公开(公告)号：KR101862345B1

公开(公告)日：2018-07-05

申请号：KR1020120019767

申请日：2012-02-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정용상 ,  우라자에브블라디미르 ,  정진하 ,  이창훈

IPC: H01L21/336 ,  H01L29/78

CPC classification number: H01L29/66666 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/82385 ,  H01L29/4236 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/66553 ,  H01L29/66621 ,  H01L29/7834

Abstract: 모오스전계효과트랜지스터를포함하는반도체장치및 그제조방법이제공된다. 이방법은기판을패터닝하여트렌치들을형성하고, 트렌치들을내면을덮는단일층구조의희생막을형성하고, 희생막을등방적으로식각하여트렌치들의바닥에잔존하는희생패턴들을형성하고, 희생패턴들을이온마스크로사용하여트렌치들의측벽들에저농도불순물영역들을형성하고, 희생패턴들을제거한후, 트렌치내에게이트절연막및 게이트전극막을차례로형성하는단계를포함할수 있다.

公开(公告)号：KR101869811B1

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR1020110133766

申请日：2011-12-13

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  심명섭

Inventor： 김성만 ,  정진하 ,  김종산 ,  심명섭

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G01N21/783 ,  G01N21/05

Abstract: 본발명은암모니아가스검출장치및 그를구비하는반도체생산라인의관리시스템을개시한다. 그의장치는, 호스트컴퓨터와, 상기호스트컴퓨터에연결된인터페이스와, 상기인터페이스를통해상기호스트컴퓨터에전달되는제 1 감지신호를생성하고, 암모니아가스를감지하는암모니아센서와, 상기암모니아센서에근접하여배치되고, 상기암모니아센서의간섭가스들로부터상기암모니아가스를선택적으로검출하기위해상기암모니아센서와상보적(complementary)으로상기암모니아가스에의해변색되는반응용액을갖는변색게이지와, 상기변색게이지의색상변화를감지하고, 상기인터페이스를통해상기호스트컴퓨터에전달되는제 2 감지신호를생성하는광 센서를더 포함할수 있다.

公开(公告)号：KR101864164B1

公开(公告)日：2018-06-04

申请号：KR1020110046577

申请日：2011-05-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최진 ,  정진하 ,  블라디미르우라자에브 ,  이혜연

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/78 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3026 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/31776

Abstract: 노광시스템및 이시스템으로제조되는포토마스크및 웨이퍼가설명된다. 본발명의기술적사상에의한노광시스템은, 소스빔을조사하는빔 발생부, 상기빔 발생부의하부에제공되고, 제1어퍼쳐를갖는제1빔세이퍼, 및상기제1빔세이퍼하부에제공된제2빔세이퍼를포함하되, 상기제2빔세이퍼는, 제2 어퍼쳐를갖는플레이트, 상기제2 어퍼쳐의일부분을가리는시프트스크린, 및상기시프트스크린을이동시키는제1 액츄에이터를포함한다.

公开(公告)号：KR101855294B1

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：KR1020100055109

申请日：2010-06-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용훈 ,  이희석 ,  정진하

IPC: H01L23/552 ,  H01L23/00 ,  H01L25/065 ,  H01L25/10

CPC classification number: H01L23/552 ,  H01L24/48 ,  H01L24/73 ,  H01L25/03 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/105 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2225/0652 ,  H01L2225/06527 ,  H01L2225/06562 ,  H01L2225/06568 ,  H01L2225/06572 ,  H01L2225/1023 ,  H01L2225/1058 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01012 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/07802 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15192 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/15331 ,  H01L2924/1617 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

Abstract: 본발명의일 실시예에따른반도체패키지는복수의배선들이형성된기판, 상기복수의배선들중 일부의배선과전기적으로연결된적어도하나의반도체칩, 및상기기판에실장되어상기적어도하나의반도체칩을둘러싸고, 상기복수의배선중 적어도하나의배선과전기적으로연결되며, 연자성물질을포함하는쉴딩캔(shielding can)을포함하여전자기간섭을제거할수 있다.

