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    COMPOSICIONES QUE COMPRENDEN POLIMEROS, POLIMEROS Y SU USO.
    52.
    发明专利
    COMPOSICIONES QUE COMPRENDEN POLIMEROS, POLIMEROS Y SU USO. 未知

    公开(公告)号：MX2024006197A

    公开(公告)日：2024-06-11

    申请号：MX2024006197

    申请日：2022-11-10

    Applicant: BASF SE

    Inventor： WITTELER HELMUT ,  WOHLMUTH CATHARINA ,  HUEFFER STEPHAN ,  ROTHER-NOEDING HELEN ,  DE SWATI ,  WILLERSINN JOCHEN ECKHARD

    IPC: C11D3/37 ,  C08F126/02 ,  C08G73/02 ,  C11D1/02 ,  C11D3/386 ,  C11D11/00

    Abstract: Composición que comprende (A) al menos un polímero con un peso molecular promedio Mw de al menos 1 500 g que comprende, como unidades repetidoras, unidades estructurales según la fórmula general (I) (ver Fórmula) en donde los Z1 son iguales o diferentes y se seleccionan de entre hidrógeno y metilo, los R1 son iguales o diferentes y se seleccionan de entre alquilo de C2-C4, no sustituido o sustituido con hidroxilo o -NR2aR2b, R2a y R2b son iguales o diferentes y se seleccionan de entre alquilo de C1-C4, o los NR2aR2b forman juntos un cicloalquilenamino de C5-C6 o un grupo 1-imidazol, n se selecciona de 3 a 100, X1 se selecciona de entre O y N-R3, seleccionándose R3 de entre hidrógeno y metilo, los A1 son iguales o diferentes y se seleccionan de entre alquileno de C2-C6 y (AO)y1, seleccionándose AO de entre óxido de etileno y óxido de propileno, y combinaciones de los mismos, y siendo y1 de 2 a 200, (B) al menos un tensioactivo aniónico.

    Composição de limpeza, e, processo para limpeza de louças em uma máquina de lava-louças automática
    53.
    发明专利
    Composição de limpeza, e, processo para limpeza de louças em uma máquina de lava-louças automática 未知

    公开(公告)号：BR112021021174A2

    公开(公告)日：2022-05-24

    申请号：BR112021021174

    申请日：2020-11-05

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HUEFFER STEPHAN

    IPC: C11D3/20 ,  C11D3/33

    Abstract: composição de limpeza, e, processo para limpeza de louças em uma máquina de lava-louças automática. a presente invenção é direcionada a composições de limpeza contendo (a) pelo menos um agente quelante selecionado a partir de sais de metais alcalinos de ácido metil glicina diacético (mgda) e de ácido diacético de ácido glutâmico (glda) e de ácido cítrico, (b) um sal de metal alcalino de glicina ou alanina, em uma proporção em peso de (a):( b) de 10:1 a 1:10.

    Proceso de limpieza de vajilla
    54.
    发明专利
    Proceso de limpieza de vajilla 未知

    公开(公告)号：ES2841413T3

    公开(公告)日：2021-07-08

    申请号：ES16734712

    申请日：2016-07-06

    Applicant: BASF SE

    Inventor： GARCIA MARCOS ALEJANDRA ,  WEBER HEIKE ,  HUEFFER STEPHAN ,  REIS-WALTHER EVA-MARIA ,  DIETSCHE FRANK

    IPC: C11D1/72 ,  C08G73/02 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D3/37 ,  C11D11/00

    Abstract: Proceso de limpieza de vajilla sucia con residuos grasos, caracterizado porque dicho proceso se lleva a cabo a una temperatura en el intervalo de 45 a 65 °C utilizando al menos una formulacion, que comprende (A) al menos un agente complejante, seleccionado entre las sales de metales alcalinos del acido citrico, de los acidos aminocarboxilicos y del tripolifosfato de sodio, (B) al menos un tensioactivo no ionico de formula general (I) R1-CH(OH)-CH2-O-(AO)x-R2 (I) (C) al menos un copolimero seleccionado de polialquileniminas polialcoxiladas en donde dichas polialquileniminas polialcoxiladas contienen como maximo un 25 % en moles de unidades estructurales de oxido de etileno en sus cadenas de polialquilenoxido, en referencia a su contenido total de alquilenoxido, en donde: R1 se selecciona de alquilo C4-C30, de cadena lineal o ramificada, y de alquileno C4-C30, de cadena lineal o ramificada, con al menos un doble enlace C-C, R2 se selecciona de alquilo C1-C30, de cadena lineal o ramificada, y de alquileno C2-C30, de cadena lineal o ramificada, con al menos un doble enlace C-C, x se selecciona de uno a 100, AO oxidos de alquileno identicos o diferentes, seleccionados de CH2-CH2-O, (CH2)3-O, (CH2)4-O, CH2CH(CH3)-O, CH(CH3)-CH2-O- y CH2CH(n-C3H7)-O.

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