公开(公告)号：EP0422183A1

公开(公告)日：1991-04-17

申请号：EP90906498.0

申请日：1990-04-04

Applicant: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION

Inventor： ROESLER, Fred, L. ,  HARLANDER, John

IPC: G01J3 ,  G01J9

CPC classification number: G01J3/453 ,  G01J2003/451 ,  G01J2009/0219

Abstract: Un spectromètre hétérodyne spatial comprend un interféromètre (25) dispersif à deux faisceaux ayant en tant que diviseur/combineur de faisceau une grille de diffraction (45). Un faisceau entrant est collimaté et transmis à la grille (45) dans l'interféromètre (25) qui le divise en deux faisceaux (47, 50) qui sont recombinés de sorte que l'angle entre les fronts d'ondes dans le faisceau recombiné à une longueur d'onde particulière est en rapport direct avec la déviation de ladite longueur d'onde par rapport à une longueur d'onde nulle à laquelle les fronts d'ondes sont parallèles. Le faisceau recombiné de sortie est focalisé et mis en image afin de produire des franges de Fizeau sur l'ouverture de sortie (31), ces franges étant enregistrées par un détecteur (34) de formation d'images. La sortie d'intensité variable dans l'espace du détecteur (34) de formation est soumise à une transformation de Fourier de façon à donner une sortie représentative de la fréquence spectrale de l'image en rapport avec la longueur d'onde du faisceau entrant émis par la source.

公开(公告)号：EP3011288A1

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：EP14813615.3

申请日：2014-06-20

Applicant: Cylite Pty Ltd

Inventor： FRISKEN, Steven James ,  FRISKEN, Grant Andrew

IPC: G01J9/00 ,  G01J3/00 ,  G01J11/00 ,  G01B9/02 ,  A61B3/10

CPC classification number: A61B3/1015 ,  A61B3/0025 ,  A61B3/1025 ,  A61B3/107 ,  A61B3/117 ,  A61B3/14 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02041 ,  G01B9/02044 ,  G01B9/02091 ,  G01B2290/70 ,  G01J9/02 ,  G01J2009/0219 ,  G01J2009/0238 ,  G02B27/1013 ,  G02B27/283 ,  G02C7/027 ,  G02C2202/24

Abstract: Method and systems are presented for analyzing a wavefront using a spectral wavefront analyzer to extract optical phase and spectral information at a two dimensional array of sampling points across the wavefront, wherein the relative phase information between the sampling points is maintained. Methods and systems are also presented for measuring an eye by reflecting a wavefront of an eye and measuring the wavefront at a plurality of angles to provide a map of the off-axis relative wavefront curvature and aberration of the eye. The phase accuracy between wavelengths and sample points over a beam aperture offered by these methods and systems have a number of ocular applications including corneal and anterior eye tomography, high resolution retinal imaging, and wavefront analysis as a function of probe beam incident angle for determining myopia progression and for designing and testing lenses for correcting myopia.

Abstract translation: 介绍基于干涉测量的方法和装置，用于分析样品中的一个或多个波前，其中样品波前受到两个或更多个参考波前的干扰，以在足够短的时间内产生两个或多个干涉图，以便将干涉图捕获在 诸如CCD阵列的图像捕获装置的单次曝光。 每个干涉图具有取决于相应的一对样本和参考波前之间的角度的唯一载波频率。 在某些实施例中，使用扫描镜产生多个采样和/或参考波前，而在其它实施例中利用多波长光束，使用波长色散元件生成多个采样和/或参考波前。 该方法和装置适用于测量眼睛视网膜上一个或多个位置的像差。

公开(公告)号：EP1439427A2

公开(公告)日：2004-07-21

申请号：EP04000525.8

申请日：2004-01-13

Applicant: ASML Holding N.V.

Inventor： Poultney, Sherman K.

