公开(公告)号：TWI497054B

公开(公告)日：2015-08-21

申请号：TW102107364

申请日：2005-10-05

Applicant: 皇家飛利浦電子股份有限公司 ,  KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.

Inventor： 瓦特曼 西普克 ,  WADMAN, SIPKE

IPC: G01N21/47

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01N21/4738 ,  G01N2021/4735 ,  G01N2201/0635

公开(公告)号：TWI451079B

公开(公告)日：2014-09-01

申请号：TW099115120

申请日：2010-05-12

Applicant: 高永科技股份有限公司 ,  KOH YOUNG TECHNOLOGY INC.

Inventor： 鄭仲基 ,  JEONG, JOONG KI ,  金珉永 ,  KIM, MIN YOUNG ,  柳希昱 ,  YOU, HEE WOOK

IPC: G01N21/956

CPC classification number: G06T1/0007 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/2509 ,  G01J3/50 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/95684 ,  G01N2021/95638 ,  G01N2021/95646 ,  G01N2201/0635 ,  G06T7/0008 ,  G06T7/521 ,  G06T2207/10024 ,  G06T2207/10152 ,  G06T2207/30152

公开(公告)号：JP2018523133A

公开(公告)日：2018-08-16

申请号：JP2018510315

申请日：2016-05-04

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： サリバン ジェミー ,  チュリン エフゲニー

IPC: G01B11/06 ,  H01L21/66 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8848 ,  G01N2201/0635 ,  G01N2201/104 ,  G01N2201/105 ,  G01N2201/106 ,  G02B21/002 ,  G02B21/006 ,  G02B21/06 ,  G02B26/101 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0944 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/123 ,  G02B27/425 ,  G02F1/33

Abstract: 斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームラインを生成するシステムは、照射ビームを走査するように構成されたビーム走査装置と、サンプルの表面に対して斜角で配向し、光軸がサンプル上で第1の走査方向と垂直な対物レンズと、対物レンズとビーム走査装置との間に位置決めされた1つ以上の光学素子とを備える。1つ以上の光学素子は、ビームを2本以上のオフセットビームに分割して、これら2本以上のオフセットビームが第1の方向と垂直な少なくとも第2の方向に分離されるようにする。さらに、1つ以上の光学素子は、2本以上のオフセットビームの位相特性を修正して、走査中に、2本以上のオフセットビームがサンプル上で同時に焦点が合うようにする。

公开(公告)号：JP6265858B2

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：JP2014152347

申请日：2014-07-25

Applicant: オリンパス株式会社

Inventor： 福山 宏也

IPC: G02B13/00 ,  G02B26/10 ,  G02B21/06

CPC classification number: G01N21/6458 ,  G01N2021/6478 ,  G01N2201/0635 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/0048 ,  G02B21/006 ,  G02B21/0072 ,  G02B21/16

公开(公告)号：JP2017535751A

公开(公告)日：2017-11-30

申请号：JP2017516280

申请日：2015-08-31

Applicant: インテル コーポレイション ,  インテル コーポレイション

Inventor： エス． バクシー，アミット ,  エス． バクシー，アミット ,  エス． マゲシュクマール，ヴィンセント ,  エス． マゲシュクマール，ヴィンセント

IPC: G01J3/50 ,  G01N21/78

CPC classification number: G01N21/78 ,  G01N21/251 ,  G01N21/255 ,  G01N21/80 ,  G01N2021/0181 ,  G01N2021/7773 ,  G01N2201/0627 ,  G01N2201/0635 ,  G01N2201/125 ,  G01N2201/13

Abstract: 装置及び方法は、化学パラメータの値を決定することを提供することができる。1つ以上の発光部が、ハウジングの開口を通る光を発するために、ハウジング内に配置され得る。発せられた光は、試験片、印刷された色基準等といった、ハウジングから分離可能である構造の色領域を照射することができる。色センサが、反射光を捕捉し、反射光を、色領域の色合いを決定するために使用可能であり得る初期デジタル色空間に変換するために、ハウジング内に配置され得る。反射光が、例えば、少なくとも色領域の寸法(例えば、予め定められたサイズ、形状等)とは無関係に、捕捉され得る。

