公开(公告)号：TWI433213B

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：TW099109700

申请日：2010-03-30

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 丹 伯夫 艾瑞 傑佛瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  賽威爾 哈利 ,  SEWELL, HARRY ,  安德森 凱斯 威廉 ,  ANDRESEN, KEITH WILLIAM ,  艾伯特二世 鄂爾 威廉 ,  EBERT JR., EARL WILLIAM ,  席恩 山傑夫 庫馬 ,  SINGH, SANJEEV KUMAR

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G01B11/14 ,  G02F1/116 ,  G03F7/70191 ,  G03F9/7065

公开(公告)号：TWI429018B

公开(公告)日：2014-03-01

申请号：TW098111528

申请日：2009-04-07

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 納非耶 山米爾A ,  NAYFEH, SAMIR A. ,  威廉斯 馬克 艾迪 ,  WILLIAMS, MARK EDD ,  凡迪萊姆 賈斯汀 馬修 ,  VERDIRAME, JUSTIN MATTHEW

IPC: H01L21/683 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/6875 ,  Y10S414/141 ,  Y10T279/34

公开(公告)号：TWI425185B

公开(公告)日：2014-02-01

申请号：TW099121550

申请日：2010-06-30

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 里昂 喬瑟夫H ,  LYONS, JOSEPH H.

IPC: G01B13/12 ,  G03F7/20

CPC classification number: B26F1/00 ,  B26F2001/4418 ,  B26F2001/4427 ,  C08F220/14 ,  C08F222/1006 ,  G01B13/12 ,  G02B1/04 ,  G03F9/7057 ,  Y10T428/24843 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/31855 ,  C08L33/00 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2222/108

公开(公告)号：TWI407266B

公开(公告)日：2013-09-01

申请号：TW098136050

申请日：2009-10-23

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V.

Inventor： 載爾 普魯托 聖堤亞哥E ,  DEL PUERTO, SANTIAGO E.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03B27/68 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70783

公开(公告)号：TWI397784B

公开(公告)日：2013-06-01

申请号：TW097147852

申请日：2008-12-09

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 哈利 史威爾 ,  SEWELL, HARRY ,  喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 班斯洽普 ,  BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/0043 ,  G03F7/70466

公开(公告)号：TWI363934B

公开(公告)日：2012-05-11

申请号：TW096121666

申请日：2007-06-15

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 珊提亞哥E 戴爾 普爾托

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/704 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70425

Abstract: 本發明揭示一種允許一更有效的同步掃描鏡(SSM)之系統及方法。一微影設備包含一照明系統、一圖案化裝置、一基板台及一投影系統。該照明系統調節從一輻射源接收之一以一第一頻率進行操作的輻射光束。該圖案化裝置將該光束圖案化。該基板台支撐並以一掃描速度掃描一基板。該投影系統包括一掃描裝置，該掃描裝置包括一反射裝置與複數個彎曲部分。該複數個彎曲部分經組態用以允許該反射裝置關於一旋轉軸而諧振。該掃描裝置經組態用以將該圖案化的光束掃描至該基板之一目標區域上。該掃描裝置之諧振頻率實質上等於第一頻率而且與該掃描速度同步。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种允许一更有效的同步扫描镜(SSM)之系统及方法。一微影设备包含一照明系统、一图案化设备、一基板台及一投影系统。该照明系统调节从一辐射源接收之一以一第一频率进行操作的辐射光束。该图案化设备将该光束图案化。该基板台支撑并以一扫描速度扫描一基板。该投影系统包括一扫描设备，该扫描设备包括一反射设备与复数个弯曲部分。该复数个弯曲部分经组态用以允许该反射设备关于一旋转轴而谐振。该扫描设备经组态用以将该图案化的光束扫描至该基板之一目标区域上。该扫描设备之谐振频率实质上等于第一频率而且与该扫描速度同步。

公开(公告)号：TWI336426B

公开(公告)日：2011-01-21

申请号：TW095113826

申请日：2006-04-18

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML荷蘭公司

Inventor： 艾利克山大 卡麥利克 ,  哈利 西威 ,  路易斯 約翰 馬克亞 ,  艾利克 羅勒夫 露卜斯塔 ,  尼可拉斯 譚 凱特

IPC: G03F ,  B05C

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一濕浸式微影系統包含投影光學件和一噴頭。該等投影光學件被建構為用一已圖案化射束曝照一基板。該噴頭包含一第一噴嘴和一第二噴嘴，該等噴嘴被建構為在一曝光作業期間離該基板之一表面處於不同距離。

Abstract in simplified Chinese: 一湿浸式微影系统包含投影光学件和一喷头。该等投影光学件被建构为用一已图案化射束曝照一基板。该喷头包含一第一喷嘴和一第二喷嘴，该等喷嘴被建构为在一曝光作业期间离该基板之一表面处于不同距离。

公开(公告)号：TW201033748A

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：TW098139028

申请日：2009-11-17

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML荷蘭公司

Inventor： 裘布 艾達 ,  諾德曼 奧斯卡 法蘭西斯科 喬瑟夫 ,  凡 德 范恩 保羅 ,  凡卡塔羅曼 亞倫 麥哈德凡

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/144 ,  G02B27/145 ,  H01S3/0057

