公开(公告)号：CN105873975A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201480071817.6

申请日：2014-12-18

Applicant: 道康宁公司

Inventor： V·克莱瑞奇 ,  M·巴瑟

IPC: C08G59/22 ,  C08G59/62 ,  C09D163/00

CPC classification number: C10M169/047 ,  B05D1/005 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  C08G59/22 ,  C08G59/621 ,  C09D161/06 ,  C09D163/00 ,  C10M2201/062 ,  C10M2201/065 ,  C10M2201/066 ,  C10M2209/103 ,  C10M2213/062 ,  C10M2213/0623 ,  C10M2217/0446 ,  C10M2223/042 ,  C10M2229/02 ,  F16B2001/0021 ,  C08L27/00 ,  C08L77/00 ,  C08L83/00 ,  C08L27/18 ,  C08L63/00 ,  C08L77/02 ,  C08L83/04 ,  C08K3/04 ,  C08K3/30 ,  C08L91/06

Abstract: 本发明公开了一种减摩作用涂料组合物，所述减摩作用涂料组合物包含：树脂粘结剂、聚酰胺增稠剂、溶剂和固体润滑剂，其中所述树脂粘结剂包含酚醛树脂、环氧树脂和任选的有机硅树脂的混合物。

公开(公告)号：CN105659144A

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201480058063.0

申请日：2014-10-22

Applicant: 埃西勒国际通用光学公司

Inventor： L·凯雷 ,  B·卡利耶 ,  L·茹阿尔 ,  M·梅南 ,  S·尤哈尔特诺古斯 ,  M·赖格纳特

IPC: G02B27/01 ,  G02C7/00 ,  G02C9/00 ,  G02C13/00 ,  B29D11/00 ,  F21V8/00

CPC classification number: G02B27/0176 ,  B05D1/005 ,  B29D11/00663 ,  G02B27/017 ,  G02B27/0172 ,  G02B2027/0123 ,  G02B2027/0161 ,  G02B2027/0178

Abstract: 用于将导光光学元件至少部分地封装到透明囊中的方法，该方法至少包括：-透明囊提供步骤，在该步骤过程中，提供透明囊，-导光光学元件提供步骤，在该步骤过程中，提供导光光学元件，-粘合剂沉积步骤，在该步骤过程中，将粘合剂沉积在该透明囊的面和/或该导光光学元件的面的至少一部分上，-定位步骤，在该步骤过程中，将该透明囊和该导光光学元件相对于彼此定位以便形成光学系统，-粘结步骤，在该步骤过程中，利用该粘合剂将该导光光学元件和该透明囊制成一体，其中，该方法进一步在该粘结步骤之前包括控制步骤，在该控制步骤过程中，对该光学系统的至少一个参数进行控制。

公开(公告)号：CN102759860B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201210124293.5

申请日：2012-04-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉原孝介 ,  高栁康治 ,  畠山真一 ,  川上浩平

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/0337 ,  B05C11/023 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  G06F19/00 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/6715 ,  H01L51/0003 ,  H01L2224/03418

Abstract: 本发明提供涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法。该涂敷处理装置在利用旋涂法涂敷涂敷液而形成膜时，能够控制基板面内的任意位置的膜厚，并且能够减少基板面内的膜厚偏差。该涂敷处理装置(23)通过向旋转的基板的表面供给涂敷液并使供给来的涂敷液向基板的外周侧扩散，在基板的表面涂敷涂敷液，其包括：基板保持部(31)，其用于保持基板；旋转部(32)，其用于使被基板保持部保持的基板旋转；供给部(43)，其用于向被基板保持部保持的基板的表面供给涂敷液；气流控制板(63)，其设置在被基板保持部(31)保持的基板的上方的规定位置，用于使利用旋转部进行旋转的基板的上方的气流在任意的位置局部地变化。

公开(公告)号：CN105612047A

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201480055838.9

申请日：2014-10-03

Applicant: 光学转变公司

Inventor： J·L·凯尼格二世 ,  W·比默 ,  L·E·佩斯

IPC: B29D11/00

CPC classification number: G02B5/223 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1036 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0272 ,  B05D3/144 ,  B05D7/546 ,  B29D11/00884 ,  C08G18/227 ,  C08G18/289 ,  C08G18/4063 ,  C08G18/44 ,  C08G18/6225 ,  C08G18/7831 ,  C08G18/7837 ,  C08G18/807 ,  C08G18/8175 ,  C08J7/042 ,  C08J7/123 ,  C08J2369/00 ,  C08J2433/14 ,  C08J2475/06 ,  C09D5/32 ,  C09D175/06 ,  C09K9/02 ,  C09K2211/14 ,  G02B1/14 ,  G02B5/23 ,  G02C7/102 ,  G03C1/73