公开(公告)号：KR1020130066970A

公开(公告)日：2013-06-21

申请号：KR1020110133766

申请日：2011-12-13

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  심명섭

Inventor： 김성만 ,  정진하 ,  김종산 ,  심명섭

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G01N21/783 ,  G01N21/05

Abstract: PURPOSE: An ammonia gas detecting device and a management system of a semiconductor production line including the same are provided to increase the reliability of gas sensing by including a discoloration gauge and an optical sensor. CONSTITUTION: An interface is connected to a host computer. An ammonia sensor(40) senses ammonia gas. A discoloration gauge(50) is complementally formed with the ammonia sensor. The discoloration gauge has a reaction solution discolored by the ammonia gas. An optical sensor(60) senses the color change of the discoloration gauge. [Reference numerals] (10) Host computer; (102) Semiconductor manufacturing equipment; (202) Valve module box; (22) First interface; (24) Second interface; (26) Third interface; (302) Ammonia supply unit; (304) Exhaust pump; (306) Scrubber; (40) Ammonia sensor; (50) Discoloration gauge; (60) Optical sensor

Abstract translation: 目的：提供一种氨气检测装置和包括其的半导体生产线的管理系统，以通过包括变色计和光学传感器来增加气体感测的可靠性。 构成：接口连接到主机。 氨传感器（40）感测氨气。 变色仪（50）与氨传感器互补地形成。 变色计具有由氨气变色的反应溶液。 光学传感器（60）感测变色仪的颜色变化。 （附图标记）（10）主机; （102）半导体制造设备; （202）阀模块盒; （22）第一界面; （24）第二界面; （26）第三界面; （302）氨供应单位; （304）排气泵; （306）洗涤器; （40）氨传感器; （50）变色仪; （60）光学传感器

公开(公告)号：KR101256103B1

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：KR1020060044661

申请日：2006-05-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함정윤 ,  쿠르기에듀어드 ,  위훈 ,  정진하 ,  주재만

IPC: B25J5/00 ,  A47L11/00

Abstract: 본 발명은 로봇청소기의 먼지통과 도킹 스테이션의 집진장치 사이에 형성되는 유로의 길이를 줄일 수 있으며, 상기 먼지통으로부터 배출되는 먼지가 실내공간으로 유출되어 실내공기를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 로봇청소기 시스템을 개시한다.
본 발명에 따른 로봇청소기 시스템은 먼지가 흡입되는 흡입구가 형성된 집진장치를 구비하는 도킹 스테이션과, 먼지 유입구와 상기 유입구로부터 유입되어 집진된 먼지를 상기 집진장치로 배출하기 위한 배출구가 형성된 먼지통을 구비하는 로봇청소기와, 상기 배출구가 상기 흡입구와 연통되도록 상기 먼지통을 이동시키는 이동장치를 포함한다.

公开(公告)号：KR101212292B1

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：KR1020070048172

申请日：2007-05-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함정윤 ,  에듀어드쿠르기 ,  정진하 ,  노지마히데오

IPC: C02F5/02 ,  C02F1/461

Abstract: 본발명에따른연수장치는이온상태인물질이통과할수 있도록다수의투과공이형성된판 형상의네트전극을포함한것으로, 네트전극은서로이격되게배치되며플러스극전원이인가되는한 쌍의제 1 네트전극과, 서로이격되게배치되며마이너스극전원이인가되는한 쌍의제 2 네트전극을포함하여, 음이온상태인물질들은제 1 네트전극들사이의공간으로이동하여물과함께배출되고양이온상태인물질들이제 2 네트전극들사이의공간으로이동하여물과함께배출되어연수가생성되므로, 이온상태인물질들이전극에흡착되지않아재생작업을수행할필요가없으며그에따라연수장치의처리용량이증가되게되는효과가있다.