IPC: G03F7/20 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01J9/0215 ,  G01J2009/0219 ,  G02B5/1838 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

Abstract: A wavefront measurement system includes a source of electromagnetic radiation. An imaging system directs the electromagnetic radiation at an object plane that it uniformly illuminates. A first grating is positioned in the object plane (reticle/source module plane) to condition the radiation entering the input of a projection optic (104). A projection optical system projects an image of the first grating onto the focal plane (wafer plane). A second grating is positioned at the focal plane that receives a diffracted image of the object plane to form a shearing interferometer. A CCD detector receives the image of the pupil of the projection optical system through the projection optical system and the second grating that forms a fringe pattern if there are aberrations in the projection optical system. Phaseshift readout of fringe pattern can be accomplished by stepping the first grating in a lateral direction and reading each frame with the CCD detector.

Abstract translation: 波前测量系统包括电磁辐射源。 成像系统将电磁辐射引导到均匀照明的物体平面。 第一光栅定位在物平面（标线板/源模块平面）中，以调节进入投影光学器件（104）的输入的辐射。 投影光学系统将第一光栅的图像投影到焦平面（晶片平面）上。 第二光栅位于焦平面处，其接收物平面的衍射图像以形成剪切干涉仪。 如果投影光学系统中存在像差，则CCD检测器通过投影光学系统和形成条纹图案的第二光栅接收投影光学系统的光瞳的图像。 条纹图案的移相读数可以通过沿横向方向步进第一光栅并用CCD检测器读取每个帧来实现。

公开(公告)号：EP0422183A4

公开(公告)日：1992-08-05

申请号：EP90906498

申请日：1990-04-04

Applicant: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION

Inventor： ROESLER, FRED, L. ,  HARLANDER, JOHN

IPC: G01J3/45 ,  G01J3/453 ,  G01J9/02

CPC classification number: G01J3/453 ,  G01J2003/451 ,  G01J2009/0219

公开(公告)号：JP2015137928A

公开(公告)日：2015-07-30

申请号：JP2014009565

申请日：2014-01-22

Applicant: レーザーテック株式会社

Inventor： 楠瀬 治彦 ,  武久 究

IPC: G01M11/00 ,  G01N21/45 ,  G03F1/32 ,  G03F1/24 ,  G03F1/84 ,  H01L21/027 ,  G01N21/956 ,  G01J9/02

CPC classification number: G01J9/02 ,  G01B9/02041 ,  G01B9/02049 ,  G01B9/02098 ,  G01N21/45 ,  G03F1/26 ,  G03F1/84 ,  G01B2290/30 ,  G01J2009/0219

Abstract: 【課題】EUV領域で良好に動作する干渉計及び位相シフト量測定装置を実現する。 【解決手段】本発明の干渉計は、照明ビームを発生する照明源(1)と、光源から出射した照明ビームを試料に向けて投射する照明系と、試料から出射した反射ビームを検出器(7)上に結像する結像系とを具える。照明系は、照明ビームから、試料上の所定の距離だけ離間した2つのエリアを互いにコヒーレントに照明する第1及び第2の回折光を発生する第1の回折格子(2)を含み、結像系は試料で反射した第1及び第2の回折光をさらに回折して、所定の距離だけ互いに離れた第3及び第4の回折光を形成する第2の回折格子(6)を含む。検出器上には、第3及び第4の回折光による干渉画像が形成される。試料を支持するステージの傾斜角度を走査することによりフリンジスキャンが行われる。 【選択図】図5

Abstract translation: 要解决的问题：实现在EUV区域中工作良好的干涉仪和相移体积测量装置。解决方案：根据本发明的干涉仪包括：产生照明光束的照明源（1） 照明系统，其将样品暴露于从光源发射的照明光束; 以及成像系统，其形成从检测器（7）上的样品发射的反射光束的图像。 照明系统包括：第一衍射光栅（2），其产生第一和第二衍射光，所述第一和第二衍射光相互照射样品上的两个规定的距离分离区域，并且成像系统包括第二衍射光栅（6），其进一步衍射第一 和由样品反射的第二衍射光，然后形成彼此分开规定距离的第三和第四衍射光。 在检测器上形成第三和第四衍射光的干涉图像。 通过扫描支撑样品的台阶的倾斜角进行边缘扫描。

