Abstract:
The invention relates to a Penning vacuum meter (1), comprising a cathode and an anode. According to the invention, the cathode (11) consists at least mainly of titanium in order to avoid the detrimental effects of the cathode disintegrating.
Abstract:
Eine Multi-Mode-Metall-Ionenquelle mit der Struktur einer Hohlkathoden-Sputter-Ionenquelle mit radialer Ionenextraktion wird wahlweise als Gas-Penning-Ionenquelle (PIG) oder Sputter-Penning-Ionenquelle oder Hohlkathoden-Ionenquelle (HCD) betrieben. Die Elektrodenanordnung der Ionenquelle sitzt im Bereich des Spiegelfeldes zwischen zwei Magnetpolen. Die hohlzylindrische, gekühlte Antikathode hat drei axialen Spalte, der mittlere ist für die radiale Ionenextraktion, in die beiden äußeren ragen je eine Sputterelektrode innenbündig. Eine Schalteinrichtung mit vier Schaltern beaufschlagt die Sputterelektroden und die Antikathode wahlweise mit einem vorgesehenen elektrischen Potential. Die Einrichtung zur Erzeugung des Magnetfelds ist derart gestaltet ist, dass zur Erzielung höherer Feldstärken in der Mittelebene des Luftspaltes, in Richtung der Extraktionsachse gesehen, das Längen- zu Breitenverhältnis der Polschuhfläche zur Erzeugung ausreichender Plasmadichte auf der Entladungsachse zur Initiierung des Elektronenpendeleffekts der Penningentladung
Abstract:
Eine Multi-Mode-Metall-Ionenquelle mit der Struktur einer Hohlkathoden-Sputter-Ionenquelle mit radialer Ionenextraktion wird wahlweise als Gas-Penning-Ionenquelle (PIG) oder Sputter-Penning-Ionenquelle oder Hohlkathoden-Ionenquelle (HCD) betrieben. Die Elektrodenanordnung der Ionenquelle sitzt im Bereich des Spiegelfeldes zwischen zwei Magnetpolen. Die hohlzylindrische, gekühlte Antikathode hat drei axialen Spalte, der mittlere ist für die radiale Ionenextraktion, in die beiden äußeren ragen je eine Sputterelektrode innenbündig. Eine Schalteinrichtung mit vier Schaltern beaufschlagt die Sputterelektroden und die Antikathode wahlweise mit einem vorgesehenen elektrischen Potential. Die Einrichtung zur Erzeugung des Magnetfelds ist derart gestaltet ist, dass zur Erzielung höherer Feldstärken in der Mittelebene des Luftspaltes, in Richtung der Extraktionsachse gesehen, das Längen- zu Breitenverhältnis der Polschuhfläche zur Erzeugung ausreichender Plasmadichte auf der Entladungsachse zur Initiierung des Elektronenpendeleffekts der Penningentladung
Abstract:
The invention relates to a Penning vacuum meter (1), comprising a cathode and an anode. According to the invention, the cathode (11) consists at least mainly of titanium in order to avoid the detrimental effects of the cathode disintegrating.
Abstract:
An ionization gauge of the type including a source of electrons, an accelerating electrode for accelerating said electrons through a volume generally defined by said accelerating electrode and a collector electrode, disposed in the volume. Ions are collected by the collector electrode. The accelerating electrode comprises a substantially closed anode having an internal cavity to precisely define the volume. An aperture is disposed to admit said electrons from the source into the closed volume.
Abstract:
電子を放出する陰極(6)は、ステンレス鋼からなる側壁(2)と、エミッタ層(7)の凹形エミッタ表面内の内側に小さい距離を置いて固定されるゲート(9)とに取り付けられる導電性エミッタ層(7)からなる。 陰極(6)は、円筒形の格子状の陽極(5)と、直線の軸方向のフィラメントからなる中央のイオンコレクタ(4)とを収容する反応領域(3)を取り囲んでいる。 反応領域(3)中の気体の密度を反映するイオンコレクタ電流(I IC )は、ゲート電圧(V G )をエミッタ層(7)の接地電圧とそれより高い陽極電圧(V A )との間に保持し、陽極電流(I A )が一定になるように調節しながら電流計(11)によって測定する。 エミッタ層(7)は、カーボンナノチューブ、ダイヤモンドライクカーボン、金属または金属の混合物、または例えばカーバイドまたはモリブデンでコーティングしたものでもよい半導体材料、例えばシリコンからなるものでよい。 しかし、エミッタ表面は、例えば化学エッチングによって粗くされた側壁の内面の一部であってもよい。 ゲート(9)は格子でもよく、またエミッタ部の上に分布したスペーサを覆うパッチまたは金属膜、またはエミッタ表面の上に配置した電子浸透層を覆う金属膜でもよい。