公开(公告)号：KR101211501B1

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：KR1020070049220

申请日：2007-05-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함정윤 ,  에듀어드쿠르기 ,  정진하 ,  노지마히데오

IPC: C02F1/469 ,  C02F1/44 ,  B01D61/02 ,  C02F1/42

Abstract: 이를위해본 발명에따른전기흡탈착식연수기는연수유로에전기장을형성하기위한복수의전극부; 상기전기장이형성되는공간에놓이여원수를역삼투압방식으로연수화하는제 1 및제 2 역삼투막부재를포함한다.

公开(公告)号：KR1020120125796A

公开(公告)日：2012-11-19

申请号：KR1020110043452

申请日：2011-05-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최진 ,  정진하 ,  블라디미르우라자에브 ,  이혜연

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/78 ,  G03F1/80 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/31764 ,  H01J2237/31776 ,  H01L21/0275 ,  G03F7/2063

Abstract: PURPOSE: An electron-beam exposure device and a method for manufacturing a reticle using the same are provided to shorten manufacturing time by exposing non-important patterns with electronic beam of large size. CONSTITUTION: A photosensitive film is coated on a blank reticle. First shot patterns within an important pattern area are exposed using first electronic beam(S14). Second shot patterns within a non-important pattern area are exposed using second electronic beam(S18). The second electronic beam comprises a cross-sectional area larger than the first electronic beam. A first mask pattern and a second mask pattern are formed by developing the photosensitive film(S22). A reticle is completed by etching the blank reticle using the first mask pattern and the second mask pattern. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) A blank reticle is loaded on a stage; (S12) The size of a first opening of a first aperture is controlled; (S14) First shot patterns within an important pattern region are exposed with a first electronic beam created by being passed the first opening; (S16) The size of the first opening of the first aperture is controlled to be increased; (S18) Second shot patterns within a non-important region are exposed with a second electronic beam created by being passed the first opening; (S20) The second shot patterns are repeatedly exposed; (S22) First and second mask patterns are formed by developing a photosensitive film; (S24) A reticle is formed by performing an etching process

Abstract translation: 目的：提供电子束曝光装置和使用其的掩模版的制造方法，以通过用大尺寸的电子束曝光非重要图案来缩短制造时间。 构成：将感光膜涂覆在空白掩模版上。 使用第一电子束曝光重要图案区域内的第一拍摄图案（S14）。 使用第二电子束暴露非重要图案区域内的第二拍摄图案（S18）。 第二电子束包括大于第一电子束的横截面积。 通过使感光膜显影来形成第一掩模图案和第二掩模图案（S22）。 通过使用第一掩模图案和第二掩模图案蚀刻空白掩模版来完成掩模版。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S10）将一个空白掩模版装载在舞台上; （S12）控制第一孔的第一开口的尺寸; （S14）重要图案区域内的第一拍摄图案通过通过第一开口而产生的第一电子束曝光; （S16）控制第一孔的第一开口的尺寸增大; （S18）非重要区域内的第二射击图案通过通过第一开口而产生的第二电子束曝光; （S20）第二拍摄图案被重复曝光; （S22）通过显影感光膜形成第一和第二掩模图案; （S24）通过进行蚀刻处理来形成掩模版

公开(公告)号：KR101182455B1

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：KR1020070012390

申请日：2007-02-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서상호 ,  에듀어드쿠르기 ,  정진하 ,  이송익 ,  김중현 ,  이재원

IPC: A47L15/50 ,  A47L15/42

Abstract: 본 발명은 식기 세척기 하부 바스켓에 식기를 편리하게 넣거나 꺼내도록 하부 바스켓을 높은 위치에 고정하여 사용자가 허리를 반복적으로 굽혔다 폈다 하지 않아도 되는 식기 세척기를 제공하기 위한 것으로서, 세척조가 형성된 케이스; 상기 케이스를 개폐하는 도어; 상기 세척조 내부에서 세척할 식기를 담도록 구비되는 바스켓; 상기 바스켓을 하부에서 상부로 이동시키는 이동 장치; 및 상기 이동 장치에 연결되어 상기 바스켓을 소정 위치에 고정시키는 고정 장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.