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公开(公告)号：CN1675720A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03819527.5
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。
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公开(公告)号：CN1662999A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03814508.1
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及一种用来处理入射X射线束的光学装置，所述装置包括：·单色仪(M)和·用于调节入射光束的光学元件(20)，其反射表面能够产生二维光学效果，以便适应在单色仪目的地的光束，所述光学元件包括多层结构类型的反射X射线的表面，其特征在于：所述反射表面由单个表面组成，所述反射表面是对应两个不同方向根据两个曲率成形的。
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公开(公告)号：CN1495134A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN03154329.4
申请日：2003-08-15
Applicant: 肖特玻璃公司
CPC classification number: C03B23/0357 , C03B19/02 , C03B23/025 , C03B23/0252 , C03B32/02 , C03B40/00 , C03C10/0027 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明公开了玻璃或玻璃陶瓷的成型方法，其中玻璃陶瓷模具(12)是由起始玻璃成模制得，该起始玻璃通过热处理转化成一种热液石英玻璃陶瓷，该热液石英玻璃陶瓷主要含有热液石英混合晶体。使用所述的热液石英玻璃陶瓷模具(12)，在重力作用和高于胚件(14)的转变温度下，可将胚件下陷到模具中而制备成型体。
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公开(公告)号：KR1020120090995A
公开(公告)日：2012-08-17
申请号：KR1020127007580
申请日：2010-08-27
Applicant: 유로피언 스페이스 에이전시
Inventor： 바브다즈,마르코스
CPC classification number: G21K1/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067 , Y10T156/1002
Abstract: 본 발명은 복수의 미러 플레이트(10)와, 상기 복수의 미러 플레이트가 적층되는 베이스 플레이트(13)를 포함하는 미러 플레이트 적층체(30)를 조립하는 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 2개 이상의 미러 플레이트 적층체를 조립하여 강성 유닛으로 만드는 방법에 관한 것이다. 미러 플레이트들의 조립 정확도를 개선하기 위해, 제 1 미러 플레이트가 탑재되어 있는 베이스 플레이트(13)를 제공하는 단계, 제 2 미러 플레이트를 구비한 취급 도구를 제공하는 단계, 상기 제 2 미러 플레이트의 제 1 표면에 스페이서를 제공하는 단계, 상기 제 2 미러 플레이트를 상기 제 1 미러 플레이트에 정렬하기 위해 상기 스페이서를 구비한 상기 제 2 미러 플레이트를 포함하는 상기 취급 도구를 위치결정하는 단계―여기서, 상기 제 2 미러 플레이트가 상기 제 1 미러 플레이트의 측정된 위치 및 형상에 의거하여 상기 제 1 미러 플레이트에 대하여 정렬됨으로써, 상기 제 1 미러 플레이트의 미리 정해진 위치 및 형상에 대한 상기 제 1 미러 플레이트의 상기 측정된 위치 및 형상의 편차를 보상함―, 상기 제 1 미러 플레이트에 상기 스페이서를 접착함� ��로써 상기 제 1 미러 플레이트에 상기 제 2 미러 플레이트를 부착하는 단계―여기서, 상기 스페이서는 상기 제 1 및 제 2 미러 플레이트간의 미리 정해진 거리를 결정함―, 상기 부착된 제 2 미러 플레이트로부터 상기 취급 도구를 제거함으로써 상기 제 2 미러 플레이트의 제 2 표면을 노출시키는 단계, 및 상기 제 2 표면이 노출된 후에 상기 부착된 제 2 미러 플레이트의 위치 및 형상을 측정하는 단계를 포함하는 방법이 제안된다.
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65.发明公开ＥＵＶ 파장 범위용 미러, 이러한 미러를 포함하는 마이크로리소그래피용 대물부, 및 이러한 투영 대물부를 포함하는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치 有权用于EUV波长范围的镜像，包含这种镜子的微型计算机的投影目标和包含这种投影目标的微观计算的投影曝光装置
公开(公告)号：KR1020120037933A
公开(公告)日：2012-04-20
申请号：KR1020127000645
申请日：2010-06-01
Applicant: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
CPC classification number: G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067 , G03F7/70233
Abstract: 본 발명은, 기판(S)과 층 배열체를 포함하는 EUV 파장 범위용 미러(1a; 1b; 1c)에 있어서, 상기 층 배열체는 개별 층들의 적어도 2개의 주기(P
2 , P
3 )의 주기적 연속체로 각각 구성되는 복수의 층 서브시스템들(P'', P''')을 포함하고, 상기 주기(P
2 , P
3 )는 고 굴절률 층(H'', H''')과 저 굴절률 층(L'', L''')에 대해 다른 재료들로 이루어지는 2개의 개별 층들을 포함하고 각각의 층 서브시스템(P'', P''') 내에 인접한 층 서브시스템의 주기의 두께로부터 어긋나는 일정한 두께(d
2 , d
3 )를 가지고, 상기 기판(S)으로부터 가장 멀리 있는 상기 층 서브시스템(P''')의 첫째 고 굴절률 층(H''')이 상기 기판(S)으로부터 둘째로 가장 멀리 있는 상기 층 서브시스템(P'')의 마지막 고 굴절률 층(H'')과 직접 연속되도록, 및/또는 상기 기판(S)으로부터 가장 멀리 있는 상기 층 서브시스템(P''')이 상기 기판(S)으로부터 둘째로 가장 멀리 있는 상기 층 서브 시스템(P'')용의 주기(P
2 )의 개수(N
2 )보다 큰 주기(P
3 )의 개수(N
3 )를 갖도록, 상기 기판(S)으로부터 둘째로 가장 멀리 있는 층 서브시스템(P'')은 일련의 주기(P
2 )를 갖는 것을 특징으로 하는 EUV 파장 범위용 미러(1a; 1b; 1c)에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 미러(1a; 1b; 1c)를 포함하는 마이크로리소그래피용 투영 대물부, 이러한 투영 대물부를 포함하는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치에 관한 것이다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100809329B1
公开(公告)日：2008-03-07
申请号：KR1020060086919
申请日：2006-09-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70308 , B82Y10/00 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/706 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G03F7/70516 , G03F7/7055
Abstract: A photolithography apparatus including a mirror for correcting an aberration of an optical system and a mirror including an aberration correcting unit are provided to expend the lifetime of the photolithography apparatus by directly compensating the aberration. A light source(110) generates light. Illumination mirrors(120a-120d) transmit the light generated from the light source. A photo mask(130) receives the light transmitted from the illumination mirrors to form an optical pattern image. An optical illumination system(100) includes projection mirrors(120e-120h). The projection mirror transmits the optical pattern image formed from the photo mask to a pupil surface(140). A mirror compensates an aberration of the optical illumination system. The mirror is located on a conjugate plan optically corresponding to the pupil surface. The mirror includes an aberration compensating unit therein.
