公开(公告)号：CN105612228A

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201480055840.6

申请日：2014-10-03

Applicant: 光学转变公司

Inventor： J·D·杜盆 ,  C·库池寇 ,  G·T·欧文斯 ,  V·拉桑嘉 ,  J·L·寇尼吉二世

IPC: C09D175/14 ,  C09D175/16

CPC classification number: G02B5/223 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1036 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0272 ,  B05D3/144 ,  B05D7/546 ,  B29D11/00884 ,  C08G18/227 ,  C08G18/289 ,  C08G18/4063 ,  C08G18/44 ,  C08G18/6225 ,  C08G18/7831 ,  C08G18/7837 ,  C08G18/807 ,  C08G18/8175 ,  C08J7/042 ,  C08J7/123 ,  C08J2369/00 ,  C08J2433/14 ,  C08J2475/06 ,  C09D5/32 ,  C09D175/06 ,  C09K9/02 ,  C09K2211/14 ,  G02B1/14 ,  G02B5/23 ,  G02C7/102 ,  G03C1/73

Abstract: 提供了一种光致变色光学制品，其包括：光学基材；在该光学基材的表面上的光致变色层，其中该光致变色层包括光致变色化合物；和在该光致变色层上的保护层，其中该保护层包括基质，该基质包括含有至少一个脲基甲酸酯基的烯属不饱和可自由基聚合材料的残余物。还提供了一种形成光致变色光学制品的方法。

公开(公告)号：CN105344558A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201510836434.X

申请日：2015-11-25

Applicant: 东莞方皓汽车配件有限公司

Inventor： 李方伦

IPC: B05C9/14 ,  B05C3/10 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02

CPC classification number: B05C9/14 ,  B05C3/10 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明公开了一种自动披肤装置。该自动披肤装置包括：传送机构，用于承载工件，并带动所述工件沿水平方向移动；披肤灰容器，用于盛装披肤灰；轴向滑轨，设于所述传送机构的下方，并与所述披肤灰容器滑动连接；提升机构，与所述披肤灰容器连接，用于驱动所述披肤灰容器提升或复位；烘烤窑，设于所述披肤灰容器沿所述传送机构移动方向的前方，所述烘烤窑设有烘烤窑入口以及烘烤窑出口，所述烘烤窑入口的顶部高于所述传送机构；控制器，分别与所述提升机构以及所述传送机构电连接。本发明所述自动披肤装置，可自动披肤且成本低、效率高。

公开(公告)号：CN104882359A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201510087911.7

申请日：2015-02-26

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 吉原直彦 ,  小林健司 ,  奥谷学

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/68764 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。

公开(公告)号：CN104511402A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201310449494.7

申请日：2013-09-27

Applicant: 沈阳芯源微电子设备有限公司

Inventor： 张扬

IPC: B05C5/04 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10

CPC classification number: B05C5/0208 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1042

Abstract: 本发明涉及在晶圆表面涂蜡或固体熔融物质的设备，具体地说是一种在晶片表面涂布固体熔融物质的旋涂装置。包括载料罐组件、载料罐加热装置、喷嘴组件及旋转机构，其中载料罐加热装置与载料罐组件相连，所述载料罐组件和喷嘴组件连接，所述旋转机构设置于载料罐组件和喷嘴组件的下方、并与喷嘴组件相对应，晶片设置于所述旋转机构上，所述载料罐组件内的物料经载料罐加热装置加热为熔融状态，所述熔融状态的物料由喷嘴组件喷涂到由所述旋转机构带动旋转的晶片表面上，进行涂布。本发明结构紧凑，布局规范，可实现全自动涂布；采用旋转涂布的方式，既解决了膜厚不均匀的问题，又为全自动生产创造了便利的条件。

公开(公告)号：CN103874548A

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201180074135.7

申请日：2011-10-13

Applicant: 克诺那普雷斯技术股份公司

Inventor： 迪特尔·多林 ,  汉斯·沙费尔

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  B05C9/12 ,  B05C11/10 ,  E04F15/00

