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公开(公告)号：CN103018010A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210499382.8
申请日：2012-11-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 一种光源光谱调制装置，包括光源、第一汇聚光学单元、色散单元、数字微镜阵列、第二汇聚光学单元和均匀混光单元；其中，第一汇聚光学单元，汇聚光源的光辐射；色散单元，将经所述第一汇聚光学单元汇聚的光辐射色散成像；数字微镜阵列，位于所述色散单元的焦面处，通过对每个微小反射镜的翻转状态的控制从而对不同光谱位置和光谱带宽进行选择；第二汇聚光学单元，将经所述数字微镜阵列反射的光辐射再次汇聚使其进入均匀混光单元；均匀混光单元，将分离的单色光辐射再次混合重组。本发明通过对光源光谱重新分布，能够对光源的光谱分布特性进行更改，可以应用到光学仪器校准和仿真测试领域，该技术可以提升光学仪器的校准精度和仿真测试能力。
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公开(公告)号：CN102998088A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210478703.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外光源校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。利用本发明可以实现30nm～200nm范围内光源光谱辐射参数校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN118169866A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202211586546.0
申请日：2022-12-09
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明提供了一种基于弹簧定位的摆镜组件，包括反射镜组件、镜座、旋钮、转轴、定位限位装置和底座，反射镜组件设置在镜座上，旋钮通过转轴与镜座连接，旋钮通过转轴可带动反射镜组件转动，定位限位装置包括定位限位壳体、拉伸弹簧、弹簧定位支柱和弹簧导向支柱，定位限位壳体与镜座固定连接，定位限位壳体具有第一圆形沉孔和腰形槽，底座具有第二圆形沉孔，弹簧导向支柱设置在第一圆形沉孔内，弹簧定位支柱的一端设置在腰形槽内，弹簧定位支柱的另一端设置在第二圆形沉孔内，拉伸弹簧的一端与弹簧定位支柱连接，拉伸弹簧的另一端与弹簧导向支柱连接。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中活动机构结构较复杂，且重复定位精度差的技术问题。
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公开(公告)号：CN118168668A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202211583982.2
申请日：2022-12-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/53
Abstract: 本发明提供了一种采用磁吸限位摆镜进行光路切换的零平衡比对装置，包括标准黑体、光学系统、红外探测组件和综合控制系统，光学系统包括摆镜组件、光阑组件、衰减组件和汇聚镜头，光阑组件用于光路装调时调整被测黑体及标准黑体的通光光束以使两侧光路辐射亮度保持平衡，采用磁吸限位的摆镜组件包括反射镜组件、镜座、电动旋转组件、底座和磁吸定位限位组件，衰减组件用于对光束的辐射亮度进行衰减，红外探测组件用于实现对红外辐射能量的探测，综合控制系统用于完成对标准黑体、光学系统以及红外探测组件控制及数据采集处理以实现光学辐射比对。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中零平衡光学辐射比对装置结构均较复杂，成本高的技术问题。
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公开(公告)号：CN114353965B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115493705A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202110672172.3
申请日：2021-06-17
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/12
Abstract: 本发明提供了一种弥散条件下高温物体表面温度测量装置及方法，装置包括光收集模块、分光模块、n个探测器、反演模型模块、温度获取模块和温度处理模块；光收集模块用于收集被测高温物体辐射的光，并将辐射的光入射至分光模块；分光模块用于将入射光分为n路不同波段的光，并分别投影至对应的探测器；反演模型模块用于获取被测高温物体对应的反演系数；温度获取模块用于获取n个探测器上每个像素点位置对应的辐射亮温，得到n个探测器上每个像素点位置对应的修正后的辐射亮温；温度处理模块用于获取被测高温物体的表面温度。本发明能解决现有测温方法无法满足航空航天热试验和冶金铸造生产等领域对水雾等弥散介质条件下的红外辐射测温需求的问题。
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公开(公告)号：CN113916386B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202010644796.X
申请日：2020-07-07
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J9/00
Abstract: 一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置，包括：真空紫外光源为气体放电光源，前端窗口为氟化镁窗口，用来提供覆盖120nm～200nm波段范围的光谱能量；真空紫外单色分光系统包括入射狭缝、分光光栅、出射狭缝，真空紫外光源的光经入射狭缝进入，经分光光栅分光形成单色光，经出射狭缝出射；真空紫外准直系统包括多片光学镜片，使得真空紫外准直系统的焦面位置与真空紫外单色分光系统的出射狭缝位置重合，对真空紫外单色分光系统的出射光进行准直，形成平行光出射；真空紫外漫射系统为长方形，铝基底材料进行打磨制成，其表面为漫反射表面；真空紫外切换机构为圆形转台或平移导轨，可将漫射系统移入移出。
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公开(公告)号：CN114688990A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011576170.6
申请日：2020-12-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明提供了一种基于光场相机的多参数三维测量装置、系统及方法，所述装置包括：脉冲激光组件、滤光组件、光场相机以及处理单元；其中，所述脉冲激光组件发出脉冲光束以对待测目标进行周期性的照明，且所述待测目标能够在脉冲激光组件发出脉冲光束时，根据脉冲光束形成反射光；滤光组件用于根据脉冲光束对反射光进行滤光，以及对待测目标的自发光进行滤光；光场相机基于滤光后的反射光以及自发光采集待测目标的图像以分别获得速度光场图像以及温度光场图像；处理单元用于根据所述速度光场图像获取待测目标的速度，以及根据温度光场图像获取待测目标的温度。上述装置既可以获取温度，也可以获取速度，适用于发动机试车试验中开展多参数测量工作。
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公开(公告)号：CN114381709A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134111.3
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出涂层、用途及制备方法，包括催化剂中间层和碳基涂层，催化剂中间层为岛状结构，碳基涂层沉积在岛状结构的催化剂中间层上。本发明制备特殊的催化剂中间层，将等离子体增强化学气相沉积制备的碳纳米结构引入到黑体涂层中，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，且与基底材料结合力好，提高稳定性和耐久性。
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公开(公告)号：CN114381147A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202011134103.9
申请日：2020-10-21
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提出一种涂层、用途及其制备方法，包括二氧化硅层和附着在二氧化硅层上的金属纳米层。本发明通过制备具有高粗糙度的二氧化硅中间涂层，将金属纳米涂层引入到黑体涂层中，使金属纳米涂层具有了高粗糙度，使得涂层具有高吸光性能、高发射率，满足黑体涂层的要求。
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