公开(公告)号：JP2010122207A

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：JP2009223435

申请日：2009-09-28

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： ISHIZUKA AKIRA

IPC: G01J9/02 ,  G01B9/02 ,  G01B11/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G01J2009/0219 ,  G01J2009/0261 ,  G03F7/70775

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wavelength shift measuring apparatus capable of measuring fluctuation of an optical source wavelength with accuracy and resolution of not greater than pm by being equipped with a construction in which an optical path difference of two light beams stably becomes constant.
SOLUTION: A wavelength shift measuring apparatus is a wavelength shift detector WLCD1 which measures a shift of a wavelength of a light beam emitted from a light source, and includes a beam splitter BS2 splitting the light beam emitted from the light source into a plurality of light beams and to synthesize two light beams among the plurality of light beams to generate an interference light, a spacer member SP provided so that an optical path length difference of the two light beams split by the beam splitter PBS2 is constant, and a plurality of photoelectric sensors PDA+, PDB+ detecting the interference light generated by the beam splitter BS2. The plurality of photoelectric sensors PDA+, PDB+ output a plurality of interference signals having phases shifted from one another based on the interference light to measure a wavelength shift using the plurality of interference signals.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 解决的问题：提供一种能够通过配置两个光束的光程差稳定的结构来测量光源波长的精度和分辨率不大于pm的波长偏移测量装置 变得不变。 解决方案：波长偏移测量装置是测量从光源发射的光束的波长偏移的波长偏移检测器WLCD1，并且包括分束器BS2，将从光源发射的光束分成 多个光束，并且在多个光束中合成两个光束以产生干涉光;间隔部件SP，被设置成使得分束器PBS2分裂的两个光束的光程长度差是恒定的，并且 多个光电传感器PDA +，PDB +检测由分束器BS2产生的干涉光。 多个光电传感器PDA +，PDB +输出具有基于干涉光彼此相移的多个干涉信号，以使用多个干扰信号测量波长偏移。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：KR101833245B1

公开(公告)日：2018-03-02

申请号：KR1020160149670

申请日：2016-11-10

Applicant: 한국기초과학지원연구원

Inventor： 현상원 ,  김건희 ,  김이종 ,  김승현

IPC: G01J9/02 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01J9/0215 ,  G01J2009/0219 ,  G01M11/0264 ,  G01M11/0271

Abstract: 스크린, 카메라및 형상측정장치를포함하며, 위상측정광선편향법을이용하여측정대상물의표면형상을측정하는표면검사장치의교정방법은, 이상적격자패턴(ideal grid pattern) 구조체를이용하여상기카메라에의하여발생되는오차인자를교정하는카메라교정단계; 참조기준면(reference flat)을측정위치에배치하고, 상기표면검사장치를통해상기참조기준면의표면형상을측정하는가-측정단계; 상기참조기준면을기초로형상측정기준면(reference plane)을정의하고, 상기측정대상물을상기측정위치에배치하여상기정의된형상측정기준면에따라정렬하는측정대상물정렬단계; 상기표면검사장치를통해상기정렬된측정대상물의표면형상을측정하는실-측정단계;를포함한다.

公开(公告)号：KR100730245B1

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：KR1020040003044

申请日：2004-01-15

Applicant: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.

Inventor： 포울트니,세르만케이.

