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公开(公告)号：TWI572992B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104121749
申请日：2015-07-03
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 席恩 阿曼帝 , SINGH, AMANDEV , 皮勒曼 漢瑞克 皮杜斯 瑪利亞 , PELLEMANS, HENRICUS PETRUS MARIA , 華那爾 派翠克 , WARNAAR, PATRICK
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70491 , G01J3/2823 , G01J3/45 , G01N21/4788 , G01N2201/06113 , G03F7/70625 , G03F7/70633
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公开(公告)号：TW201708976A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105120832
申请日：2016-06-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCU , 屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 , EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE , 范 里溫 羅博特 愛德格 , VAN LEEUWEN, ROBBERT EDGAR
IPC: G03F7/22
CPC classification number: G03F7/70775 , G01B9/02018 , G01B9/02027
Abstract: 本發明係關於一種用以量測一物件相對於一參考件之一位置之位置量測系統，該位置量測系統包含兩個干涉計，其中每一干涉計經組態以自輸入輻射形成一參考光束及一量測光束，且組合該參考光束及該量測光束以提供待遞送至一偵測器之輸出輻射，其中每一干涉計經組態成使得該參考光束係由輸入輻射自一反射元件之反射形成，且使得該量測光束係由輸入輻射自該物件上之一光柵之繞射形成，且其中該參考光束及該量測光束彼此平行。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用以量测一对象相对于一参考件之一位置之位置量测系统，该位置量测系统包含两个干涉计，其中每一干涉计经组态以自输入辐射形成一参考光束及一量测光束，且组合该参考光束及该量测光束以提供待递送至一侦测器之输出辐射，其中每一干涉计经组态成使得该参考光束系由输入辐射自一反射组件之反射形成，且使得该量测光束系由输入辐射自该对象上之一光栅之绕射形成，且其中该参考光束及该量测光束彼此平行。
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公开(公告)号：TW201706723A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105113864
申请日：2016-05-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 莫沙維特 詩為德 伊曼 , MOSSAVAT, SEYED IMAN , 凡 力司特 雅得安 喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B29C67/0088 , B29C64/386 , B33Y50/02 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G05B19/4099 , G05B2219/35134 , G05B2219/49007
Abstract: 本發明揭示一種用於度量衡之方法、電腦程式及關聯設備。該方法包括：獲取檢測資料，該檢測資料包含複數個檢測資料元素，每一檢測資料元素係已藉由檢測使用一微影程序而形成之一對應目標結構予以獲得；及對該檢測資料執行一無監督叢集分析，藉此根據一度量而將該檢測資料分割成複數個叢集。在一實施例中，可針對每一叢集來識別一叢集代表。可重新建構該叢集代表且使用該重新建構以近似該叢集之其他成員。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于度量衡之方法、电脑进程及关联设备。该方法包括：获取检测数据，该检测数据报含复数个检测数据元素，每一检测数据元素系已借由检测使用一微影进程而形成之一对应目标结构予以获得；及对该检测数据运行一无监督集群分析，借此根据一度量而将该检测数据分割成复数个集群。在一实施例中，可针对每一集群来识别一集群代表。可重新建构该集群代表且使用该重新建构以近似该集群之其他成员。
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公开(公告)号：TWI571179B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102116674
申请日：2013-05-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 桑德斯特倫 理查L , SANDSTROM, RICHARD L. , 葛拉瓦 強納森D , GRAVA, JONATHAN D.
IPC: H05G2/00
CPC classification number: H01S3/08 , H01S3/005 , H01S3/0085 , H01S3/2232 , H01S3/2316 , H01S3/2383 , H05G2/003 , H05G2/008
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公开(公告)号：TWI569688B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW104119556
申请日：2015-06-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 劉嶸 , LIU, RONG , 拉法斯 羅伯特J , RAFAC, ROBERT J. , 麥爾斯 大衛W , MYERS, DAVID W. , 貝格斯泰德 羅伯特A , BERGSTEDT, ROBERT A. , 蒙坎茲 保羅A , MCKENZIE, PAUL A.
