적색 형광체 및 이를 구비한 발광 소자
    61.
    发明授权
    적색 형광체 및 이를 구비한 발광 소자 失效
    红色荧光体和包含其的发光装置

    公开(公告)号:KR100846482B1

    公开(公告)日:2008-07-17

    申请号:KR1020070005440

    申请日:2007-01-17

    Abstract: A red phosphor is provided to realize excellent light conversion efficiency and color purity, and to impart improved reliability to a light emitting device including a light emitting diode. A red phosphor is represented by the formula of (Sr1-x-y-zCaxEuyMnz)2P2O7 (wherein x= 0.1, y ranges from 0.02 to 0.03, and z ranges from 0.08 to 0.12), and has the maximum emission peak at a wavelength rage of 600 nm or higher. The red phosphor is excited by the irradiation of electromagnetic waves of a UV or near-UV range. Preferred examples of the red phosphor include (Sr0.78Ca0.1Eu0.02Mn0.1)2P2O7, (Sr0.8Ca0.1Eu0.02Mn0.08)2P2O7, (Sr0.76Ca0.1Eu0.02Mn0.12)2P2O7, or (Sr0.77Ca0.1Eu0.03Mn0.1)2P2O7.

    Abstract translation: 提供红色荧光体以实现优异的光转换效率和色纯度,并且对包括发光二极管的发光器件提高了可靠性。 红色荧光体由(Sr1-xy-zCaxEuyMnz)2P2O7(式中,x = 0.1,y为0.02〜0.03,z为0.08〜0.12)的式表示,在波长范围内具有最大的发光峰 600nm以上。 通过照射UV或近UV范围的电磁波来激发红色荧光体。 红色荧光体的优选实施例包括(Sr 0.78 Ca 0.1 O 0.02 Mn 0.1)2 P 2 O 7,(Sr 0.8.Ca 0.1E 0.02 O 0.8)2 P 2 O 7,(Sr 0.76 Ca 0.1 O 0.02 Mn 0.012)2 P 2 O 7或(SrO 3) 77Ca0.1Eu0.03Mn0.1)2P2O7。

    III-V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법
    64.
    发明授权
    III-V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법 失效
    制备GaN基III-V族化合物半导体发光器件的方法

    公开(公告)号:KR100664981B1

    公开(公告)日:2007-01-09

    申请号:KR1020040017668

    申请日:2004-03-16

    Inventor: 곽준섭 조제희

    Abstract: III - V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법에 대해 개시된다. 개시된 발광소자의 제조방법은, n형 GaN층 상에 활성층, p형 GaN층 및 p형 전극을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 n형 GaN층의 하부면에 에칭 플레이트를 배치하는 단계와, 상기 에칭 플레이트 상방으로부터 이온식각을 하여 상기 n형 GaN층의 하부면에 다수의 돌기들을 형성하는 단계와, 상기 식각된 n형 GaN층 상에 n형 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    모노리식 백색 발광소자
    65.
    发明授权
    모노리식 백색 발광소자 有权
    单片白光发光装置

    公开(公告)号:KR100664980B1

    公开(公告)日:2007-01-09

    申请号:KR1020040016473

    申请日:2004-03-11

    CPC classification number: H01L33/08 H01L33/06 H01L33/325

    Abstract: 모노리식 백색발광소자에 관해 개시한다. 발광소자는 활성층에 서브밴드를 형성하는 실리콘 또는 희토류금속이 도핑되어 있다. 활성층은 하나 또는 둘이며, 둘인 경우에는 그 사이에 크래딩레이어가 개재된다. 이러한 발광구조에 의해 백색광의 반도체 발광이 가능해지고 따라서 형광체의 도움이 필수적이지 않다. 이러한 모노리식 백색발광소자는 제작이 용이하고 저렴하다. 또한 그 응용분야가 기존의 형광체 도움에 의한 백색광 발광소자에 비해 넓다.
    모노리식, 백색광

