Abstract:
열적 스트레스가 인가되어 인위적으로 결정 결함이 부여된 산화세륨 연마 입자 및 그 제조 방법과 CMP용 슬러리 조성물 및 그 제조 방법과 이들을 이용한 기판 연마 방법에 관하여 개시된다. 본 발명에서는 산화세륨 연마 입자에 결정 결함을 부여하기 위하여, 먼저 세륨 화합물을 제1 온도에서 소성(燒成)하여 산화세륨을 형성한 후, 인시튜(in-situ)로 산화세륨을 상기 제1 온도 보다 높은 온도에서 소성하여 산화세륨에 열적 스트레스를 인가한다. 산화세륨에 열적 스트레스를 인가하는 단계는 산화세륨이 형성된 후 산화세륨의 온도 하강 없이 연속적으로 행해진다. 산화세륨, 열적 스트레스, 소성, 연마 결함, 스크래치, CMP
Abstract:
가. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 이동통신 시스템에서 신규 호 및 핸드오버 되는 호의 수락을 위한 방법에 관한 기술이다. 나. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제 이동통신 시스템에서 서비스 품질에 따라 호의 수락 여부를 결정하기 위한 방법을 제공한다. 다. 발명의 해결방법의 요지 본 발명은 이동단말과 상기 이동단말과 통신할 수 있는 기지국을 포함하는 서비스 시스템의 상기 기지국에서, 상기 이동 단말로 서비스 품질에 따라 호 설정 방법으로서, 서비스 품질이 요구되는 호 설정 요구 시 가용한 채널 자원이 존재하고, 가용한 채널 자원이 존재하는 경우 남은 대역폭이 상기 서비스 품질에 따라 요구되는 전송률을 수용할 수 있는가를 검사하는 과정과, 상기 검사결과 요구된 전송률을 수용할 수 있는 경우 채널 자원을 할당하고 기지국 제어기로 승낙 응답 신호를 생성하여 전송하여 호를 수락하는 과정을 포함함을 특징으로 한다. 라. 발명의 중요한 용도 이동통신 시스템에 사용된다. 호 수락, 핸드오버, 신규 호, 이동통신 시스템.
Abstract:
본 발명은 다중-채널들의 동적 선택을 위한 스위칭 필터 모듈에 대한 것으로서, 전체 주파수 대역폭에 대해 순차적으로 인접한 2개의 채널들의 주파수 대역을 통과시키는 이중-채널 선택 필터들을 채널 수만큼 구비하고, 2경로 스위치들과 3경로 스위치들을 이용하여 상기 이중-채널 선택 필터들을 선택함으로써, 다수의 채널들 중 수신감도가 좋은 채널들을 동시에 선택하는 것을 특징으로 한다. 이러한 본 발명은 RF 모듈의 크기 및 구현 비용을 현격히 감소시키고 주파수 선택도를 증가시킬 수 있다. MULTI-CHANNEL, CHANNEL SELECTION, SWITCHABLE FILTER, WLAN, IEEE 802.11a,b
Abstract:
상부면에 도전막 패턴 접속을 위한 얼라인 및 배치 마진이 증가되고, 이웃하는 도전물들 사이의 기생 커패시터가 감소되는 반도체 장치 및 그 제조 방법이 개시되어 있다. 기판 상에 도전성 구조물들이 형성되어 있고, 상기 도전성 구조물들 상부의 양측벽을 부분적으로 감싸도록 절연막 스페이서가 형성된다. 상기 도전성 구조물들을 매립하는 절연막 구조물과, 상기 절연막 스페이서가 형성된 도전성 구조물들 사이에, 도전성 플러그가 형성되어 있다. 도전성 플러그는 하부보다 상부가 더 넓은 형상을 갖고, 상기 콘택 플러그의 상부면은 상기 도전성 구조물의 길이 방향과 수직한 방향보다 상기 도전성 구조물의 길이 방향과 평행한 방향으로 더 넓은 형상을 갖는다. 콘택 플러그의 상부 면적이 확장되어 상기 콘택 플러그와 접속하는 도전 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A polishing pad of a CMP(chemical mechanical polishing) apparatus is provided to prevent foreign substance like slurry from being deposited in a groove formed in a polishing pad by polishing a semiconductor substrate at a uniform rate. CONSTITUTION: The first groove(111) for smoothly supplying slurry to a gap between a semiconductor substrate and a polishing pad(110) is formed in the first surface for polishing the semiconductor substrate. The second groove(112) for controlling the polishing rate of the semiconductor substrate is formed in the second surface attached to a plate(120).