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J9/0215 ,  G01J2009/0219 ,  G02B5/1838 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

Abstract: 파면 측정 시스템은 전자기파의 소스를 포함한다. 이미징 시스템은 오브젝트 면에 전자기파(electromagnetic radiation: 전자기 복사)를 보내어 균일하게 조명한다. 제1 격자는 오브젝트 면에 위치되어 투영 광학계의 입력으로 입사하는 전자기파를 한정한다. 투영 광학 시스템은 제1 격자의 이미지를 초점면 상에 투영한다. 제2 격자는 오브젝트 면의 회절된 이미지를 수신하는 초점면에 위치되어 층밀림 간섭계를 형성한다. CCD 디텍터는 투영 광학 시스템의 동공의 이미지를, 투영 광학 시스템과, 만일 투영 광학 시스템에 수차가 있다면 프린지 패턴을 형성하는, 제2 격자를 통해 수신한다. 프린지 패턴의 위상 변이 판독은 제1 격자를 측방향으로 스텝핑하고 CCD 디텍터로 각 프레임을 판독함에 의해 달성될 수 있다.
파면 측정 시스템, 격자, 프린지 패턴, 층밀림 간섭계, CCD 디텍터

公开(公告)号：KR101375275B1

公开(公告)日：2014-03-17

申请号：KR1020120134638

申请日：2012-11-26

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 양기동 ,  차보경 ,  전성채 ,  허두창

IPC: A61B6/06 ,  G01J9/02

CPC classification number: G01J9/0215 ,  A61B6/06 ,  G01J2009/0219 ,  G01N23/04

Abstract: The present invention relates to a method for simply manufacturing a flexible grating sheet for X-ray phase contrast image without complicated facilities or processes by improving an existing lithography method and by manufacturing the grating sheet in a method of coating a material which can forms a curved surface. [Reference numerals] (AA,BB) Substrate; (CC) Cutting; (DD) Grating sheet; (EE) Enlarging; (FF) X-ray; (S10) Coating/Drying; (S20) Repeating; (S30) Removing the substrate/Cutting/Mirror finishing

Abstract translation: 本发明涉及一种用于简单地制造用于X射线相位差图像的柔性光栅片的方法，该方法不需要复杂的设备或工艺，通过改进现有的光刻方法和通过以下方法制造光栅片：涂覆可形成弯曲 表面。 （标号）（AA，BB）基板; （CC）切割; （DD）光栅片; （EE）扩大; （FF）X射线; （S10）涂布/干燥; （S20）重复; （S30）拆卸基板/切割/镜面整理

公开(公告)号：KR1020040066038A

公开(公告)日：2004-07-23

申请号：KR1020040003044

申请日：2004-01-15

Applicant: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.

Inventor： 포울트니,세르만케이.

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J9/0215 ,  G01J2009/0219 ,  G02B5/1838 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085 ,  H01L22/12

Abstract: PURPOSE: A transmission shear grating in a checkerboard configuration for an EUV(Extreme Ultra Violet) wavefront sensor is provided to measure a quality of wavefront in a photolithography tool during a wafer manufacturing and a light exposure. CONSTITUTION: A wavefront measurement system includes a source of electromagnetic radiation, an irradiation system, a first grating(103), a projection optical system(104), a second grating(201), and a detector(202). The irradiation system uniformly irradiates an electromagnetic radiation on an object plane. The first grating is positioned in the object plane defining the electromagnetic radiation. The projection optical system projects an image of the first grating onto a focal plane. The second grating is positioned at the focal plane. The detector is positioned behind the second grating receiving a fringe pattern generated by the second grating. The second grating is a two-dimensional grating, which is a checkerboard grating in the wavefront measurement system.

Abstract translation: 目的：提供用于EUV（Extreme Ultra Violet）波前传感器的棋盘配置中的透射剪切光栅，用于在晶片制造和曝光期间测量光刻工具中波前的质量。 构成：波前测量系统包括电磁辐射源，照射系统，第一光栅（103），投影光学系统（104），第二光栅（201）和检测器（202）。 照射系统在物平面上均匀地照射电磁辐射。 第一个光栅位于定义电磁辐射的物平面内。 投影光学系统将第一光栅的图像投影到焦平面上。 第二光栅位于焦平面。 检测器位于第二光栅后面，接收由第二光栅产生的条纹图案。 第二个光栅是二维光栅，它是波前测量系统中的棋盘光栅。