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公开(公告)号:CN104919579B
公开(公告)日:2018-02-06
申请号:CN201380046832.0
申请日:2013-07-09
Applicant: 蚌埠玻璃工业设计研究院
IPC: H01L21/673
CPC classification number: B05D1/60 , B05C5/001 , H01L21/67353 , H01L21/67393
Abstract: 本发明涉及一种用于处理被覆层的基质的工艺盒,其带有以下特征:可气密地封闭的壳体,其形成空腔;该壳体包括至少一个壳体截段,其构造成使得基质通过射到该壳体截段上的电磁热辐射可热处理;该壳体具有可与用于其冷却的冷却装置联结的至少一个壳体截段和至少一个不可冷却的壳体截段;空腔被至少一个间隔壁划分成用于容纳基质的处理腔和中间腔,其中,间隔壁具有一个或多个开口且布置在基质与可调温的壳体截段之间;壳体设有通到空腔中的、可封闭的至少一个气体通引部用于排空和将过程气体引入空腔中。此外,其涉及用于处理被覆层的基质的组件和方法,在其中工艺盒的至少一个壳体截段在热处理期间和/或之后被冷却且通过设有一个或多个开口的间隔壁来阻碍在热处理期间所产生的气态物质扩散至被调温的壳体截段,间隔壁布置在被覆层的基质与被调温的壳体截段之间。
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公开(公告)号:CN107652858A
公开(公告)日:2018-02-02
申请号:CN201710813865.3
申请日:2017-09-11
Applicant: 清华大学
IPC: C09D165/04 , C09D5/08 , C08G61/02 , B05D1/00
CPC classification number: C09D165/04 , B05D1/60 , C08G61/025 , C08G2261/11 , C08G2261/3424 , C09D5/08
Abstract: 本发明公开了一种器件的后处理方法,用于在器件上形成防护层,其包括步骤:S10、将所述器件在真空环境下进行偶联反应,在所述器件的表面上形成偶联剂分子的自限分子层;S20、在所述器件的表面上形成聚合物涂层。本发明的后处理方法具有如下优点:处理后的几乎不影响器件尺寸,能较好地保留器件原有性能,并且成本低、工艺简单、防护可靠、安全、以及具有较高的疲劳强度等。
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公开(公告)号:CN107649346A
公开(公告)日:2018-02-02
申请号:CN201710991104.7
申请日:2017-10-20
Applicant: 重庆大学
IPC: B05D5/00 , B05D7/24 , B05D1/00 , C09D5/00 , C09D183/04
CPC classification number: B05D5/00 , B05D1/60 , B05D7/24 , B05D7/54 , B05D2451/00 , B05D2518/12 , C09D5/00 , C09D183/04 , B05D2420/01
Abstract: 本发明公开了一种PDMS燃烧法制备超疏水表面的方法及燃烧室,按照如下步骤完成:步骤1)、将聚二甲基硅氧烷(PDMS)与固化剂混合均匀得到粘稠胶体,用上述粘稠胶体在基底材料上均匀涂上一层PDMS薄膜,剩余的PDMS粘稠胶体加热固化成PDMS块;步骤2)、将带PDMS膜的基底材料覆盖在燃烧室的上方,其中PDMS薄膜朝下,将PDMS块置于燃烧室内燃烧,让PDMS燃烧产生的烟在上升过程中遇到PDMS薄膜,并被均匀粘附在PDMS薄膜上;步骤3)、将基底材料取出,固化得到稳固超疏水表面。与现有技术相比,本发明的方法制作工艺简单,疏水颗粒附着强度高,不易脱落,疏水性持续时间长。本发明的燃烧室结构简单,制作容易,成本低。
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公开(公告)号:CN107406692A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201680007573.4
申请日:2016-01-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor: 陈爽
CPC classification number: C09D5/1681 , B05D1/60 , B05D5/083 , B05D2350/63 , C09D5/00 , C09D5/16 , C12N1/20
Abstract: 本发明提供一种用于处理基底的表面的方法,方法包括:a)使微生物在待处理的基底的表面上生长以形成微生物结构层,其中微生物选自真菌、藻类、地衣及其任何组合;和b)涂覆微生物结构以在上面形成第一涂层,其中第一涂层具有不超过1μm的厚度。本发明还提供一种物品,包括任选地通过使用本发明的方法制成的微生物结构层。
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公开(公告)号:CN107309152A
公开(公告)日:2017-11-03
申请号:CN201610997629.7
申请日:2016-11-11
Applicant: 三星显示有限公司
Inventor: 岸本克史
CPC classification number: B05D1/60 , B05D3/0466 , B05D3/0473 , H01L51/0008 , H01L51/0026 , H01L51/56 , H01L2227/323 , B05D3/0493 , B05B13/0278
Abstract: 公开了真空干燥设备和制造膜的方法,真空干燥设备包括:腔;衬底安装板,布置在腔中;挡板,在腔中布置在衬底安装板之上,挡板与衬底安装板间隔开并且面对衬底安装板,并且具有多个通孔;气体分配管,在腔中布置在挡板之上;以及多个喷嘴尖部,从气体分配管伸出并且穿透挡板的通孔,多个喷嘴尖部配置为向衬底安装板喷射气体。
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公开(公告)号:CN104781263B
公开(公告)日:2017-10-17
申请号:CN201380042311.8
申请日:2013-03-01
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor: 托马斯·P·克伦 , 艾伦·K·纳赫蒂加尔 , 约瑟夫·C·斯帕尼奥拉 , 马克·A·勒里希 , 詹妮弗·K·施诺布利希 , 盖伊·D·乔利 , 克里斯托弗·S·莱昂斯
