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公开(公告)号:KR1020130016255A
公开(公告)日:2013-02-14
申请号:KR1020127026340
申请日:2011-03-10
Applicant: 존슨 앤드 존슨 비젼 케어, 인코포레이티드
CPC classification number: B29D11/00865 , B05D3/04 , B05D3/0433 , B05D3/0453 , B29D11/00009 , B29D11/00923 , B33Y80/00 , G02C7/04 , B29D11/00951 , B29L2011/0016
Abstract: 본 발명은 렌즈 전구체(201), 렌즈 전구체 폼 및 안과용 렌즈 중 하나 이상을 처리하기 위한 장치를 개시하고 있다. 장치는 맨드렐(212), 및 렌즈 전구체 둘레의 기상 환경을 둘러싸는 챔버(203)를 포함한다.
Abstract translation: 本发明公开了一种用于处理透镜前体,透镜前体形式和眼科镜片中的一种或多种的装置。 该装置提供对象镜片前体,镜片前体形式和眼科镜片的气相处理。
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公开(公告)号:TW201635874A
公开(公告)日:2016-10-01
申请号:TW104142382
申请日:2015-12-17
Applicant: ASM IP控股公司 , ASM IP HOLDING B.V.
Inventor: 塔勒 約翰 , TOLLE, JOHN , 古德曼 馬修 G. , GOODMAN, MATTHEW G.
IPC: H05K3/00
CPC classification number: H01L21/0206 , B05D3/002 , B05D3/02 , B05D3/04 , B05D3/0433 , H01L21/02041 , H01L21/02046 , H01L21/306
Abstract: 在一些實施例中,一種用於積體電路製造之方法包括自基板之表面移除氧化物材料,其中所述表面包括矽及鍺。移除所述氧化物材料包括將含鹵素的預清潔材料沉積於含氧化矽的表面上,且昇華所述含鹵素的預清潔材料之一部分以暴露所述表面上之矽。將鈍化膜沉積於暴露矽上。所述鈍化膜可包括氯。所述鈍化膜可防止矽表面受來自稍後昇華之化學物質污染,其中稍後昇華可在高於較早昇華之溫度下。隨後,使所述含鹵素的預清潔材料之剩餘部分及所述鈍化膜昇華。隨後可將諸如導電材料之目標材料沉積於基板表面上。
Abstract in simplified Chinese: 在一些实施例中,一种用于集成电路制造之方法包括自基板之表面移除氧化物材料,其中所述表面包括硅及锗。移除所述氧化物材料包括将含卤素的预清洁材料沉积于含氧化硅的表面上,且升华所述含卤素的预清洁材料之一部分以暴露所述表面上之硅。将钝化膜沉积于暴露硅上。所述钝化膜可包括氯。所述钝化膜可防止硅表面受来自稍后升华之化学物质污染,其中稍后升华可在高于较早升华之温度下。随后,使所述含卤素的预清洁材料之剩余部分及所述钝化膜升华。随后可将诸如导电材料之目标材料沉积于基板表面上。
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63.用於氣相處理眼用裝置之設備 APPARATUS FOR VAPOR PHASE PROCESSING OPHTHALMIC DEVICES 审中-公开
Simplified title: 用于气相处理眼用设备之设备 APPARATUS FOR VAPOR PHASE PROCESSING OPHTHALMIC DEVICES公开(公告)号:TW201136754A
公开(公告)日:2011-11-01
申请号:TW100108206
申请日:2011-03-11
Applicant: 壯生和壯生視覺關懷公司
IPC: B29D
CPC classification number: B29D11/00865 , B05D3/04 , B05D3/0433 , B05D3/0453 , B29D11/00009 , B29D11/00923 , B33Y80/00 , G02C7/04
Abstract: 本發明揭露一種用於處理一鏡片前驅物、一鏡片前驅物形式與一眼用鏡片中之一或多者之設備。該裝置可用於進行目標鏡片前驅物、一鏡片前驅物形式與一眼用鏡片之氣相處理。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露一种用于处理一镜片前驱物、一镜片前驱物形式与一眼用镜片中之一或多者之设备。该设备可用于进行目标镜片前驱物、一镜片前驱物形式与一眼用镜片之气相处理。
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64.用於形成氧化矽類絕緣層的組成物、用於形成氧化矽類絕緣層的組成物的製造方法、氧化矽類絕緣層及氧化矽類絕緣層的製造方法 有权
Simplified title: 用于形成氧化硅类绝缘层的组成物、用于形成氧化硅类绝缘层的组成物的制造方法、氧化硅类绝缘层及氧化硅类绝缘层的制造方法公开(公告)号:TWI526487B
公开(公告)日:2016-03-21
申请号:TW102146789
申请日:2013-12-18
Applicant: 第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
Inventor: 尹熙燦 , YUN, HUI-CHAN , 郭澤秀 , KWAK, TAEK-SOO , 金美英 , KIM, MI-YOUNG , 林相學 , LIM, SANG-HAK , 韓權愚 , HAN, KWEN-WOO , 金古恩 , KIM, GO-UN , 金奉煥 , KIM, BONG-HWAN , 金相均 , KIM, SANG-KYUN , 羅隆熙 , NA, YOONG-HEE , 朴銀秀 , PARK, EUN-SU , 裵鎭希 , BAE, JIN-HEE , 宋炫知 , SONG, HYUN-JI , 李漢松 , LEE, HAN-SONG , 洪承希 , HONG, SEUNG-HEE
IPC: C08K5/5445 , C08L83/16 , C08L83/05 , C09D183/05 , B32B9/00
CPC classification number: C09D1/00 , B05D3/02 , B05D3/0254 , B05D3/0433 , C08G77/62 , C09D183/14 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01B3/303 , H01B3/46 , H01L21/02126 , H01L21/02164 , H01L21/02214 , H01L21/02216 , H01L21/02219 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02326 , H01L21/02337
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公开(公告)号:TWI511870B
公开(公告)日:2015-12-11
申请号:TW100108206
申请日:2011-03-11
Applicant: 壯生和壯生視覺關懷公司 , JOHNSON & JOHNSON VISION CARE, INC.