CPC classification number: B05C13/02 ,  B05B12/004 ,  B05C5/004 ,  B05C5/005 ,  B05C9/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05D1/305 ,  B05D7/06 ,  B27N7/005 ,  B65G21/10 ,  E04F15/102

Abstract: 本发明涉及针对板状部件(60)的帘式涂布的装置(10)和方法，以及使用该方法制造的部件。所述装置包括产生涂布原料的液体帘(42)的装置(40)，输入传输装置(20)以及输出传输装置(30)，其中所述输出传输装置(30)和/或所述输入传输装置(20)可以进行高度调整。

公开(公告)号：CN101251719B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200710162430.3

申请日：2002-10-03

Applicant: ASML美国公司

Inventor： A·源

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05B12/1472 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种通过减少pH值突变而使显影反应物的沉淀最小化的方法。所述方法包括以下步骤：在基板位于其内的显影剂流体模块内设置层流气流场；在聚合物层的表面上的多个位置处将一定量的显影剂流体施加到基板上的聚合物层上；使至少一部分聚合物层显影；然后允许至少一部分所述一定量的显影剂流体停留在所述聚合物上，从而可控制地使pH值的随后突变最小化；以及然后利用一定量的另一流体冲洗所述聚合物。

公开(公告)号：CN101518770B

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200910007773.1

申请日：2004-12-16

Applicant: 欧利生电气株式会社

Inventor： 稻谷孝佑

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  G11B7/26

CPC classification number: B05C11/08

Abstract: 一种旋涂装置，其用于在各种盘上涂敷液体，包括：旋转台，其保持盘基板；旋转机构，其使该旋转台旋转；涂料器罩，其配置成将所述旋转台包围并挡住从保持在所述旋转台上的盘基板甩掉的液体；内杯，其挡住而不排出沿着所述涂料器罩滴落的液体；涂料器杯，其支承该内杯，其中，所述内杯能够从所述涂料器杯上卸下；该旋涂装置还包括将液体向所述盘基板供给的液体供给机构，在所述涂料器罩上形成至少一个空中注射用孔，在所述液体供给机构为了防止液体的堵塞而将液体空中注射时，该空中注射用孔用于使该被空中注射的液体流向所述内杯内。由此，能够用内杯将被空中注射的液体回收而不需要其它的回收机构。

公开(公告)号：CN100595887C

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200680046966.2

申请日：2006-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  松崎和爱 ,  田中崇 ,  岩下光秋 ,  宗像瑞惠

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05C15/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05C11/06 ,  B05C11/08 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0486 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。

公开(公告)号：CN101518770A

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200910007773.1

申请日：2004-12-16

Applicant: 欧利生电气株式会社

Inventor： 稻谷孝佑

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  G11B7/26

CPC classification number: B05C11/08

Abstract: 一种旋涂装置，其包括：旋转台，其保持盘基板；旋转机构，其使该旋转台旋转；涂料器罩，其配置成将所述旋转台包围并挡住从保持在所述旋转台上的盘基板甩掉的液体；内杯，其挡住而不排出沿着所述涂料器罩滴落的液体；涂料器杯，其支承该内杯，其中，所述内杯能够从所述涂料器杯上卸下。

公开(公告)号：CN1265246C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN03147269.9

申请日：2003-07-11

Applicant: 友达光电股份有限公司

Inventor： 陈望生 ,  曾增魁

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: B05C11/1042 ,  B05C11/08 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明是提供一种光刻胶涂敷装置，该光刻胶涂敷装置主要包括：一用来放置至少一光刻胶瓶的储存槽，该光刻胶瓶是用来存放该光刻胶涂敷装置运作所需的光刻胶溶剂；一冷却系统，该冷却系统用来冷却该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂，使该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂保持低温；一升温系统，该升温系统用来加热由该光刻胶瓶输出的光刻胶溶剂至适当温度，以及一自动供墨系统，该自动供墨系统用来吸取与输送该光刻胶溶剂。