다심광커넥터용페룰의제조방법

    公开(公告)号:KR100294116B1

    公开(公告)日:2001-07-12

    申请号:KR1019970054034

    申请日:1997-10-21

    Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a ferrule for multi-core type optical connector is provided to form a ferrule for multi-core type optical connector used in an optical connector for connecting one optical fiber with the other optical fiber. CONSTITUTION: A material layer reacted with an X-ray is formed on a substrate. The material layer is formed with a PMMA(Poly-Methyl-Meth-Acrylate) or a resin layer. An exposure process is performed by using an X-ray mask patterned with a ferrule shape. The exposure process is performed by irradiating the X-ray to the material layer. The substrate is exposed by developing the exposed material layer. A material layer having an opposite shape of the ferrule is formed in the substrate. The exposed substrate is filled by a plating structure. The plating structure is flattened by performing a polishing process. The material layer is removed. A lower plate(81) of the ferrule is obtained by separating the plating structure. An upper plate of the ferrule is obtained by performing the above processes, repeatedly. The lower plate(81) is combined with the upper plate.

    다심 광커넥터용 금형 제조 방법
    72.
    发明公开
    다심 광커넥터용 금형 제조 방법 失效
    多芯光电连接器金属模制造方法

    公开(公告)号:KR1020010045088A

    公开(公告)日:2001-06-05

    申请号:KR1019990048219

    申请日:1999-11-02

    CPC classification number: B29C33/38 B29C45/26 B29L2031/36 G03F7/2022

    Abstract: PURPOSE: A metal mold manufacturing method uses LIGA(Lithographie, Galvanofomung, Abfomung in German) process to manufacture more accurate multi-core optical connector metal mold in more inexpensive cost. CONSTITUTION: A first step is to place a first mask on a photosensitive layer on a base plate and radiate light to the first mask to primarily expose the photosensitive layer to the light. A second step is to develop the photosensitive layer to form a first exposed area including a first groove formed perpendicularly to the photosensitive layer and having form corresponding with multiple lineup grooves. A third step is to place a second mask on the first mask, rotate the first and the second masks by a certain angle to a horizontal plane and to radiate light to the second mask to secondarily expose the photosensitive layer to the light. The fourth step is to develop the photosensitive layer to form a second exposed area including a second groove including a connecting part connected slopingly with the first groove and having form corresponding with a guide groove. The fifth step is to pack metal in the first and the second exposed areas and grow by electroforming process to form multi-core optical connector metal mold.

    Abstract translation: 目的:金属模具制造方法采用LIGA(德国Lithographie,Galvanofomung,Abfomung)工艺,以更廉价的成本制造更准确的多芯光连接器金属模具。 构成:第一步是将第一个掩模放在基板上的感光层上,并将光辐射到第一个掩模,以将光敏层主要暴露在光线之下。 第二步是显影感光层以形成第一曝光区域,该第一曝光区域包括垂直于感光层形成的第一凹槽,并具有对应于多个阵容槽的形状。 第三步骤是将第二掩模放置在第一掩模上,将第一和第二掩模旋转一定角度至水平面,并将光辐射到第二掩模,以将光敏层二次曝光于光。 第四步是显影感光层以形成第二曝光区域,该第二曝光区域包括第二凹槽,该第二凹槽包括与第一凹槽倾斜连接的连接部分,并具有对应于导向凹槽的形状。 第五步是在第一和第二暴露区域中包装金属,并通过电铸工艺生长,形成多芯光连接器金属模具。

    광섬유정렬소자의V-그루브제조방법
    73.
    发明公开
    광섬유정렬소자의V-그루브제조방법 失效
    用于制造光纤安装装置的V型光栅的方法