Abstract: 本發明揭示一種光束調節單元，其係提供於微影裝置之照明系統中以增加一照明光束之時間脈衝長度及光擴展性兩者，其中該時間脈衝長度增加減少透鏡元件之降級，同時在與該光束之一光擴展性增加組合時導致一斑點減少。該脈衝調節單元經組態以接收一輸入輻射脈衝且經進一步組態以發射一或多個對應輸出輻射脈衝，其包括經組態以將該入射脈衝劃分成一第一脈衝部分及一第二脈衝部分之一光束分光器，其中該光束分光器經進一步組態以沿著一第二光徑來引導該第一脈衝部分，其中該第二部分經引導於一第一光徑上以作為一輸出光束之一部分。該第二光徑經組態以包括一發散光學元件，藉以發散光學元件角度可增加該光束之發散而不減小光束尺寸，因此增加該光擴展性。各自具有一曲率半徑之一第一鏡面及一第二鏡面經安置成以一預定分離度面向彼此，其經組態以接收該第二脈衝部分且重新引導該第二部分，使得通過該脈衝調節器之該第二部分之該光徑長於該第一部分之該光徑，且該分離度小於曲率半徑。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种光束调节单元，其系提供于微影设备之照明系统中以增加一照明光束之时间脉冲长度及光扩展性两者，其中该时间脉冲长度增加减少透镜组件之降级，同时在与该光束之一光扩展性增加组合时导致一斑点减少。该脉冲调节单元经组态以接收一输入辐射脉冲且经进一步组态以发射一或多个对应输出辐射脉冲，其包括经组态以将该入射脉冲划分成一第一脉冲部分及一第二脉冲部分之一光束分光器，其中该光束分光器经进一步组态以沿着一第二光径来引导该第一脉冲部分，其中该第二部分经引导于一第一光径上以作为一输出光束之一部分。该第二光径经组态以包括一发散光学组件，借以发散光学组件角度可增加该光束之发散而不减小光束尺寸，因此增加该光扩展性。各自具有一曲率半径之一第一镜面及一第二镜面经安置成以一预定分离度面向彼此，其经组态以接收该第二脉冲部分且重新引导该第二部分，使得通过该脉冲调节器之该第二部分之该光径长于该第一部分之该光径，且该分离度小于曲率半径。

公开(公告)号：TW201013304A

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：TW098127002

申请日：2009-08-11

Applicant: ASML控股公司

Inventor： 維克洛 羅那德A ,  尼爾森 邁可L ,  裴瑞 麥可

IPC: G03F

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70891

Abstract: 本發明揭示一種反射主光罩，其大體上減少或消除由EUV輻射之吸收引起的圖案失真，同時維持符合業界標準之一主光罩厚度。該反射主光罩包括一超低膨脹(ULE)玻璃層及一菫青石基板，該菫青石基板具有大體上大於ULE玻璃之熱傳導性的一熱傳導性。一鋁層安置至該ULE玻璃之一第一表面上，且該ULE玻璃之一第二表面經拋光成大體上平坦且無缺陷。該菫青石基板可使用陽極接合而直接接合至該鋁層以形成該反射主光罩。或者，一中間微晶玻璃層之一第一表面可接合至該鋁層，且一第二鋁層可用以將該菫青石基板陽極接合至該微晶玻璃層之一第二表面，藉此形成該反射主光罩。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种反射主光罩，其大体上减少或消除由EUV辐射之吸收引起的图案失真，同时维持符合业界标准之一主光罩厚度。该反射主光罩包括一超低膨胀(ULE)玻璃层及一菫青石基板，该菫青石基板具有大体上大于ULE玻璃之热传导性的一热传导性。一铝层安置至该ULE玻璃之一第一表面上，且该ULE玻璃之一第二表面经抛光成大体上平坦且无缺陷。该菫青石基板可使用阳极接合而直接接合至该铝层以形成该反射主光罩。或者，一中间微晶玻璃层之一第一表面可接合至该铝层，且一第二铝层可用以将该菫青石基板阳极接合至该微晶玻璃层之一第二表面，借此形成该反射主光罩。

公开(公告)号：TW200948562A

公开(公告)日：2009-12-01

申请号：TW098112335

申请日：2009-04-14

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML控股公司

Inventor： 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 ,  哈洛 喬治 希拉蕊 ,  凡 朵恩 馬修 詹姆士

IPC: B25J ,  G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70741 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

Abstract: 本發明揭示一種機器人，該機器人在一微影裝置之一真空腔室內定位一工件。該機器人之一第一組件位於一真空腔室內以沿著一平移軸線而定位一工件。一軸件支撐該第一組件，使得該軸件之一對稱軸線垂直於該平移軸線，且一第二組件圍繞該對稱軸線而旋轉該軸件且在平行於該對稱軸線之一方向上移動該軸件。該第二組件包括：一氣體軸承，該氣體軸承經組態以沿著該軸件之一圓周表面而引入氣體；及一驅氣密封件，該驅氣密封件經組態以抽空由該第二組件氣體軸承所引入之該氣體。該機器人大體上減少或消除烴分子在自約0 a.m.u.至200 a.m.u.之一範圍內的釋氣，因此致使該機器人適合用於極紫外線(EUV)光微影應用中。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种机器人，该机器人在一微影设备之一真空腔室内定位一工件。该机器人之一第一组件位于一真空腔室内以沿着一平移轴线而定位一工件。一轴件支撑该第一组件，使得该轴件之一对称轴线垂直于该平移轴线，且一第二组件围绕该对称轴线而旋转该轴件且在平行于该对称轴线之一方向上移动该轴件。该第二组件包括：一气体轴承，该气体轴承经组态以沿着该轴件之一圆周表面而引入气体；及一驱气密封件，该驱气密封件经组态以抽空由该第二组件气体轴承所引入之该气体。该机器人大体上减少或消除烃分子在自约0 a.m.u.至200 a.m.u.之一范围内的释气，因此致使该机器人适合用于极紫外线(EUV)光微影应用中。