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公开(公告)号：CN105524565B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201510590071.6
申请日：2015-09-16
Applicant: 藤森工业株式会社
Inventor： 林益史
IPC: C09J7/29
Abstract: 本发明提供一种粘着片，其牢固地粘接于被粘物，在被粘物不需要时、贴合修正时，可简单地从被粘物上剥离。本发明提供一种各向异性粘着性片，其不受基材、粘着剂的制约且根据剥离方向不同而具有不同的剥离性。一种各向异性粘着性片(10)，其为在基材(1)的至少单面上依次层积具有凹凸结构的截面的树脂层(2)和填埋树脂层(2)的凹凸结构的粘着剂层(3)而成，其树脂层(2)的凹凸结构的图案形状具有各向异性，同时，粘着剂层(3)的表面具有平滑性，算术平均表面粗糙度Ra为5μm以下。
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公开(公告)号：CN106520001A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201610557075.9
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/06 , C09D5/20 , C08J7/04
CPC classification number: C08J7/047 , C08K5/435 , C08K2201/017 , C09D5/20 , C09J7/255 , C09J11/06 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2205/102 , C09J2433/00 , C09J2467/006
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该保护膜的光学部件，其中，该表面保护膜即使对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合，对被粘物的污染少，且在对被粘物的低污染性不会经时变化，具有不会经时劣化的优异的抗剥离静电性能。一种表面保护膜10，其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜1的一个面上形成粘着剂层2，并在粘着剂层2上，经由剥离剂层4贴合了在树脂膜3的一个面上形成剥离剂层4的剥离膜5而成，剥离剂层4含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂，剥离剂层4中所含的所述碱金属盐成分只存在于粘着剂层2的表面上。
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公开(公告)号：CN106520000A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201610555118.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/08 , C09D183/04 , C09D5/20 , C09D5/24 , G02B1/14
CPC classification number: C08K5/29 , C08K5/435 , C09D5/20 , C09D5/24 , C09D183/04 , C09J7/201 , C09J7/22 , C09J11/08 , C09J133/08 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , C09J2467/006 , C09J2483/005 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性的树脂所构成的基材膜(1)的一个面上形成有剥离剂层(4)，剥离剂层(2)含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)及硅酮类剥离剂，剥离剂层(2)中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。(2)，在基材膜(1)的另一个面上形成有粘着剂层
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公开(公告)号：CN103382370B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201310154306.8
申请日：2013-04-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D183/12
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地，提供向被粘物的污染少的表面保护膜，没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜，以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中，剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到，所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成，并且含有抗静电剂。
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公开(公告)号：CN104293222B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410242356.6
申请日：2014-06-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: B32B27/18 , B32B27/06 , C09J7/02 , C09J9/02 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少并且无经时劣化，具有优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜。一种抗静电表面保护膜的制造方法，是在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面上形成粘结剂层(2)后，将在树脂膜(3)的单面上层叠含有抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过该剥离剂层(4)贴合于所述粘结剂层(2)的表面上的抗静电表面保护膜(10)的制造方法，其中，剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105331296A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201510397304.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也好，对被粘附体的污染少，对被粘附体的低污染性无经时变化，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件。表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成由聚氨酯类粘结剂构成的粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠有包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN103421437B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201310181843.1
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供即使用于高温加热处理，也能够防止低聚物从基材膜的内部向表面析出，且能够抑制上述低聚物污染周围的作业环境或产品的表面处理膜、表面保护膜以及贴合有这些的精密电气/电子部件。表面保护膜（10）中，在具有可挠性的基材膜（1）的一个面层叠有粘结剂层（2），剥离处理后的剥离膜（4）通过剥离处理后的面（4a）层叠在上述粘结剂层（2）的表面上，在基材膜（1）的至少另一个面形成有保护层（3），该保护层（3）即使经过温度160℃×60分钟的加热处理之后，也能够防止因基材膜（1）引起的低聚物的析出。上述保护层（3）由包含环氧树脂、具有与环氧基发生反应的官能团的聚酯树脂和胺类固化剂的树脂组合物的薄膜构成。
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公开(公告)号：CN104371581A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201410312033.X
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104293222A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201410242356.6
申请日：2014-06-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J9/02 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少并且无经时劣化，具有优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜。一种抗静电表面保护膜的制造方法，是在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面上形成粘结剂层(2)后，将在树脂膜(3)的单面上层叠含有抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过该剥离剂层(4)贴合于所述粘结剂层(2)的表面上的抗静电表面保护膜(10)的制造方法，其中，剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物以及抗静电剂的树脂组合物来形成。
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公开(公告)号：CN103421438A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310181917.1
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08 , B32B27/06 , B32B27/28
Abstract: 本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜（5）能够保护至少在基材膜（1）的单面层叠有粘结剂层（2）的粘结膜的该粘结剂层（2），并且能够剥离，其中，至少在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，并通过该剥离剂层（4）贴合在粘结剂层（2）的表面上，上述剥离剂层（4）含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。
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