    公开(公告)号:KR1020000039200A

    公开(公告)日:2000-07-05

    申请号:KR1019980054458

    申请日:1998-12-11

    Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a V-groove of an optical fiber arranging device is provided to mass-produce V-grooves by injection molding. CONSTITUTION: A PMMA(21) or a sensitization layer is formed on a substrate(20). Twice inclined sensitization and one vertical sensitization are accomplished by using an X-ray mask(22). The exposed PMMA(21) or the sensitization layer is removed by a developing liquid. A metal layer(32) is formed on the exposed substrate(20). The metal layer and the substrate(20) is separated. According to the method for manufacturing a V-groove of an optical fiber arranging device, V-grooves can be mass-produced.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造光纤布置装置的V形槽的方法,以通过注模成型大量生产V形槽。 构成:在基板(20)上形成PMMA(21)或增感层。 通过使用X射线掩模(22)实现两次倾斜致敏和一次垂直致敏。 曝光的PMMA(21)或增感层被显影液除去。 在暴露的基板(20)上形成金属层(32)。 分离金属层和基板(20)。 根据用于制造光纤排列装置的V形槽的方法,可以批量生产V形槽。

    LIGA 공정용 X-선 마스크
    74.
    发明公开
    LIGA 공정용 X-선 마스크 失效
    用于LIGA过程的X线掩模

    公开(公告)号:KR1020000039199A

    公开(公告)日:2000-07-05

    申请号:KR1019980054457

    申请日:1998-12-11

    Abstract: PURPOSE: An X-line mask for a LIGA process is provided to improve the productivity of the X-line mask by enlarging the exposure area of a membrane. CONSTITUTION: An X-line mask comprises a substrate(10). A first membrane(12) made of nitride silicon having a superior X-line transmitting feature is formed on the substrate(10). A second membrane(14) made of a metal is formed on the first membrane(12) to improve the durability of the first membrane(12). An absorbing member(30) for absorbing the X-line having a predetermined shape is patterned on the second membrane(14). A window is installed at a rear side of the substrate(10). The window is formed by removing some part of the rear portion of the substrate(10) so as to define the area to be exposed.

    Abstract translation: 目的:提供用于LIGA工艺的X线掩模,以通过扩大膜的曝光面积来提高X线掩模的生产率。 构成:X线掩模包括基底(10)。 在衬底(10)上形成由氮化硅制成的具有优异X线透射特征的第一膜(12)。 在第一膜(12)上形成由金属制成的第二膜(14),以提高第一膜(12)的耐久性。 用于吸收具有预定形状的X线的吸收构件(30)在第二膜(14)上被图案化。 窗口安装在基板(10)的后侧。 通过去除衬底(10)的后部的一些部分以形成要暴露的区域来形成窗口。

    미세 구조물 형성을 위한 리가 공정
    75.
    发明授权
    미세 구조물 형성을 위한 리가 공정 失效
    LIGA制造微结构的方法

    公开(公告)号:KR100249317B1

    公开(公告)日:2000-03-15

    申请号:KR1019970068059

    申请日:1997-12-12

    Abstract: 본 발명은 리가(LIGA) 공정에 관한 것으로서, 우선, 패턴이 형성되어 있는 박막으로 이루어진 X-선용 마스크를 기판에 부착되어 있지 않고 양면이 노출되어 있는 감광막에 정렬시킨 다음, X-선을 조사하고 현상하여 감광막 패턴을 형성한다. 이때, 현상액에 의한 식각은 감광막의 윗면과 아래면을 통하여 이루어지므로 경사 식각이 가지는 폭이 줄어들어 기판에 부착되어 있는 채로 노광할 때보다 오차가 줄어든다. 또한, 감광막이 기판에 부착되어 있지 않으므로 X-ray의 광자에 의한 산란 또는 2차 전자 효과는 발생하지 않으므로, 현상 후에 감광막 패턴의 오차가 줄어든다.

    유연 스트레처블 기반 저저항 세라믹 금속 복합체 구조의 히터 및 그 제조방법
    76.
    发明公开
    유연 스트레처블 기반 저저항 세라믹 금속 복합체 구조의 히터 및 그 제조방법 审中-实审
    一种柔性基于应力的低电阻陶瓷金属复合结构加热器及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020170118319A

    公开(公告)日:2017-10-25

    申请号:KR1020160045916

    申请日:2016-04-15

    Inventor: 홍성제

    Abstract: 본발명은유연스트레처블기반저저항세라믹금속복합체구조의히터및 그제조방법에관한것으로, 유리전이(glass transition) 온도 200℃이하의내열성및 고분자기반의유연기판; 상기유연기판의상면에서서로이격되게배치되고, 전기적으로도전가능하게연결및 연장되어있는도전성메시부; 상기도전성메시부의사이공간을기준으로상기유연기판의상면에형성되어있는격벽; 및상기도전성메시부를덮을수 있도록, 3D 프린팅장치로세라믹소재를상기격벽의사이에충진함에의해서, 상기유연기판의상면에형성되며, 상기격벽에의해서로구획되며, 상기유연기판의상면에다수로배열되어있는히팅블록부;를포함한다.