Abstract: 本发明涉及一种旋转涂布机，其可以用于在光学基底上施加多个涂层成分。旋转涂布机包括：涂布机碗状物，被构造成用以收集从涂布的光学基底排出的多余的涂层材料；可旋转卡盘，被构造成用以在涂布期间接纳碗状物中的光学基底并使光学基底旋转；多个涂层贮存器，每个贮存器包含涂层材料；以及可分度涂层贮存器平台，包含所述多个涂层贮存器，并且被构造成用以将所选择的贮存器分度到涂布机碗状物上方的分配位置中。旋转涂布机可以包括或关联有至少一个固化工位，其中每个固化工位独立地构造成用以至少部分地固化施加的至少一种涂层材料。每个固化工位可以包括热固化工位、UV固化工位和/或IR固化工位中的至少一个。

公开(公告)号：CN105559944A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510929040.9

申请日：2015-12-14

Applicant: 李雷

Inventor： 李雷

IPC: A61F2/07

CPC classification number: A61F2/07 ,  A61F2/82 ,  A61F2002/072 ,  A61F2220/0025 ,  A61F2250/0014 ,  A61L31/022 ,  A61L31/10 ,  A61L2420/02 ,  B05D1/005 ,  B05D1/04 ,  C08L27/16

Abstract: 本发明公开了一种覆膜血管支架，该覆膜血管支架包括模拟血管形状的第一层覆膜和套装在所述第一层覆膜的外部的支架骨架，所述支架骨架的至少部分外表面包覆有第二层覆膜；所述第一层覆膜和所述第二层覆膜相结合，使得所述支架骨架的至少部分包覆在所述第一层覆膜和所述第二层覆膜之间，其中，所述第一层覆膜和/或所述第二层覆膜为聚偏氟乙烯树脂覆膜。该覆膜支架的聚偏氟乙烯树脂覆膜降低了成本，并且具有良好的力学性能和生物性能。

公开(公告)号：CN105102505A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480019563.3

申请日：2014-03-28

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  音泽信行

IPC: C08G65/336 ,  C08L71/00 ,  C09D171/00 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D7/12 ,  B05D1/005 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  C07C43/126 ,  C07C43/137 ,  C07C43/17 ,  C07C59/135 ,  C07F7/1804 ,  C08G65/007 ,  C08G65/336 ,  C08G77/24 ,  C08G77/46 ,  C08G2650/48 ,  C09D7/40 ,  C09D171/02 ,  C09D183/08 ,  C09D183/12 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种可形成初期拒水拒油性高、耐摩擦性、指纹污染去除性、润滑性、均匀性优异的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物以及涂布液，以及具有表面层的基材及其制造方法。涉及一种以D1-Rf1-O-CH2-(CmF2mO)n-A(D1为CF3-/CF3-O-，Rf1为含有1个以上氢原子的碳数1～20的氟代亚烷基等，m为1～6，n为1～200，A为-CaF2a-B-CbH2b-SiLcR3-c，B为-CgH2gO-、-ChH2hO-C(＝O)NH-等，L为水解性基团，R为1价烃基等，a为1～5，b为1～10，c为1～3，g为1～5，h为1～5)表示的含氟醚化合物，以及具有由含有该含氟醚化合物的含氟醚组合物形成的表面层的基材及其制造方法。

公开(公告)号：CN104952704A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201410114618.0

申请日：2014-03-25

Applicant: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

Inventor： 章国伟

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种涂层的形成方法，包括：提供半导体衬底，向半导体衬底表面喷洒涂层材料，所述涂层材料具有第一流动性；采用第一速率旋转半导体衬底进行第一旋涂工艺，使涂层材料覆盖于半导体衬底表面；对半导体衬底进行第一烘烤处理，形成第一材料层以及第二材料层，第一材料层的材料具有第二流动性，且第二流动性小于第一流动性；采用第二速率旋转半导体衬底进行第二旋涂工艺，使第二材料层的材料在第一材料层表面流动，形成具有均匀厚度的第三材料层；对半导体衬底进行第二烘烤处理，形成位于半导体衬底表面的涂层。本发明形成厚度均匀且固化的第一材料层后，进行第二旋涂工艺形成具有均匀厚度的第三材料层，提高形成的涂层的厚度均匀性。