    발광소자의 오믹컨택층 제조방법 및 이를 이용한발광소자의 제조방법
    66.
    发明公开
    발광소자의 오믹컨택층 제조방법 및 이를 이용한발광소자의 제조방법 有权
    OHMIC接触层的制备方法和采用层的发光装置

    公开(公告)号:KR1020060119159A

    公开(公告)日:2006-11-24

    申请号:KR1020050041771

    申请日:2005-05-18

    Abstract: A method for manufacturing an ohmic contact layer of a light emitting diode and a method for manufacturing a light emitting diode using the same are provided to obtain a high light transmissivity and excellent electrical characteristics. A method for manufacturing an ohmic contact layer of a light emitting diode includes a first conductive transparent material layer(100) and a second conductive material layer(120) having through holes corresponding to a plurality of islands of a nano size. The first conductive transparent material layer is formed on semiconductor material layers(50). A mask layer having the plurality of islands is formed on the first conductive transparent material layer. The second conductive material layer is formed on the first conductive transparent material layer and the islands. The islands and the second conductive material layer thereon are removed by a lift off using an etching solution.

    Abstract translation: 提供一种用于制造发光二极管的欧姆接触层的方法和使用其的发光二极管的制造方法,以获得高透光率和优异的电特性。 一种用于制造发光二极管的欧姆接触层的方法包括:第一导电透明材料层(100)和具有对应于多个纳米尺寸岛的通孔的第二导电材料层(120)。 第一导电透明材料层形成在半导体材料层(50)上。 在第一导电透明材料层上形成具有多个岛的掩模层。 第二导电材料层形成在第一导电透明材料层和岛上。 使用蚀刻溶液通过剥离除去其上的岛和第二导电材料层。

    III-V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법
    69.
    发明公开
    III-V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법 失效
    制备基于GAN的III-V族化合物半导体发光器件的方法

    公开(公告)号:KR1020050092575A

    公开(公告)日:2005-09-22

    申请号:KR1020040017668

    申请日:2004-03-16

    Inventor: 곽준섭 조제희

    Abstract: III - V 족 GaN 계 화합물 반도체 발광소자의 제조방법에 대해 개시된다. 개시된 발광소자의 제조방법은, n형 GaN층 상에 활성층, p형 GaN층 및 p형 전극을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 n형 GaN층의 하부면에 에칭 플레이트를 배치하는 단계와, 상기 에칭 플레이트 상방으로부터 이온식각을 하여 상기 n형 GaN층의 하부면에 다수의 돌기들을 형성하는 단계와, 상기 식각된 n형 GaN층 상에 n형 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    고효율 광방출 다이오드 및 그 제조방법
    70.
    发明授权
    고효율 광방출 다이오드 및 그 제조방법 失效
    具有高效率的发光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:KR100499131B1

    公开(公告)日:2005-07-04

    申请号:KR1020020062116

    申请日:2002-10-11

    CPC classification number: H01L33/22

    Abstract: 광방출 다이오드 및 그 제조방법에 관해 개시되어 있다. 여기서 본 발명은 기판과, 상기 기판 상에 형성된 n형 화합물 반도체층과, 상기 n형 화합물 반도체층 상에 형성된 활성층과, 상기 활성층 상에 형성된 p형 화합물 반도체층과, 상기 n형 화합물 반도체층과 접촉되도록 구비된 n형 전극 및 상기 p형 화합물 반도체층과 접촉되도록 구비된 p형 전극을 구비하되, 적어도 상기 활성층의 광이 방출되는 표면은 비평면으로써 연속된 곡면인 것을 특징으로 하는 광방출 다이오드 및 그 제조방법을 제공한다. 이러한 본 발명을 이용하면, 활성층 표면에서 활성층 내부로 전반사되는 광량을 줄일 수 있고, 그 결과 활성층의 광방출률이 종래보다 훨씬 높아지기 때문에 외부에서 측정되는 총광량이 증가되며, 광방출 방향의 균일도도 증가시킬 수 있다. 그리고 상기 웨이브 형상과 관련하여 별도의 공정이 추가되지 않는 이점이 있다.

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