公开(公告)号：JP5172153B2

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：JP2006551425

申请日：2005-01-25

Applicant: オウェンス ブロックウェイ グラス コンテナー インコーポレイテッド

Inventor： ジョン ダブリュー ジュヴィナール ,  ジェイムズ エイ リングリーン ,  スティーブン エム グラフ ,  ジー チェン ,  ウィリアム エイチ アンダーソン

IPC: G01B11/26 ,  G01B11/24 ,  G01B11/27 ,  G01N21/90

CPC classification number: G01N21/9045 ,  G01B11/26 ,  G01N21/90 ,  G01N2201/0635

公开(公告)号：JP4934274B2

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：JP2004280788

申请日：2004-09-28

Applicant: ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

Inventor： ケビン・ジョージ・ハーディング ,  シヤオピン・チエン

IPC: G01N21/55 ,  G01B11/25 ,  G01N21/21

CPC classification number: G01B11/25 ,  G01N21/21 ,  G01N2201/0635

公开(公告)号：JP2010266445A

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：JP2010111468

申请日：2010-05-13

Applicant: Koh Young Technology Inc ,  コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド

Inventor： JEONG JOONG-KI ,  KIM MIN-YOUNG ,  YOU HEE-WOOK

IPC: G01N21/956

CPC classification number: G06T1/0007 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/2509 ,  G01J3/50 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/95684 ,  G01N2021/95638 ,  G01N2021/95646 ,  G01N2201/0635 ,  G06T7/0008 ,  G06T7/521 ,  G06T2207/10024 ,  G06T2207/10152 ,  G06T2207/30152

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring method of a measuring object on a printed circuit board. SOLUTION: In order to measure the measuring object on the printed circuit board, three-dimensional height information of the printed circuit board is obtained by utilizing a first image photographed by irradiating the printed circuit board with grid pattern light by utilizing a first illumination unit. Then, a first domain projecting higher than a reference height is defined as the measuring object on the printed circuit board by utilizing the obtained height information. Thereafter, color information of the printed circuit board is obtained by utilizing a second image photographed by irradiating the printed circuit board with light generated from a second illumination unit. First color information in the first domain defined in the measuring object in the obtained color information of the printed circuit board is set as reference color information. Then, color information in a domain other than the first domain is compared with the reference color information, to thereby determine whether the measuring object is formed in the domain other than the first domain or not. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供印刷电路板上的测量对象的测量方法。 解决方案：为了测量印刷电路板上的测量对象，印刷电路板的三维高度信息是通过利用第一图像获得的，所述第一图像通过利用第一图像通过用网格图案光照射印刷电路板而拍摄 照明单元 然后，通过利用获得的高度信息，将高于参考高度的第一区域定义为印刷电路板上的测量对象。 此后，通过利用通过从第二照明单元产生的光照射印刷电路板而拍摄的第二图像来获得印刷电路板的颜色信息。 将所获得的印刷电路板的颜色信息中的测量对象中定义的第一域中的第一颜色信息设置为参考颜色信息。 然后，将与第一域以外的域中的颜色信息与参考颜色信息进行比较，从而确定测量对象是否形成在除了第一域之外的域中。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：EP3295477A1

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：EP16793208

申请日：2016-05-04

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： SULLIVAN JAMIE ,  CHURIN YEVGENIY

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/0635 ,  G01N2201/104 ,  G01N2201/105 ,  G01N2201/106 ,  G02B26/101 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/123 ,  G02F1/33

Abstract: A system to generate multiple beam lines in an oblique angle multi-beam spot scanning wafer inspection system includes a beam scanning device configured to scan a beam of illumination, an objective lens oriented at an oblique angle relative to the surface of a sample and with an optical axis perpendicular to a first scanning direction on the sample, and one or more optical elements positioned between the objective lens and the beam scanning device. The one or more optical elements split the beam into two or more offset beams such that the two or more offset beams are separated in a least a second direction perpendicular to the first direction. The one or more optical elements further modify the phase characteristics of the two or more offset beams such that the two or more offset beams are simultaneously in focus on the sample during a scan.

公开(公告)号：EP2975369B1

公开(公告)日：2017-11-15

申请号：EP15166308.5

申请日：2015-05-05

Applicant: Tecan Trading AG

Inventor： Niggl, Lutz ,  Steinbacher, Andreas

IPC: G01J3/06 ,  G01J3/18

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J3/06 ,  G01J2003/062 ,  G01N21/255 ,  G01N21/64 ,  G01N2201/0635