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公开(公告)号：KR101373721B1
公开(公告)日：2014-03-14
申请号：KR1020120008386
申请日：2012-01-27
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , B82B3/00
Abstract: 본 발명은 나노 금속패턴 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 나노 금속패턴 형성방법은 기판 상에 열가소성 임프린팅 레지스트를 적층하는 임프린팅 레지스트 적층단계; 상기 임프린팅 레지스트 상에 박막필름을 적층하는 박막필름 적층단계; 임프린팅 스탬프를 이용하여 상기 임프린팅 레지스트를 패터닝함으로써, 상측에 상기 박막 필름이 적층된 상태로 돌출되는 제1패턴과 상측에 상기 박막 필름이 적층된 상태로 상기 제1패턴보다 낮은 높이로 돌출되는 제2패턴을 교대로 형성하는 임프린팅 단계;를 포함하고, 상기 임프린팅 단계에서 상기 박막필름은 상기 임프린팅 스탬프에 의하여 파단(fracture)되어 일부는 상기 제1패턴의 상면에 배치되고 나머지는 상기 제2패턴의 상면에 배치되는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 균일한 형태의 함몰형 금속패턴을 용이하게 제작할 수 있는 나노 금속패턴 형성방법이 제공된다.-
公开(公告)号：KR101374095B1
公开(公告)日：2014-03-13
申请号：KR1020120138895
申请日：2012-12-03
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B82B3/0095 , B82Y40/00
Abstract: Disclosed is a method for manufacturing a nanostructure for forming a superhydrophobic and superoleophobic surface. The method for manufacturing a nanostructure according to one embodiment of the present invention for forming a superhydrophobic and superoleophobic surface includes a first step of forming an intermediate layer on the surface of a substrate and forming a nanopattern on the top of the intermediate layer and a second step of forming the width of the intermediate layer smaller than the width of the nanopattern by processing the intermediate layer or the intermediate layer and the nanopattern.
Abstract translation: 公开了一种制造用于形成超疏水和超疏油表面的纳米结构的方法。 根据用于形成超疏水和超疏油表面的本发明的一个实施方案的制造纳米结构的方法包括在基材表面上形成中间层并在中间层的顶部形成纳米图案的第一步骤， 通过处理中间层或中间层和纳米图案，形成中间层的宽度小于纳米图案的宽度的步骤。
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公开(公告)号：KR1020140011505A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：KR1020120066177
申请日：2012-06-20
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , G03F7/20 , B29C33/42
CPC classification number: B32B37/26 , B81C99/009 , B81C2201/0152 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , G03F7/2004 , B29C33/424 , G03F7/427 , H01L21/0274
Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a stamp for plasmonic nano-lithography. The method for manufacturing a stamp for plasmonic nano-lithography comprises: a metal pattern formation step which forms metal patterns on a substrate; a hydrophobic treatment step which coats the outer surface of the substrate and the metal patterns with hydrophobic thin films for hydrophobic treatment; a hydrophilic treatment step which selectively conducts hydrophilic treatment on the outer surface of the metal patterns; a buffer layer lamination step which laminates the buffer layer on the substrate and the metal patterns; and a combination step which transfers the metal patterns and the buffer layer from the substrate to a light permeable base side. The present invention provides the method for manufacturing the stamp for plasmonic nano-lithography and the apparatus for plasmonic nano-lithography which can overcome limitation of light diffraction using surface plasmon energy and form micropatterns. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S105) Pretreatment step; (S110,S210) Metal pattern formation step; (S120) Hydrophobic treatment step; (S130) Hydrophilic treatment step; (S131) Polymer layer lamination step; (S132) First lamination step; (S133) Plasma treatment step; (S134) Second lamination step; (S135) First removal step; (S136) Selective treatment step; (S137) Second removal step; (S140) Buffer layer lamination step; (S150) Combination step; (S160) Anti-sticking layer lamination step
Abstract translation: 本发明涉及一种制造等离子体激光纳米光刻印花的方法。 用于等离子体激光纳米光刻的印模的制造方法包括：在基板上形成金属图案的金属图案形成步骤; 疏水处理步骤，其使用用于疏水处理的疏水性薄膜涂覆基材的外表面和金属图案; 选择性地对金属图案的外表面进行亲水处理的亲水处理工序; 缓冲层层压步骤，其将所述衬底上的缓冲层和所述金属图案层压; 以及将金属图案和缓冲层从基板转印到透光性基底侧的组合步骤。 本发明提供了等离子体纳米光刻用印模的制造方法和等离子体激光纳米光刻装置，其可以克服使用表面等离子体激元的光衍射的限制并形成微图案。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S105）预处理步骤; （S110，S210）金属图案形成工序; （S120）疏水处理工序; （S130）亲水处理步骤; （S131）聚合物层层压步骤; （S132）第一层压步骤; （S133）等离子体处理工序; （S134）第二层压工序; （S135）第一移除步骤; （S136）选择性治疗步骤; （S137）第二去除步骤; （S140）缓冲层层叠工序; （S150）组合步骤; （S160）防粘层层叠工序
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公开(公告)号：KR101334920B1
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020110034330
申请日：2011-04-13
