급속 열처리 공정을 사용한 CIGS 박막의 제조방법
    51.
    发明公开
    급속 열처리 공정을 사용한 CIGS 박막의 제조방법 有权
    使用快速热处理的CIGS薄膜的制备方法

    公开(公告)号:KR1020140026678A

    公开(公告)日:2014-03-06

    申请号:KR1020120091874

    申请日:2012-08-22

    Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a CIGS thin film which does not require an additional Se supply during rapid thermal processing (RTP), by performing the rapid thermal processing after forming a Cu-In-Ga-Se precursor thin film containing a Se component. Specifically, the method for manufacturing a CIGS thin film comprises the steps of forming a Cu-In-Ga-Se precursor thin film containing selenium in a substrate (step a); and performing rapid thermal processing to the precursor thin film formed in step a at a temperature exceeding 400°C and below 600°C and at a pressure of 1 to 760 torr for 1 to 30 minutes (step b). The present invention allows the precursor thin film to contain a sufficient amount of Se in itself in the process of manufacturing the CIGS precursor thin film. Therefore the precursor thin film does not require an additional Se supply during the rapid thermal processing, thereby minimizing loss of Se from controlling the rapid thermal processing conditions and providing a high crystalline CIGS thin film.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在快速热处理(RTP)中不需要额外的Se供应的CIGS薄膜的制造方法,其特征在于,在形成含有Cu-In-Ga-Se前体薄膜的Cu-In-Ga-Se前体薄膜之后进行快速热处理 Se组件。 具体地说,制造CIGS薄膜的方法包括以下步骤:在衬底中形成含有硒的Cu-In-Ga-Se前体薄膜(步骤a)。 对步骤a中形成的前体薄膜,在超过400℃,600℃以下,1〜760托的压力下进行1〜30分钟的快速热处理(步骤b)。 本发明允许前体薄膜在制造CIGS前体薄膜的过程中本身含有足够量的Se。 因此,前体薄膜在快速热处理期间不需要额外的Se供应,从而使得Sn的损失最小化以控制快速热处理条件并提供高结晶CIGS薄膜。

    텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법 및 이에 따라 제조된 칼코게나이드계 태양전지
    54.
    发明授权
    텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법 및 이에 따라 제조된 칼코게나이드계 태양전지 有权
    具有双层纹理结构的具有纹理层和聚氯乙烯太阳能电池的聚碳酸酯太阳能电池的制造方法

    公开(公告)号:KR101334055B1

    公开(公告)日:2013-11-29

    申请号:KR1020120030083

    申请日:2012-03-23

    Abstract: 본 발명은 텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지의 제조방법에 관한 것으로서, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 텍스처층을 형성하는 단계; 상기 텍스처층에 후면전극을 형성하는 단계; 상기 후면 전극 위에 칼코게나이드계 반도체 재질의 광흡수층을 형성하는 단계; 상기 광흡수층 위에 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 위에 투명전극을 형성하는 단계; 및 상기 투명전극의 표면에 전면텍스처를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 텍스처층에 의하여 상기 후면전극의 표면에 요철이 형성되는 것을 특징으로 한다.
    본 발명에 의한 텍스처층을 포함하는 2중 텍스처 구조의 칼코게나이드계 태양전지는, 기판; 상기 기판 위에 형성된 텍스처층; 상기 텍스처층 위에 형성된 후면전극; 상기 후면 전극 위에 형성된 칼코게나이드계 반도체 재질의 광흡수층; 상기 광흡수층 위에 형성된 버퍼층; 및 상기 버퍼층 위에 형성된 투명전극을 포함하여 구성되고, 상기 텍스처층 표면의 텍스처 구조에 의하여 상기 후면전극의 표면에 요철이 형성되며, 상기 투명전극의 표면에 전면텍스처 구조가 형성된 것을 특징으로 한다.
    본 발명은 전면텍스처와 텍스처층의 2중 텍스처 구조를 구비하여 광포획 성능을 크게 증가시킴으로써, 태양전지의 광전변환효율을 향상시키는 효과가 있다.

    태양전지용 CZTSe계 박막의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 CZTSe계 박막
    55.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020130071055A

    公开(公告)日:2013-06-28

    申请号:KR1020110138361

    申请日:2011-12-20

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521 H01L31/0445 H01L31/06 H01L31/18

    Abstract: PURPOSE: CZTSe group thin film manufactured by manufacturing method of a CZTSe group and method thereof for a solar cell are provided to uniform element distribution by minimizing loss and phase separation of Sn. CONSTITUTION: Cu, Zn, Sn and Se are deposited on a substrate according to a co-evaporation process. Cu and Se are additionally deposited on the thin film. The additional deposition of Cu and Se is performed at substrate temperature of 150 to 320°C. Se is additionally deposited on the thin film at high temperature condition. The additional deposition of Se is performed at substrate temperature of 400 to 600°C.

    Abstract translation: 目的:通过CZTSe组的制造方法制造的CZTSe组薄膜及其太阳能电池的方法通过使Sn的损耗和相分离最小化来提供均匀的元件分布。 构成:根据共蒸发方法将Cu,Zn,Sn和Se沉积在基底上。 Cu和Se另外沉积在薄膜上。 Cu和Se的附加沉积在150至320℃的衬底温度下进行。 Se在高温条件下另外沉积在薄膜上。 Se的附加沉积在400至600℃的衬底温度下进行。

    패터닝된 그리드전극과 이를 적용한 박막 태양전지 및 이들의 제조방법
    58.
    发明授权
    패터닝된 그리드전극과 이를 적용한 박막 태양전지 및 이들의 제조방법 有权
    图案化栅格电极和使用其的薄膜太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:KR101628957B1

    公开(公告)日:2016-06-13

    申请号:KR1020130138965

    申请日:2013-11-15

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 본발명은박막태양전지에관한것으로, 더욱상세하게는삼각형또는사다리꼴형상으로패터닝된그리드전극과이를적용한박막태양전지의제조방법에관한것이다. 이에본 발명은박막태양전지에서의그리드전극제조방법에있어서, 투명전극층위에그리드전극층을형성하는단계, 상기그리드전극층의단면이삼각형또는사다리꼴형상을이루도록패터닝하는단계를포함하는것을특징으로하는패터닝된그리드전극의제조방법을제공한다. 본발명의삼각형또는사다리꼴형상으로패터닝된그리드전극의제조방법에따르면, 빛의반사와산란이발생하는그리드전극층의단면이삼각형또는사다리꼴형상을이룸으로써경사각이생기고, 이에투명전극층에도달할수 있는유효반사면적과유효산란면적이증대하게된다. 이로인하여투명전극층의광포획효과(light trapping)가향상되고이로인해광전변환율이높아지는효과가있다.

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