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公开(公告)号:TW201643388A
公开(公告)日:2016-12-16
申请号:TW105106385
申请日:2016-03-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 布魯薩爾德 傑瑞特 賈寇巴斯 亨利德斯 , BRUSSAARD, GERRIT JACOBUS HENDRIK , 寇伯特 威林 賈寇巴斯 寇尼勒斯 , KOPPERT, WILLEM JAKOBUS CORNELIS , 雷町 傲特嘉 珍 , LUITEN, OTGER JAN , 尼恩休斯 漢 冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 麥卡爾斯 賈伯 , BECKERS, JOB , 凡 德 霍斯特 勞德 馬汀納斯 , VAN DER HORST, RUUD MARTINUS
CPC classification number: G01J1/58 , G01J1/4257 , G01J1/429 , G01T1/2018 , G03F7/70558 , G03F7/7085 , H01S3/0903 , H01S3/1305
Abstract: 一種用於判定一輻射光束之一位置及/或功率之輻射感測器裝置包含:用於含有一氣體之一腔室、一或多個感測器及一處理器。該腔室具備一第一開口及一第二開口,使得一輻射光束可經由該第一開口進入該腔室;大體上沿著一軸傳播穿過該腔室;且經由該第二開口離開該腔室。該一或多個感測器中之每一者經配置以接收及偵測自該腔室之環繞該軸之一區域發射之輻射。該處理器可操作以使用由該一或多個感測器所偵測到的該輻射,以判定大體上沿著該軸傳播穿過該腔室之一輻射光束之一位置及/或功率。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于判定一辐射光束之一位置及/或功率之辐射传感器设备包含:用于含有一气体之一腔室、一或多个传感器及一处理器。该腔室具备一第一开口及一第二开口,使得一辐射光束可经由该第一开口进入该腔室;大体上沿着一轴传播穿过该腔室;且经由该第二开口离开该腔室。该一或多个传感器中之每一者经配置以接收及侦测自该腔室之环绕该轴之一区域发射之辐射。该处理器可操作以使用由该一或多个传感器所侦测到的该辐射,以判定大体上沿着该轴传播穿过该腔室之一辐射光束之一位置及/或功率。