CPC classification number: C09D143/04 , B05D1/60 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/101 , B32B27/308 , B32B2250/04 , B32B2307/7242 , B32B2307/7244 , C07F7/1804 , C08F130/08 , C08J7/045 , C08J2333/12 , C08K3/34 , C09D133/14 , C09D135/02 , C09J133/14 , C23C14/08 , C23C14/34 , C23C16/40 , C23C16/44 , H01L51/004 , H01L51/107 , H01L51/448 , H01L51/5253 , Y10T428/1064 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , Y10T428/31609 , Y10T428/31663
Abstract: 本公开描述了脲(多)‑(甲基)丙烯酸酯(多)‑硅烷前体化合物,所述化合物通过具有异氰酸酯官能团的(甲基)丙烯酸酯化材料与纯的或溶剂中的氨基硅烷化合物的反应而合成,并且任选地用催化剂诸如锡化合物来加速所述反应。本公开还描述了制品,其包括基底、所述基底的主表面上的基础(共)聚合物层、所述基础(共)聚合物层上的氧化物层;以及所述氧化物层上的保护性(共)聚合物层,所述保护性(共)聚合物层包含至少一种脲(多)‑(甲基)丙烯酸酯(多)‑硅烷前体化合物的反应产物,所述脲(多)‑(甲基)丙烯酸酯(多)‑硅烷前体化合物通过具有异氰酸酯官能团的(甲基)丙烯酸酯化材料与氨基硅烷化合物的反应而合成。所述基底可为(共)聚合物膜或电子器件,诸如有机发光器件、电泳发光器件、液晶显示器、薄膜晶体管、或它们的组合。本公开描述了制备所述脲(多)‑(甲基)丙烯酸酯(多)‑硅烷的方法及其在复合膜和电子器件中的用途。
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公开(公告)号:CN104870687B
公开(公告)日:2017-08-11
申请号:CN201380067246.4
申请日:2013-12-18
Applicant: 吉列有限公司
IPC: C23C16/455 , B05D1/00 , B26B21/60 , C23C16/46
CPC classification number: B05D1/60 , B05D5/083 , C23C16/45568 , C23C16/4557 , C23C16/463
Abstract: 本发明提供了一种用于在结构体的表面上形成碳氟聚合物的方法。引导原料气体通过多孔加热构件,所述构件具有的温度足以裂解所述原料气体并产生位于邻近在其上形成碳氟聚合物的结构体表面的位置处的反应性物质,所述反应性物质包含(CF2)n基团,其中n=1或2。保持结构体表面的温度低于多孔加热构件的温度,从而引起(CF2)n基团(其中n=1或2)在结构体表面上的沉积和聚合。
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公开(公告)号:CN106255555A
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201580011232.X
申请日:2015-02-24
Applicant: P2I有限公司
CPC classification number: B05D7/22 , B05D1/62 , B05D3/0493 , B05D3/145 , B05D1/00 , B05D1/60 , B05D7/24 , B05D2502/00 , B05D2401/40
Abstract: 本发明公开了一种将涂层施加到设备的方法,设备包括设有一个或多个收容于壳体中的零件。将液体涂层前体施加在至少部分壳体的内表面和/或至少部分壳体内的一个或多个零件上。对封闭的壳体施加低压条件,使得液体涂层前体蒸发并引发液体涂层前体,使得在设备的至少部分内表面上形成涂层。
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公开(公告)号:CN103305794B
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201310231659.3
申请日:2013-06-09
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
CPC classification number: H01L51/0013 , B05B5/001 , B05B5/0255 , B05B5/03 , B05B5/0533 , B05B5/057 , B05D1/007 , B05D1/60 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/30 , C23C14/32 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种有机镀膜装置及方法,包括:蒸镀设备、电子发射装置和喷淋设备;其中蒸镀设备包括蒸发容器,蒸发容器为线性蒸发容器,从蒸发容器中产生均匀的有机气体;电子发射装置水平设置在蒸发容器的上方,使得从蒸发容器蒸发出的有机气体均匀带电,得到带电的有机气体;喷淋设备通过电场的作用力使得带电的有机气体往背板运动,在背板上形成有机膜。本发明通过将蒸发的有机气体均匀带电,提高有机材料的利用率,再利用电场对带电的有机气体进行加速,并从喷淋设备中将有机气体均匀喷出,通过掩膜沉积在背板上,提高成膜的精度和速率,大面积成膜时保证膜的均匀性。
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公开(公告)号:CN105209899A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201480019830.7
申请日:2014-04-04
IPC: G01N27/64
CPC classification number: H01J49/0418 , B05D1/60 , B05D3/107 , B05D7/5483 , H01J49/0004
Abstract: 在导电性载玻片上粘贴生物组织切片等样品(S1)后,通过真空蒸镀,形成覆盖样品的适当的基质(Matrix)物质膜层(S2)。该膜层中的基质物质的结晶非常细,均匀性也高。接着,将形成有基质膜层的载玻片置于气化溶剂气氛中,使溶剂浸润到基质膜层中(S3)。充分浸润的溶剂气化时,样品中的测定对象物质进入基质中而再结晶化。另外,通过真空蒸镀,在其表面再次形成基质膜层(S4)。追加的基质膜层会在MALDI时吸收激光的过剩能量,抑制测定对象物质的改性等,因此在具有高空间分辨率的同时可以实现高检测灵敏度。
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