公开(公告)号：CN104854205A

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201380066230.1

申请日：2013-12-13

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 染谷安信 ,  若山浩之 ,  远藤贵文 ,  坂本力丸

IPC: C09D201/00 ,  B05D1/38 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  C09D5/00 ,  C09D125/00 ,  C09D139/04 ,  C09D145/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08J5/18 ,  B05D1/005 ,  B05D1/322 ,  B05D3/0254 ,  C08F212/32 ,  C08J2325/02 ,  C08J2325/08 ,  C08J2325/14 ,  C08J2333/12 ,  C08J2339/04 ,  C09D139/04 ,  C09D145/00 ,  C09D153/00 ,  C09D201/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24802 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/325 ,  C08F220/20 ,  C08F212/14 ,  C08F226/06 ,  C08F220/14 ,  C08F212/06

Abstract: 本发明的课题是提供一种不会与上层的自组装膜发生互混(层混合)而在自组装膜上形成垂直图案的自组装膜的下层膜。解决手段是一种自组装膜的下层膜形成用组合物，其特征在于，含有在聚合物的全部结构单元中具有0.2摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物结构单元的聚合物。所述聚合物为聚合物在全部结构单元中具有20摩尔％以上的芳香族乙烯基化合物的结构单元，且芳香族乙烯基化合物在全部结构单元中具有1摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物的结构单元的聚合物。所述芳香族乙烯基化合物包含可分别被取代的乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑，所述多环芳香族乙烯基化合物为乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑。另外，所述芳香族乙烯基化合物包含可被取代的苯乙烯、和可分别被取代的乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑，多环芳香族乙烯基化合物为乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑。

公开(公告)号：CN104703934A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201380041026.4

申请日：2013-07-11

Applicant: 剑桥实业有限公司

Inventor： 斯蒂芬·古林 ,  尤瑞其·斯特林

IPC: C03C1/00 ,  C03C17/00 ,  C08J7/04 ,  G02B1/113

CPC classification number: C09D153/00 ,  B01J21/063 ,  B01J35/0013 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J35/1057 ,  B01J35/1061 ,  B01J35/1066 ,  B01J37/0018 ,  B01J37/0215 ,  B01J37/0219 ,  B05D1/005 ,  B05D5/08 ,  C03C1/008 ,  C03C17/007 ,  C03C17/009 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/452 ,  C03C2217/477 ,  C03C2217/48 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/732 ,  C08J7/045 ,  C08J2383/04 ,  C09D5/006 ,  G02B1/111 ,  G02B1/113 ,  G02B1/18 ,  G02B27/0006 ,  G02B2207/107

Abstract: 本发明涉及一种衬底的涂层，尤其涉及一种抗反射涂层(ARCs)和自净涂层(SCCs)。所述涂层包含一个介孔的无机骨架，所述骨架内和/或骨架上含有光催化微粒，所述涂层的孔隙率大于50v/v％，优选的，大于55v/v％、60v/v％、65v/v％、70v/v％。

公开(公告)号：CN104485294A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201410766550.4

申请日：2014-12-12

Applicant: 浙江中纳晶微电子科技有限公司

Inventor： 唐昊 ,  张周杰

IPC: H01L21/60

CPC classification number: B05D1/28 ,  B05D1/005 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/30 ,  B05D1/32 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381 ,  H01L24/89 ,  H01L24/98 ,  H01L2224/89 ,  H01L2224/98

Abstract: 本发明提出一种晶圆临时键合及分离的方法，所述键合方法包括以下步骤：S1、在载体晶圆正面制作一层隔离膜；S2、将带有隔离膜的载体晶圆的正面与功能晶圆之间涂覆键合胶，将功能晶圆和载体晶圆键合在一起；所述分离方法包括以下步骤：S3、将载体晶圆与隔离膜连同键合胶以及功能晶圆一起分离；S4、从功能晶圆上的键合胶上剥离隔离膜；S5、清洗功能晶圆表面上的键合胶，完成晶圆的分离。采用这种方法成本较低、工艺简单而且成功率和效率都非常高。