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公开(公告)号：KR101519920B1
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：KR1020130064987
申请日：2013-06-05
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 프린팅롤 미세패턴 형성장치 및 미세패턴 형성방법에 관한 것으로, 프린팅롤 표면에 레이저 어블레이션 방법으로 미세 홈을 형성함에 있어서 에프-세타 렌즈를 이용하여 레이저 빔의 초점이 프린팅롤의 표면에 위치하고 상기 레이저 빔의 방향이 프린팅롤 표면에 수직한 방향이 되도록 하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR101511166B1
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：KR1020130090048
申请日：2013-07-30
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 인쇄롤용실린더의감광제코팅방법이개시되어있다. 개시된인쇄롤용실린더의감광제코팅방법중 제1 관점에따르면, 실린더는수평으로배치한상태에서그 축을중심으로회전되게설치하고, 상기실린더의일단상측에위치하는스프레이어를실린더의길이방향중심을향해이동시키면서실린더의길이방향반쪽을감광제코팅하고, 상기실린더를수평상태로 180°반전시킨후 실린더의길이방향중간에위치하는스프레이어를상기일단을향해이동시키면서실린더의길이방향다른반쪽을감광제코팅하는것이다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101480162B1
公开(公告)日：2015-01-09
申请号：KR1020130092015
申请日：2013-08-02
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 별도의 포커스 측정용 레이저 설비를 구비하지 않고 가공용 레이저를 이용하여 가공 대상물의 포커스 위치를 측정할 수 있는 레이저 가공 장치 및 이를 이용한 레이저 가공 방법을 제공한다. 레이저 가공 장치는 레이저 광원, 빔 스플리터, 집속 렌즈, 및 빔 프로파일러를 포함한다. 빔 스플리터는 레이저 광원에서 방출된 레이저 빔을 반사 빔과 투과 빔으로 분리시키고, 집속 렌즈는 투과 빔을 가공 대상물로 집속시킨다. 빔 프로파일러는 가공 대상물에서 반사되어 집속 렌즈와 빔 스플리터를 거친 레이저 빔을 수광하고, 가공 대상물의 위치 변화에 따른 레이저 빔의 프로파일 변화를 측정한다.
Abstract translation: 提供了一种激光加工装置和使用该激光加工装置的激光加工方法。 根据本发明，可以通过使用处理激光而不是使用附加的焦点测量激光设备来测量处理对象的焦点位置。 激光加工装置包括：激光光源，分束器，聚焦透镜和光束轮廓仪。 分束器将从激光光源发射的激光束分离成反射光束和透射光束。 聚焦透镜将传输光束收集到处理目标。 光束轮廓仪接收由处理目标反射的激光束，并通过聚焦透镜和分束器，并且测量由处理对象的位置变化导致的激光束轮廓变化。
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公开(公告)号：KR101094381B1
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：KR1020090111049
申请日：2009-11-17
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B41F3/02
Abstract: 인쇄롤 패터닝 방법이 제공된다. 인쇄 롤러의 표면 상에 레이저 빔을 조사하여 인쇄 패턴홈을 형성하는 인쇄롤 패터닝 방법으로서, 제 1 재료로 인쇄 롤러의 표면을 형성하는 단계; 제 1 재료보다 레이저 가공성이 좋은 제 2 재료를 제 1 재료로 형성된 인쇄 롤러의 표면에 소정의 두께로 코팅하는 단계 및 제 2 재료 상에 레이저 빔을 소정의 패턴 형태로 조사하여 상기 패턴 형태에 따라 제 2 재료를 제거함으로써, 인쇄 롤러의 표면 상에 인쇄 패턴홈을 형성하는 단계를 포함하되, 인쇄 패턴홈을 형성하는 단계에서는 제 2 재료가 인쇄 롤러의 표면으로부터 패턴 형태에 따라 완전히 제거됨으로써 제 1 재료가 외부로 노출되도록 형성되고, 인쇄 패턴홈이 제2 재료의 코팅 두께에 상응하는 깊이를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 패터닝 방법을 이용하여 인쇄롤을 패터닝할 경우, 인쇄 패턴홈의 깊이를 일정하게 가공할 수 있어 기판으로 전이되는 잉크의 양을 일정하게 조절할 수 있다.