    Abstract translation: 本发明的柔性应变cheobeul基于低电阻金属的加热器的陶瓷复合结构,并涉及制造其的方法,以及耐热性和小于200℃的基于聚合物的柔性基板温度的玻璃化转变(玻璃化转变); 导电网格部分,与柔性基板的上表面间隔开并且电连接和电连接; 相对于所述导电网格部分之间的空间形成在所述柔性基板的上表面上的障壁; 并且,以覆盖导电性筛网的部分,通过填充有由隔壁之间3D打印装置中的陶瓷材料,在所述柔性基板的所述上表面上形成,由分隔壁,在所述柔性基板的所述上表面上的大量的分割成 并在其中布置加热块部分。

    화학적-물리적 하이브리드 방법에 의한 탄화규소 분쇄를 통한 나노분말 제조 방법 및 그 나노분말
    77.
    发明公开
    화학적-물리적 하이브리드 방법에 의한 탄화규소 분쇄를 통한 나노분말 제조 방법 및 그 나노분말 审中-实审
    通过化学 - 物理混合方法和纳米ZnO制备碳纳米管的纳米ZnO的方法

    公开(公告)号:KR1020150138121A

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:KR1020150077413

    申请日:2015-06-01

    Inventor: 홍성제 윤범진

    Abstract: 본발명은탄화규소의나노분말을제조하는방법에관한것으로서, 태양전지용웨이퍼가공으로부터발생하는실리콘슬러지에서탄화규소를회수하고극도로강도가높은탄화규소를화학적에칭처리와물리적분쇄의하이브리드방법을이용한분쇄공정을통해나노분말로제조하는방법과이로인하여제조된탄화규소의나노분말제품을제공한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种制造碳化硅的纳米粉末的方法。 提供:通过使用化学蚀刻处理和物理研磨的混合方法,通过从用于太阳能电池的晶片工艺生成的硅污泥中收集碳化硅,通过具有极高强度的碳化硅的研磨工艺来制造纳米粉末的方法; 和由此制造的碳化硅的纳米粉末产品。

    표시 패널 소재의 회수 및 재사용 방법
    78.
    发明授权
    표시 패널 소재의 회수 및 재사용 방법 有权
    显示面板材料的回收和再利用方法

    公开(公告)号:KR101462997B1

    公开(公告)日:2014-11-18

    申请号:KR1020130046544

    申请日:2013-04-26

    Inventor: 홍성제

    Abstract: 폐 액정표시장치로부터 ITO를 회수하기 위하여 강산성 용액에 ITO를 용해하기 전에 산성 용액을 이용하여 금속성 유기 및 무기물질을 용해하여 ITO의 순도를 높이고, 강산성 용액에 분산제를 투입하여 입자가 미세화된 ITO를 얻는다. 본 발명의 표시 패널 소재의 회수 및 재사용 방법은, 나이프를 이용하여 상기 표시 패널을 구성하는 상판과 하판 사이의 실링 영역을 측면 절단하여 상기 상판과 하판을 분리하는 단계; 상기 상판과 하판 사이에 주입된 액정을 제거하는 단계; 상기 상판에 부착된 편광 필름을 제거하는 단계; 알칼리성 용액을 이용하여 상기 상판으로부터 컬러필터를 용해하여 제거하는 단계; 상기 컬러필터가 제거한 후 회수된 잔여물질을 산성 용액에 용해하여 금속성 무기 및 유기물질을 제거하는 단계; 상기 금속성 무기 및 유기물질이 제거되고 남은 ITO를 분산제가 투입된 제1 강산성 용액에 용해하는 단계; 상기 제1 강산성 용액에 환원제를 투입하여 ITO 전구체 입자를 환원 석출하는 단계; 및 환원 석출된 상기 ITO 전구체 입자를 원심분리 및 세척하여 회수하고 열처리하는 단계를 포함한다.