Inventor: 恩斯 約翰 , ENNS, JOHN B. , 維德曼 麥克 , WIDMAN, MICHAEL F. , 伍德 喬 , WOOD, JOE M. , 鮑威爾 皮馬克 , POWELL, P. MARK , 金特拉森 楚 , KINDT-LARSEN, TURE
IPC: B29D11/00
CPC classification number: B29D11/00865 , B05D3/04 , B05D3/0433 , B05D3/0453 , B29D11/00009 , B29D11/00923 , B33Y80/00 , G02C7/04
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66.用於形成氧化矽類絕緣層的組成物、用於形成氧化矽類絕緣層的組成物的製造方法、氧化矽類絕緣層及氧化矽類絕緣層的製造方法 审中-公开
Simplified title: 用于形成氧化硅类绝缘层的组成物、用于形成氧化硅类绝缘层的组成物的制造方法、氧化硅类绝缘层及氧化硅类绝缘层的制造方法公开(公告)号:TW201425418A
公开(公告)日:2014-07-01
申请号:TW102146789
申请日:2013-12-18
Applicant: 第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
Inventor: 尹熙燦 , YUN, HUI-CHAN , 郭澤秀 , KWAK, TAEK-SOO , 金美英 , KIM, MI-YOUNG , 林相學 , LIM, SANG-HAK , 韓權愚 , HAN, KWEN-WOO , 金古恩 , KIM, GO-UN , 金奉煥 , KIM, BONG-HWAN , 金相均 , KIM, SANG-KYUN , 羅隆熙 , NA, YOONG-HEE , 朴銀秀 , PARK, EUN-SU , 裵鎭希 , BAE, JIN-HEE , 宋炫知 , SONG, HYUN-JI , 李漢松 , LEE, HAN-SONG , 洪承希 , HONG, SEUNG-HEE
IPC: C08K5/5445 , C08L83/16 , C08L83/05 , C09D183/05 , B32B9/00
CPC classification number: C09D1/00 , B05D3/02 , B05D3/0254 , B05D3/0433 , C08G77/62 , C09D183/14 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01B3/303 , H01B3/46 , H01L21/02126 , H01L21/02164 , H01L21/02214 , H01L21/02216 , H01L21/02219 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02326 , H01L21/02337
Abstract: 本發明揭示一種用於氧化矽類絕緣層的組成物,其包含氫化聚矽氮烷或氫化聚矽氧烷,其中重量平均分子量小於400之環狀化合物的濃度小於或等於1,200 ppm。所述用於氧化矽類絕緣層的組成物可減小氧化矽類絕緣層形成期間的厚度分佈,且由此可減少在半導體製造製程期間的化學機械拋光(chemical mechanical polishing;CMP)之後的膜缺陷。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于氧化硅类绝缘层的组成物,其包含氢化聚硅氮烷或氢化聚硅氧烷,其中重量平均分子量小于400之环状化合物的浓度小于或等于1,200 ppm。所述用于氧化硅类绝缘层的组成物可减小氧化硅类绝缘层形成期间的厚度分布,且由此可减少在半导体制造制程期间的化学机械抛光(chemical mechanical polishing;CMP)之后的膜缺陷。
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67.經酯化之木質纖維材料及其製造方法 ESTERIFIED LIGNOCELLULOSIC MATERIALS AND METHODS FOR MAKING THEM 审中-公开
Simplified title: 经酯化之木质纤维材料及其制造方法 ESTERIFIED LIGNOCELLULOSIC MATERIALS AND METHODS FOR MAKING THEM公开(公告)号:TW201114569A
公开(公告)日:2011-05-01
申请号:TW099120898
申请日:2010-06-25
Applicant: 伊士曼化學公司
Inventor: 費爾堤 賈維 尤金 二世 , 關 堤摩希L , 史班瑟 大衛 克里斯 , 艾倫 約翰 麥可
IPC: B27K
CPC classification number: C08L1/12 , B05D1/18 , B05D1/36 , B05D1/60 , B05D3/04 , B05D3/0433 , B05D3/0453 , B05D7/06 , B27K3/0271 , B27K3/0278 , B27K3/346 , B27K3/36 , B27K3/50 , B27K5/001 , C08B3/06 , C08H8/00 , C08L97/02 , Y10T428/662
Abstract: 本發明揭示製造經酯化木質纖維材料之方法及所得組合物及物品。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示制造经酯化木质纤维材料之方法及所得组合物及物品。
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