인쇄롤, 패터닝, 잉크, 기판, 레이저, 인쇄전자소자-
公开(公告)号：KR1020090056101A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：KR1020070123093
申请日：2007-11-29
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: A manufacturing method of a hair structure through laser drilling is provided to produce elaborate micro hair structure by gaining a clean and elaborate ciliary processing surface through a laser beam ablation process. A manufacturing method of a hair structure through laser drilling comprises the following steps of: preparing a plurality of metal substrates having the same size(S100); forming a plurality of ciliary paths in parallel by irradiating a laser beam on one side of each metal substrate(S200); producing a metal frame by laminating a plurality of metal substrates to one side(S300); producing the hair structure by injecting a plastic compound into the ciliary path(S400); and separating the hair structure from the metal frame(S500).
Abstract translation: 提供通过激光钻孔的头发结构的制造方法，以通过激光束烧蚀过程获得清洁且精细的纤毛处理表面来产生精细的微发结构。 通过激光钻孔的头发结构的制造方法包括以下步骤：制备具有相同尺寸的多个金属基底（S100）; 通过在每个金属基板的一侧照射激光束来形成多个睫状路径（S200）; 通过将多个金属基板层压到一侧来生产金属框架（S300）; 通过将塑料化合物注射到纤毛路径中来产生头发结构（S400）; 并将毛发结构与金属框架分开（S500）。
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公开(公告)号：KR100633019B1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：KR1020040112158
申请日：2004-12-24
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 5인치 이상의 대면적을 갖는 기판에 대하여 미세 임프린트 리소그래피 공정을 수행하는데 있어서, 임프린트된 기판으로부터 스탬프를 또는 스탬프로부터 임트린트된 기판을 원활히 이격시킬 수 있는 미세 임프린트 리소그래피 공정을 제공하는 것이다.
이를 위하여 본 발명은 미세 구조물을 임프린트할 기판과, 미세 구조물 패턴이 형성된 스탬프 그리고 상기 기판 또는 스탬프를 지지하는 스테이지를 준비하는 단계;와 상기 기판의 상부에 레지스트를 도포하고 레지스트에 상기 스탬프의 미세 구조물 패턴을 임프린트하는 단계; 그리고 상기 임프린트된 기판과 상기 스탬프를 공기압이나 진공을 이용하여 이격시키는 단계; 를 포함하는 미세 임프린트 리소그래피 공정에서 스탬프와 기판을 이격하는 방법을 제공한다.
미세 임프린트 리소그래피, 기판, 스탬프, 이격공정, 공기노즐, 단차Abstract translation: 本发明是提供一种微压印光刻工艺，其可以在执行关于微压印光刻工艺，以具有比5英寸的面积更基板，顺利地从IM树精基板从压印基板或印模分离从印模 。
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公开(公告)号：KR100590727B1
公开(公告)日：2006-06-19
申请号：KR1020040012192
申请日：2004-02-24
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B82Y30/00 , B81C1/0046 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10T428/24917
Abstract: 본 발명에서 제공하는 나노임프린트 리소그래피 공정을 도입한 미세접촉 인쇄 방법은, 일 태양에서 나노임프린트 리소그래피 공정을 이용해서 기판 위에 나노 구조물을 형성하는 단계;와, 상기 미세접촉 인쇄 방법으로 패터닝하는 단계로 이루어지며, 상기 패터닝 단계가, 상기 나노 구조물에 금속 박막을 증착하는 단계; 자기조립 단층막(SAM: Self-Assembled Monolayer)이 잉킹(inking)된 스탬프와, 상기 금속 박막이 증착된 나노 구조물을 접촉시켜 상기 자기조립 단층막을 나노 구조물에 선택적으로 인쇄하는 단계; 상기 자기조립 단층막을 마스크(mask)로 상기 금속 박막을 선택적으로 제거하는 단계; 나노 구조물에서 상기 자기조립 단층막을 제거하는 단계; 그리고, 상기 나노 구조물에 잔존하는 금속 박막을 마스크로 사용해서 상기 기판을 패터닝(patterning)하는 단계;를 포함해서 이루어진다.
미세접촉인쇄, 임프린트, 리소그래피, 나노, 스탬프
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