IPC: H05G2/00
CPC classification number: B23K26/032 , B23K26/702 , G03F7/70033 , G03F7/7085 , H05G2/008
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201702569A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105112331
申请日：2016-04-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 , BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS , 迪 巴克 彼得 巴特 艾洛伊斯 , 凡羅斯 妮可 , VANROOSE, NICO , 伊波寧特 吉凡尼 , IMPONENTE, GIOVANNI , 史塔斯 羅南 裘翰斯 威廉瑪斯 , STAS, ROLAND JOHANNES WILHELMUS , 考爾 珊比特 , KAUR, CHANPREET , 道尼斯 詹姆士 羅伯特 , DOWNES, JAMES ROBERT
CPC classification number: G03F7/706 , G01M11/0242 , G01M11/0257 , G03F7/70866
Abstract: 一種方法，其包含：照明包含複數個經圖案化區之一圖案化器件，該複數個經圖案化區各自圖案化一量測光束；運用一投影系統將該等量測光束投影至包含複數個偵測器區之一感測器裝置上；在該圖案化器件及該感測器裝置經定位而呈一第一相對組態時進行輻射之一第一量測；移動該圖案化器件及該感測器裝置中之至少一者以便將該圖案化器件之該相對組態改變至一第二相對組態；在該圖案化器件及該感測器裝置經定位而呈該第二相對組態時進行輻射之一第二量測，在該第二相對組態中，該複數個偵測器區中之至少一些接收的一量測光束不同於在該第一相對組態中在該各別偵測器區處接收之該量測光束；及判定由該投影系統造成之像差。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法，其包含：照明包含复数个经图案化区之一图案化器件，该复数个经图案化区各自图案化一量测光束；运用一投影系统将该等量测光束投影至包含复数个侦测器区之一传感器设备上；在该图案化器件及该传感器设备经定位而呈一第一相对组态时进行辐射之一第一量测；移动该图案化器件及该传感器设备中之至少一者以便将该图案化器件之该相对组态改变至一第二相对组态；在该图案化器件及该传感器设备经定位而呈该第二相对组态时进行辐射之一第二量测，在该第二相对组态中，该复数个侦测器区中之至少一些接收的一量测光束不同于在该第一相对组态中在该各别侦测器区处接收之该量测光束；及判定由该投影系统造成之像差。
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公开(公告)号：TWI565369B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW101116256
申请日：2012-05-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , 優志旺電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
Inventor： 康能 馬丁納司 賈寇柏斯 , COENEN, MARTINUS JACOBUS , 貴多 佛得列克 西門司 , SIEMONS, GUIDO FRIEDERICH
CPC classification number: H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/70991 , H04L25/0278 , H05G2/003
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公开(公告)号：TWI563349B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW104104294
申请日：2015-02-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 斯加 毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 黃得智 , HUANG, TE CHIH , 亞當 歐瑪 阿布貝克 歐瑪 , ADAM, OMER ABUBAKER OMER , 張 幼平 , ZHANG, YOUPING
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70633 , G01N21/47 , G01N21/8806 , G01N2201/12 , G03F7/70683
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公开(公告)号：TW201643555A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105107386
申请日：2016-03-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 弗斯特 彼得 丹尼 , VAN VOORST, PETER DANNY , 阿克布魯特 都古 , AKBULUT, DUYGU , 凡 伯克 庫斯 , VAN BERKEL, KOOS , 范 德 維恩 賈諾 喬漢 馬汀 , VAN DE WIJDEVEN, JEROEN JOHAN MAARTEN , 塞吉普 飛瑞 , ZIJP, FERRY
CPC classification number: G03F7/70483 , G01B11/00 , G01N21/956 , G02B21/0016 , G02B21/33 , G02B27/0988 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 揭示一種控制一光學組件相對於一表面之位置的方法。該方法可包括：藉由一第一位置量測程序獲得一第一信號；針對一第一運動範圍使用該第一信號控制該光學組件與該表面之間的相對移動；藉由不同於該第一位置量測程序之一第二位置量測程序獲得一第二信號；及針對一第二運動範圍使用該第二信號控制該光學組件與該表面之間的相對移動，該第二運動範圍比該第一運動範圍更接近該表面。
Abstract in simplified Chinese: 揭示一种控制一光学组件相对于一表面之位置的方法。该方法可包括：借由一第一位置量测进程获得一第一信号；针对一第一运动范围使用该第一信号控制该光学组件与该表面之间的相对移动；借由不同于该第一位置量测进程之一第二位置量测进程获得一第二信号；及针对一第二运动范围使用该第二信号控制该光学组件与该表面之间的相对移动，该第二运动范围比该第一运动范围更接近该表面。
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公开(公告)号：TW201643388A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105106385
申请日：2016-03-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 布魯薩爾德 傑瑞特 賈寇巴斯 亨利德斯 , BRUSSAARD, GERRIT JACOBUS HENDRIK , 寇伯特 威林 賈寇巴斯 寇尼勒斯 , KOPPERT, WILLEM JAKOBUS CORNELIS , 雷町 傲特嘉 珍 , LUITEN, OTGER JAN , 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 麥卡爾斯 賈伯 , BECKERS, JOB , 凡 德 霍斯特 勞德 馬汀納斯 , VAN DER HORST, RUUD MARTINUS
CPC classification number: G01J1/58 , G01J1/4257 , G01J1/429 , G01T1/2018 , G03F7/70558 , G03F7/7085 , H01S3/0903 , H01S3/1305
Abstract: 一種用於判定一輻射光束之一位置及/或功率之輻射感測器裝置包含：用於含有一氣體之一腔室、一或多個感測器及一處理器。該腔室具備一第一開口及一第二開口，使得一輻射光束可經由該第一開口進入該腔室；大體上沿著一軸傳播穿過該腔室；且經由該第二開口離開該腔室。該一或多個感測器中之每一者經配置以接收及偵測自該腔室之環繞該軸之一區域發射之輻射。該處理器可操作以使用由該一或多個感測器所偵測到的該輻射，以判定大體上沿著該軸傳播穿過該腔室之一輻射光束之一位置及/或功率。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于判定一辐射光束之一位置及/或功率之辐射传感器设备包含：用于含有一气体之一腔室、一或多个传感器及一处理器。该腔室具备一第一开口及一第二开口，使得一辐射光束可经由该第一开口进入该腔室；大体上沿着一轴传播穿过该腔室；且经由该第二开口离开该腔室。该一或多个传感器中之每一者经配置以接收及侦测自该腔室之环绕该轴之一区域发射之辐射。该处理器可操作以使用由该一或多个传感器所侦测到的该辐射，以判定大体上沿着该轴传播穿过该腔室之一辐射光束之一位置及/或功率。
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