Abstract translation: 提供了包括用于校正光学系统的像差的反射镜和包括像差校正单元的反射镜的光刻设备，以通过直接补偿像差来消耗光刻设备的寿命。 光源（110）产生光。 照明镜（120a-120d）透射从光源产生的光。 光掩模（130）接收从照明反射镜发射的光以形成光学图案图像。 光学照明系统（100）包括投影镜（120e-120h）。 投影镜将由光掩模形成的光学图案图像发送到瞳孔表面（140）。 镜子补偿光学照明系统的像差。 镜子位于光学对应于瞳孔表面的共轭图上。 反射镜包括其中的像差补偿单元。
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67.发明授权
公开(公告)号：KR101561999B1
公开(公告)日：2015-10-20
申请号：KR1020107021537
申请日：2009-02-24
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Inventor： 소어,보우터안톤 , 바니네,바딤예프겐예비치 , 무어스,요한네스후베르투스요제피나 , 반헤르펜,마르텐마리누스요한네스빌헬무스 , 야쿠린,안드레이미카일로비치
CPC classification number: G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 광학요소는, 제 1 재료를포함하며제 1 파장의방사선에대해실질적으로반사적이고, 제 2 파장의방사선에대해실질적으로투과적으로구성되는제 1 층(4)을포함한다. 광학요소는, 제 2 재료를포함하며상기제 2 파장의방사선에대해실질적으로흡수적또는투과적으로구성되는제 2 층(2)을포함한다. 광학요소는, 상기제 1 층과상기제 2 층사이의제 3 재료를포함하며상기제 2 파장의방사선에대해실질적으로투과적이고상기제 1 층과대향되는상기제 2 층의최상부표면으로부터상기제 2 파장의방사선의반사를저감시키도록구성되는제 3 층(3)을포함한다. 상기제 1 층은상기제 2 층에대한입사방사선의광학경로에서상류에배치되어상기제 1 파장의방사선의스펙트럼순도를향상시킨다.
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公开(公告)号：KR1020150090048A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020157010791
申请日：2013-09-01
Applicant: 컨버젠트 알.엔.알 리미티드
Inventor： 바-데이비드,아하론 , 부쉬테인,제브 , 하렐,제브
CPC classification number: G21K1/062 , A61N5/1042 , A61N5/1084 , A61N2005/1091 , A61N2005/1095 , G21K5/04 , G21K2201/064
Abstract: 초점트랙으로서방사선패턴을형성하기위한 X-선렌즈배열체가개시된다. 패턴은방사선의하나이상의 3-차원초점트랙을포함한다. 전술된렌즈배열체는패턴및 X-선소스의세기가가중된도심을통과하는메인축선을갖는다. 렌즈배열체는연속적으로변하는롤랜드아크들의하나이상의반사표면을포함한다. 초점트랙에속하는각각의포인트는대응하는롤랜드아크에의해상기소스의방출표면을구성하는각각의요소의포인트에연결된다.
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公开(公告)号：KR101411164B1
公开(公告)日：2014-06-23
申请号：KR1020127008097
申请日：2010-09-27
Applicant: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B27/0905 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/16 , G21K2201/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 조명 광학 유닛은 조명 광학 유닛의 작동 중에 제1 파셋 광학 요소에 적용되는 편광 분포를 생성시키는 집광 거울을 포함하고, 상이한 편광을 구비하는 방사선이 적용되는 적어도 2개의 제1 파셋 요소가 있으며, 또한 제1 파셋 광학 요소는 적어도 하나의 제1 상태를 구비하며, 여기서 제1 파셋 요소의 반사 표면의 수직 벡터는 미리결정된 제1 편광 분포가 조명 광학 유닛의 작동 중에 물체 영역의 위치로 되도록 선택된다.
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公开(公告)号：KR101244243B1
公开(公告)日：2013-03-19
申请号：KR1020117011748
申请日：2009-10-20
Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 자외선 램프를 위한 반사기가 기판 처리 장치 내에서 이용될 수 있다. 반사기는 자외선 램프의 길이를 연장하는 길이 방향 스트립을 포함한다. 길이 방향 스트립은 굴곡진 반사 표면을 가지며, 자외선 램프 쪽으로 냉각 가스를 향하게 하기 위한 다수의 관통 홀을 포함한다. 반사기를 가지는 자외선 램프 모듈을 이용하는 챔버 및 자외선 처리의 방법이 또한 개시된다.
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