用于确定材料的平均原子序数和质量的方法和系统

    公开(公告)号:CN101287984A

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN200580029515.3

    申请日:2005-07-08

    CPC classification number: G01N23/20 G01N23/04 G01N23/20083 G01N23/201

    Abstract: 这里公开了一种针对潜在威胁扫描目标的方法和系统,其利用自目标散射的光子的能量谱确定目标中平均原子序数和/或质量的空间分布。示范的方法包含:利用光子束照亮目标的多个体元的每一个;确定入射到每个体元上的入射通量;测量自体元散射的光子的能量谱;利用能量谱确定体元中的平均原子序数;以及利用入射通量、体元中材料的平均原子序数、能量谱、以及与体元对应的散射核确定体元中的质量。示范的系统可基于若干体元的平均原子序数和/或质量利用威胁检测试探法来确定是否触发进一步的动作。

    用于X射线散射的X射线衍射装置

    公开(公告)号:CN101256160A

    公开(公告)日:2008-09-03

    申请号:CN200810095161.8

    申请日:2008-01-17

    Inventor: V·科根

    CPC classification number: G01N23/20025 G01N23/201 G01N23/207

    Abstract: 本发明公开了一种包括壳体(14)的X射线散射腔室(12),其可安装在位于X射线源(2)与X射线检测器(4)之间的X射线衍射装置中,例如安装在测角器臂(6)上。该壳体(14)包括样品架(16)和射线束调节光学器件(22、24),而且该系统还使用壳体外部的初级光学器件(10)。该装置适用于SAXS和/或SAXS-WAXS。

    密度不均匀实验材料解析方法及其装置和系统

    公开(公告)号:CN1520513A

    公开(公告)日:2004-08-11

    申请号:CN02812998.9

    申请日:2002-06-17

    Inventor: 表和彦

    CPC classification number: G01N23/20 G01N23/201 G01N23/203

    Abstract: 在本发明的解析密度不均匀实验材料内的颗粒状物的分布状态的密度不均匀实验材料解析方法中,实际测量X射线散射曲线是基于面内衍射测量的面内X射线散射曲线,进行该面内X射线散射曲线和模拟X射线散射曲线的拟合,将模拟X射线散射曲线和面内X射线散射曲线一致时的拟合参数的值作为密度不均匀实验材料内的颗粒状物的面内方向的分布状态。同时通过上述方法,还能够提供能够简单并且高精度地解析具有各向异性的密度不均匀实验材料内的颗粒状物的面内方向的分布状态的密度不均匀实验材料解析装置和系统。

    用于确定材料的平均原子序数和质量的方法和系统

    公开(公告)号:CN102890095B

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201210333501.2

    申请日:2005-07-08

    CPC classification number: G01N23/20 G01N23/04 G01N23/20083 G01N23/201

    Abstract: 本发明涉及用于确定材料的平均原子序数和质量的方法和系统。这里公开了一种针对潜在威胁扫描目标的方法和系统,其利用自目标散射的光子的能量谱确定目标中平均原子序数和/或质量的空间分布。示范的方法包含:利用光子束照亮目标的多个体元的每一个;确定入射到每个体元上的入射通量;测量自体元散射的光子的能量谱;利用能量谱确定体元中的平均原子序数;以及利用入射通量、体元中材料的平均原子序数、能量谱、以及与体元对应的散射核确定体元中的质量。示范的系统可基于若干体元的平均原子序数和/或质量利用威胁检测试探法来确定是否触发进一步的动作。

    用于X射线散射分析的X射线分析系统

    公开(公告)号:CN104132954A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201410167870.8

    申请日:2014-03-14

    Inventor: J·S·皮德森

    Abstract: 本发明涉及用于X射线散射分析的X射线分析系统。该X射线分析系统包括:X射线源,用于产生沿透射轴(3)传播的X射线的射束;至少一个具有孔隙的混合狭缝(5b),该孔隙限定射束的横截面的形状;样品,由混合狭缝(5b)成形的射束照射到该样品上;X射线检测器,用于检测来自于该样品的X射线,其中混合狭缝(5b)包括至少三个混合狭缝元件(7),每个混合狭缝元件(7)包括以锥角α≠0与基底(9)结合的单晶基板(8),混合狭缝元件(7)的单晶基板(8)限制该孔隙,该X射线分析系统的特征在于,混合狭缝元件(7)沿透射轴(3)以一定偏移量交错布置。本发明的X射线分析系统表现出改进的分辨率和信噪比。

Patent Agency Ranking