光检测装置、光检测系统及滤波器阵列

    公开(公告)号:CN113227729A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202080007486.5

    申请日:2020-01-27

    Abstract: 有关本发明的一形态的光检测装置具备:滤波器阵列,包括以二维排列的多个滤波器;以及图像传感器;上述多个滤波器包括第1滤波器及第2滤波器;上述第1滤波器及上述第2滤波器分别具有共振结构,该共振结构包括第1反射层、第2反射层以及上述第1反射层与上述第2反射层之间的中间层,并且具有模数互不相同的多个共振模;从由上述第1滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的至少1个与从由上述第2滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的上述至少1个不同;上述图像传感器包括:第1光检测元件,配置在接受透射了上述第1滤波器的光的位置;以及第2光检测元件,配置在接受透射了上述第2滤波器的光的位置。

    光检测装置、光检测系统及滤光器阵列

    公开(公告)号:CN113167649A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201980081721.0

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 有关本发明的一形态的光检测装置具备滤光器阵列和图像传感器;所述滤光器阵列是包括二维排列的多个滤光器的滤光器阵列,包含在上述多个滤光器中的第1及第2滤光器各自包括第1反射层、第2反射层及在它们之间的中间层,并且具有共振构造,该共振构造具有等级相互不同的多个共振模式,上述第1及第2滤光器的上述中间层的折射率及/或厚度根据滤光器而不同,上述第1及第2滤光器各自的透射光谱在包含于某个波段中的多个波长处具有透射率的极大值,上述多个波长与上述多个共振模式分别对应;所述图像传感器包括各自被配置在接受透射过上述多个滤光器中的1个滤光器的光的位置、对于上述波段的光具有感度的多个光检测元件。

    用于非接触式感测物质的基准开关架构

    公开(公告)号:CN112985603A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202110242820.1

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苹果公司

    Abstract: 本公开涉及用于非接触式感测物质的基准开关架构。本发明涉及用于在采样界面处测量样本(620)中的物质的浓度和类型的系统(600)和方法。所述系统(600)包括光源(602)、一个或多个光学器件(606,610,612)、一个或多个调制器(634,636)、基准(608)、检测器(630)以及控制器(640)。所公开的所述系统和所述方法能够通过在不同的测量光路之间共享一个或多个部件来考虑源自所述光源、一个或多个光学器件和所述检测器的漂移。另外,通过在所述光源与所述样本或基准之间放置一个或多个调制器,所述系统能够区分不同类型的漂移并且消除因杂散光导致的错误测量。此外,通过将检测器像素和微光学器件映射到所述样本中的位置和深度,所述系统能够沿着所述样本内的各种位置和深度检测所述物质。

    用于非接触式感测物质的基准开关架构

    公开(公告)号:CN108449957B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201680049893.6

    申请日:2016-08-29

    Applicant: 苹果公司

    Abstract: 本发明涉及用于在采样界面处测量样本(620)中的物质的浓度和类型的系统(600)和方法。所述系统(600)包括光源(602)、一个或多个光学器件(606,610,612)、一个或多个调制器(634,636)、基准(608)、检测器(630)以及控制器(640)。所公开的所述系统和所述方法能够通过在不同的测量光路之间共享一个或多个部件来考虑源自所述光源、一个或多个光学器件和所述检测器的漂移。另外,通过在所述光源与所述样本或基准之间放置一个或多个调制器,所述系统能够区分不同类型的漂移并且消除因杂散光导致的错误测量。此外,通过将检测器像素和微光学器件映射到所述样本中的位置和深度,所述系统能够沿着所述样本内的各种位置和深度检测所述物质。

    减少由改变至少一环境特征引起的漂移的方法

    公开(公告)号:CN112161947A

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN202011025684.2

    申请日:2016-02-23

    Abstract: 一种减少由改变至少一环境特征引起的漂移的方法,包含将自场景的辐射通过成像形成光学部件聚焦至检测器的第一区域,以产生第一像素信号,所述成像形成光学部件定位在第一外壳体积内;定位辐射源靠近所述成像形成光学部件;从所述辐射源投射辐射至所述检测器的第二区域,以产生第二像素信号,所述检测器的第一区域及第二区域是非重叠区域,在所述场景的辐射聚焦在所述检测器的第一区域上的持续时间内,从所述辐射源的辐射连续投射至所述检测器的第二区域;及基于预定函数修改所述第一像素信号,以产生修改像素信号,所述预定函数定义通过变化环境特征引起第二像素信号的变化及第一像素信号的变化之间的关系。本发明可以克服现有技术中的缺点。

    光学感测装置和用于制造光学感测装置的方法

    公开(公告)号:CN111164394A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201880062990.8

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 光学感测装置(10)包括光电探测器阵列(11),包括至少一个第一光电探测器(12)和至少一个第二光电探测器(13),光电探测器阵列(11)设置在半导体衬底(14)上。光学感测装置(10)还包括滤波叠层(15),设置在衬底(14)上,并且覆盖光电探测器阵列(11)。滤波叠层(15)包括至少两个第一下部电介质镜(16)和至少两个第二下部电介质镜(17),其中第一和第二下部镜(16、17)设置在第一光电探测器(12)上,并且第一和第二下部镜(16、7)设置在第二光电探测器(13)之上,并且其中第一下部镜(16)在垂直于衬底(14)延伸的主平面的垂直方向(z)上的厚度与第二下部镜(17)不同。滤波叠层(15)还包括设置在第一和第二下部镜(16、17)上的间隔叠层(18),以及设置在间隔叠层(18)上并且覆盖光电探测器阵列(11)的上部电介质镜(19)。此外,提供了制造光学感测装置(10)的方法。

    滤光器、滤光器系统、光谱仪及其制造方法

    公开(公告)号:CN110865431A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910789353.7

    申请日:2019-08-26

    Abstract: 滤光器、滤光器系统、光谱仪及其制造方法根据本发明的实施例,提供了一种纳米结构化光学波长透射过滤器。滤光器包括图案化基底,在所述图案化基底上布置高折射率介质波导。低折射率介电层布置在高折射率介质波导上,在所述低折射率介电层上布置金属纳米结构的阵列。滤光器的各层具有由基底的图案化表面限定的共形形状。本发明还涉及滤光器系统,包括光学透射过滤器和固定到基底的检测器阵列。本发明还涉及包括至少一个光学透射过滤器和/或至少一个所述光学透射过滤器系统的光谱仪,并且对于具有波长在300nm与790nm之间的入射光具有低于30nm的光谱分辨率。本发明还涉及制造滤光器、滤光器系统和光谱仪的方法。

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