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公开(公告)号：CN102177424A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980131871.4
申请日：2009-06-15
Applicant: 维孚科技股份有限公司
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G02B1/08 , G01J4/04 , G01N21/211 , G02B5/3083 , G02B27/286
Abstract: 公开的实施例涉及对线偏振光施加空间依赖旋转的光学组件。一对光学组件可以用来在光学组件之间的区域中对线偏振光施加空间依赖旋转，并在穿过第二光学组件之后产生空间独立旋转。一对光学组件可以与波片组合使用，以允许确定椭圆偏振光束的斯托克斯参数。
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公开(公告)号：CN100541332C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200410011467.2
申请日：2004-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·M·范迪克 , D·G·弗拉格尔洛 , M·F·H·克拉亚斯森 , L·特雷格 , T·厄特迪克
CPC classification number: G03F7/70566 , G01J4/04 , G03F1/44 , G03F7/70125 , G03F7/70133 , G03F7/70591
Abstract: 本发明描述了一种方法，其用于确定通过光刻装置的投影透镜的光的偏振态。将偏振结构布置在光刻装置的投影透镜的目标侧上。通过测量经过偏振结构的光，能够确定关于投影透镜的偏振特征的信息。
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公开(公告)号：CN101218522A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024689.5
申请日：2006-06-22
Applicant: 京特·格劳
Inventor： 京特·格劳
IPC: G02B5/30 , H01L31/0232 , G01J1/42
CPC classification number: G02B5/3025 , G01J4/04 , H01L27/14625 , H04N13/341
Abstract: 本发明涉及用于加工偏振敏感的或偏振的滤镜的方法及其在用于测量入射光偏振的偏振敏感的光传感器上的应用，还涉及用于测量旋转角和强的电场或磁场的偏振敏感传感器的设计方式以及用于还原偏振信号或再现独立信号的起偏显像装置和起偏显像装置的设计方式。
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公开(公告)号：CN101120359A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200680003833.7
申请日：2006-02-01
Applicant: 因特格莱弗软件技术公司
Inventor： 希莉亚·G·惠特克
CPC classification number: G01J4/04 , G01N21/21 , G06K7/10712 , G06K2009/3225 , G06T7/11 , G06T7/136 , G06T2207/30204
Abstract: 本发明涉及一种实时检测偏振识别标记的系统和方法。提供具有多个像素的图像数据帧(110)，其中每个像素包括偏振光强度信息。根据偏振光强度信息确定每个像素的强度值(120)。选择具有强度范围内的强度值的第一部分像素(130，140)。分析第一部分中具有容许范围内的相似角度的线偏振值的像素(180)，从而检测图像数据中的偏振识别标记(190)。
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公开(公告)号：CN1272622C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200410002966.5
申请日：1999-04-21
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 森田展弘
CPC classification number: G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
Abstract: 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系统、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系统及运算装置。照射光学系统位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1680877A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200410011467.2
申请日：2004-12-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·M·范迪克 , D·G·弗拉格尔洛 , M·F·H·克拉亚斯森 , L·特雷格 , T·厄特迪克
CPC classification number: G03F7/70566 , G01J4/04 , G03F1/44 , G03F7/70125 , G03F7/70133 , G03F7/70591
Abstract: 本发明描述了一种方法，其用于确定通过光刻装置的投影透镜的光的偏振态。将偏振结构布置在光刻装置的投影透镜的目标侧上。通过测量经过偏振结构的光，能够确定关于投影透镜的偏振特征的信息。
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公开(公告)号：CN1584536A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200410063454.X
申请日：2004-07-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G02B5/3058 , G01J4/04 , G02B5/1809 , G02B5/3091 , G02B27/4222 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G02B27/4277 , G03F7/70566 , G03F7/70591
Abstract: 本发明涉及一种装置，涉及带有这样装置的光学成像系统和所属的校准方法，用于偏振特定地研究光学系统，特别是通过光学成像系统的光线的偏振状态影响，所述装置带有检测器部分，所述的检测器部分具有偏振检测器装置，用于测量从光学系统发出的光线(6)的出射偏振状态。一种根据本发明的装置含有偏振检测器装置，所述的偏振检测器装置含有偏振化光栅结构(4)。所述的偏振检测装置含有双折射元件(7)，用于光线角度依赖性地延迟改变从光学系统发出的光线，并且还带有一个后置的起偏振器元件(4)。作为可替代的选择，还提出一种用于快照偏振测量的装置，设有双折射元件和后置的起偏振器元件，这适用于充分地偏振化，即使是非准平行的，以非平行的入射角从双折射元件发来的光线。应用例如是确定通过显微照像投影物镜的紫外线光线的偏振状态影响。
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公开(公告)号：CN1165755C
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN00803726.4
申请日：2000-10-06
Applicant: 图南系统株式会社
CPC classification number: G01J4/04
Abstract: 本发明涉及一种探测极化状态(SOP)的方法和装置。本发明中介绍的装置包括一个相位延迟器和一个极化器，他们都以不同的速度旋转。用本发明中介绍的方法，可探测到穿过旋转的相位延迟器和旋转的极化器的光信号，同时对与相位延迟器和极化器的旋转频率相关的谐波分量进行分析，通过频率分量分析可获得相位延迟器上的相位延迟量以及极化状态，减少了测量误差。目前的发明的优势在于可对更大波长范围内的SOP进行测量，增加了测量的准确性。
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公开(公告)号：CN1455236A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN03110572.6
申请日：2003-04-10
Applicant: 特克特朗尼克国际销售有限责任公司
CPC classification number: G01M11/337 , G01J4/04 , G01M11/336
Abstract: 具有至少四个检波器的类型的偏振仪的高精度校准涉及使用输入光信号(校准偏振)的四个已知偏振态和至少一个其它偏振态。到偏振仪的所有输入偏振态具有统一的光信号归一化功率和统一的偏振度。用至少一个可变的校正参数产生四个校准偏振的斯托克斯矩阵，并且校正矩阵用斯托克斯矩阵和由偏振计测定的相应检波器电流矩阵确定。产生作为由偏振计测定的偏振态的偏振度的函数的优化判据。迭代变化校正参数，以便使优化判据最小化，使得偏振仪被校准以便对任何输入偏振态产生统一的功率和偏振度。
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公开(公告)号：CN1236098A
公开(公告)日：1999-11-24
申请号：CN99105149.1
申请日：1999-04-21
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 森田展弘
IPC: G01N21/43
CPC classification number: G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
Abstract: 本发明涉及双折射测定方法及其装置,该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。调整照射光学系位置,以发散光照射被检透镜,使偏振光元件回转,透过偏振光元件的光成像在受光元件上,根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出,计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像,也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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