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a capacitor using a SOG(Spin On Glass) composition is provided to reduce the number of processes and enhance the productivity by using an SOG layer instead of a BPSG layer. CONSTITUTION: A bottom oxide layer is formed on a semiconductor substrate(100) by using an SOG solution including polysilizane. A top oxide layer is formed on the bottom oxide layer. An opening part is formed by patterning the top oxide layer and the bottom oxide layer. A conductive layer for storage electrode is formed on a lateral part of the opening part, an exposed conductive structure, and the top oxide layer. The opening part is buried by using an insulating layer. A surface of the top oxide layer is exposed by planarizing the insulating layer. The insulating layer, the top oxide layer, and the bottom oxide layer are etched. An etch-stop layer(200), a dielectric layer(300), and a conductive layer(320) are formed thereon.
Abstract:
A scheduling apparatus for a base transceiver system (BTS), determines a point of data transmission to mobile stations (MSs). The BTS includes buffers for storing data to be transmitted to the MSs. A scheduler determines a priority of each of the MSs taking into account a data rate determined depending on a channel condition between the BTS and the MSs, a required amount of transmission data, and an amount of data to be transmitted to the MSs, and determines an MS having the highest priority among the MSs, as a destination MS to which data is to be transmitted by the BTS. The scheduler increases the required amount of transmission data upon receipt of a retransmitted data packet, and decreases the required amount of transmission data after transmitting data to the MSs.
Abstract:
PURPOSE: A polishing table of CMP(Chemical Mechanical Polishing) equipment is provided to secure light transmissivity sufficient for the detection of an end point by using a polishing pad of a recessed region as a pad window. CONSTITUTION: A polishing table(4a) includes a unified polishing pad(3). The polishing pad has a flat top surface and a stepped bottom surface for defining a recessed region. A portion(3a) of the polishing pad on the recessed region is used as a pad window.
Abstract:
PURPOSE: A method and a device for controlling call acceptance according to a QoS(Quality of Service) in a mobile communication BTS(Base Transceiver System) are provided to collect call wireless channel quality information for a subscriber requesting the QoS service before controlling call acceptance, thereby reducing bad influence on subscribers getting the QoS service. CONSTITUTION: If a new QoS call is generated(S110), a BTS and an MS decide parameters related to a QoS service. The BTS analyzes a call acceptance control parameter to check whether the parameter indicates a non-QoS(S120). If so, the BTS connects a call of the MS to start a non-QoS service(S125), and if not, the BTS compares whether the number of available time slots of the BTS during a QoS service cycle is larger than the number of estimated time slots of the MS by using a DRC(Data Rate Control) basic value(S130). If not, the BTS rejects a call setup request(S135), and if larger, the BTS connects the call(S140). The BTS collects actual DRC values of the MS(S145), to calculate transmittable data slots(S150) and to compare whether the calculated transmittable data slots are larger than requested data slots(S160). If not, the BTS rejects the call setup request(S165), and if larger, the BTS starts the QoS service(S170).
Abstract:
PURPOSE: A power supply device using an earphone/microphone connection part in a portable phone is provided to present an apparatus that can be supplied power from another portable phone when the battery of a user's portable phone is completely discharged. CONSTITUTION: A plug at one end of a power supply cable(52) is inserted into the earphone/microphone connection part the first portable phone(50), and the other plug is inserted into the earphone/microphone connection part of the second portable phone(54). Accordingly the battery of the first portable phone(50) is connected with the battery of the second portable phone(54) in parallel. Therefore the user of the first portable phone(50) can make a call through the battery of the second portable phone(54) even though the battery of the first portable phone(50) is in a completely discharged state.