    실공간 영상 기반 광 산란 분석 장치
    79.
    发明公开
    실공간 영상 기반 광 산란 분석 장치 有权
    基于实际空间图像的光散射分析仪

    公开(公告)号:KR1020140128580A

    公开(公告)日:2014-11-06

    申请号:KR1020130047127

    申请日:2013-04-29

    Abstract: 범용 백색 광원을 이용한 투과 광원과 반사 광원을 이용하여 시료의 실공간 영상 정보를 획득하고, 이와 동시에 실공간 영상 정보에 대한 2차원 퓨리에 분석을 수행하여 역공간으로 전환하여 역공간 산란정보를 분석하는 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 광 산란 분석 장치는, 분석하고자 하는 시료를 올려놓을 수 있는 재물대; 상기 재물대의 높이를 조절할 수 있는 높이 제어 모터; 범용 백색광원으로 구성된 광원; 상기 광원으로부터 나온 빛에 의한 상기 시료의 영상을 획득하는 영상 획득 장치; 상기 영상 획득 장치에 의해 획득된 영상을 캡춰하는 영상 캡춰 보드; 상기 높이 제어 모터를 구동하여 상기 재물대의 높이를 조절함으로써 초점을 자동으로 제어하는 초점 제어부; 상기 광원의 전원 및 광량을 자동으로 제어하는 광원 제어부; 상기 영상 캡춰 보드에 의해 캡춰된 영상 데이터를 처리하는 데이터 처리부; 및 상기 데이터 처리부에 의해 처리된 결과를 표시하는 표시부를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种能够使用通用白光源使用透射光源和反射光源获得样本的实际空间的图像信息的装置,并且可以通过进行二维分析来分析反向空间的散射信息, 对实际空间图像信息进行二维(2D)傅里叶分析,并将分析结果转移到反向空间。 光散射分析仪包括:放置待分析样品的阶段; 可调节舞台高度的高度控制电机; 由通用白光源形成的光源; 图像获取装置,其使用从所述光源照射的光获取所述样本的图像; 捕获由图像获取装置获得的图像的图像捕获板; 焦点控制单元,其通过操作高度控制电动机来自动控制焦点,以便调节舞台的高度; 光源控制单元,其自动控制光源的功率和光量; 数据处理单元,处理由图像捕获板捕获的图像数据; 以及显示单元,其显示由数据处理单元处理的结果。

    코어-셀 구조의 투명 도전성 나노 입자 및 이를 포함하는 잉크
    80.
    发明授权
    코어-셀 구조의 투명 도전성 나노 입자 및 이를 포함하는 잉크 有权
    透明导电纳米颗粒的芯壳结构和油墨包括它

    公开(公告)号:KR101341508B1

    公开(公告)日:2013-12-13

    申请号:KR1020100087055

    申请日:2010-09-06

    Inventor: 홍성제 김종웅

    Abstract: 비도전성 투명 재료로 나노 입자 코어를 형성하고, 그 위에 도전성 재료를 저온 코팅하여, 코어-셀(core-shell) 구조의 나노 입자 또는 나노 선을 제조하고, 이를 용매에 분산하여 잉크를 제조한다. 비도전성 투명 재료로는 SiO2, TiO2, 고분자 재료 등이, 도전성 재료로는 ITO, Ag, IZTO, IZO, Carbon Layer 등이 사용될 수 있다. 이에 따라, 인듐 등 희유 금속의 사용량을 줄이고, 나노 입자 또는 나노 선의 비중을 감소시킬 수 있다. 코어-셀 구조의 나노 입자와 나노 선을 사용하여 잉크를 제조하면, 비중 감소의 영향으로 분산성 및 안정성이 향상되고, 특히 코어-셀 구조의 나노 선을 이용하여 잉크를 제조할 경우에는 잉크 내 고형분 농도를 낮출 수 있어 인듐 등 희유 금속의 저감 효과가 더욱 커진다.

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