의 층간 절연막과, 상기 층간 절연막 상에 상기 제 1 방향과 교차되는 제 2 방향으로 연장되는 제 2 전극을 포함한다. 상기 층간 절연막은 산탄화 실리콘(SiOC)을 포함할 수 있다.
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저방사필름및 이를포함하는창문이제공된다. 본발명에따르면, 저방사필름은제1 기판, 제1 금속산화물층, 제1 반사층, 제2 금속산화물층, 및제2 기판을포함할수 있다. 제1 반사층은적외선파장의빛을반사할수 있다. 제1 파장의가시광선은제1 금속산화물층과반사층의계면, 그리고반사층과제2 금속산화물층의계면에서반사되나, 제2 파장의가시광선은저방사필름을투과할수 있다. 이에따라, 저방사필름은색상을나타낼수 있다.