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명에 의한 마이크로웨이브를 이용한 패턴형성방법은 기판에 유기물 전구체용액을 코팅하여 코팅층을 형성하는 코팅단계; 제 1패턴이 형성된 몰드로 상기 코팅층을 가압하여 제 2패턴을 형성하는 가압단계; 상기 몰드를 상기 코팅층으로부터 제거하는 몰드제거단계; 및 상기 제 2패턴이 형성된 코팅층에 마이크로웨이브를 10초 이상 내지 1분 미만 동안 조사하는 조사단계;를 포함하여 이루어지며, 상기 유기물 전구체 용액은, 고분자 전구체 또는 금속-유기물 전구체 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 고분자 전구체는 고분자수지에 열경화성 개시제가 결합되어 이루어지며, 상기 금속-유기물 전구체는 금속에 리간드가 결합하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 마이크로웨이브와 이에 최적화된 유기물 전구체용액을 이용함으로써, 종래와 달리, 레지스트없이 직접 패터닝이 가능하여, 공정이 단축되고 경제성을 향상시킬 수 있으며, 종래와 달리, 마이크로웨이브를 최적의 주파수와 파장으로 조사하고,이에 최적화된 유기물 전구체용액을 사용함으로써, 종래보다 최대 3000배가량 빠르게 경화-소성처리할 수 있어, 효율적인 장점이 있다.-
公开(公告)号：KR101299564B1
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：KR1020110060124
申请日：2011-06-21
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02B5/30
Abstract: 본 발명은 나노 와이어 그리드 편광자 제작방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 나노 와이어 그리드 편광자 제작방법은 기판 상에 반응층을 적층하는 반응층 적층단계; 상기 반응층으로부터 돌출되는 다수의 볼록부를 상호 이격되게 형성하는 볼록부 형성단계; 이웃하는 상기 볼록부 사이의 반응층에 이온빔을 조사함으로써 상기 반응층을 식각하되, 상기 이온빔에 의하여 상기 반응층 중 적어도 일부가 볼록부의 측벽면에 재증착되어 그리드 구조물을 형성하는 그리드 구조물 형성단계; 상기 볼록부를 제거하는 볼록부 제거단계; 상기 이웃하는 그리드 구조물 사이의 기판 상에 적층된 반응층을 제거하는 반응층 제거단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 이온빔을 조사하여 식각하는 이온밀링(ion milling) 공정시의 재증착 현상을 이용하여 대면적이 기판 상에 그리드 간의 간격을 미세화하는 동시에 좁은 선폭의 그리드를 가지는 편광자를 용이하게 제작할 수 있는 나노 와이어 그리드 편광자 제작방법이 제공된다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130093344A
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：KR1020120014864
申请日：2012-02-14
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L27/3244 , H01L27/3258 , H01L51/5268 , H01L51/5275 , H01L51/0001 , H01L51/5203 , H01L2251/5369 , H01L2251/56
Abstract: PURPOSE: An organic light emitting diode display and a manufacturing method thereof are provided to simplify manufacturing processes by forming a particle layer without an additional process. CONSTITUTION: A particle layer (300) is located on a substrate (111). A first electrode (710) is located on the particle layer. A light emitting layer (720) is located on the first electrode. A second electrode (730) is located on the light emitting layer. The particle layer includes a plurality of particle members (32) and a filling member (34) which fills a space between the particle members. The refractive index of the particle layer is different from the refractive index of the filling member.
Abstract translation: 目的：提供一种有机发光二极管显示器及其制造方法，以通过在没有附加工艺的情况下形成颗粒层来简化制造工艺。 构成：颗粒层（300）位于基板（111）上。 第一电极（710）位于颗粒层上。 发光层（720）位于第一电极上。 第二电极（730）位于发光层上。 颗粒层包括填充颗粒构件之间的空间的多个颗粒构件（32）和填充构件（34）。 粒子层的折射率与填充部件的折射率不同。
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公开(公告)号：KR1020120140408A
公开(公告)日：2012-12-31
申请号：KR1020110060124
申请日：2011-06-21
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058 , B29D11/00644 , B82Y40/00 , H01L21/3065
Abstract: PURPOSE: A nano wire grid polarizer manufacturing method is provided to minimize gaps between grids on a substrate and easily manufactures a polarizer having narrow linewidth grids. CONSTITUTION: A reactive layer(120) is deposited on a substrate. Multiple convex parts(131) protruding from the reactive layer are formed to be mutually detached. An ion beam is radiated in the reactive layer between convex parts and etched, a grid structure(140) is formed as at least some part of the reactive layer is redeposited on a side wall. A convex part is removed. A deposited reactive layer on a substrate between neighboring grid structures is removed.
Abstract translation: 目的：提供一种纳米线栅偏振器制造方法，以最小化衬底上的栅格之间的间隙，并且容易地制造具有窄线宽栅格的偏振器。 构成：将反应层（120）沉积在基底上。 形成从反应层突出的多个凸部（131）相互脱离。 离子束辐射在凸起部分之间的反应层中并被蚀刻，形成网格结构（140），因为反应层的至少一部分被再沉积在侧壁上。 去除一个凸部。 去除在相邻栅格结构之间的衬底上沉积的反应层。
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公开(公告)号：KR1020120116714A
公开(公告)日：2012-10-23
申请号：KR1020110034330
申请日：2011-04-13
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B29C59/16 , B29C59/026 , B29C2035/0855
Abstract: PURPOSE: A pattern forming method with microwaves is provided to form fine patterns on not only metal-organic matters also all organic films as the micro waves and an organic precursor solution optimized for the microwaves are used. CONSTITUTION: A pattern forming method with microwaves comprises following steps. A substrate(10) is coated with an organic precursor solution, and a coating layer is formed. The coating layer is pressed by a mold with a first pattern, and a second pattern is formed. The mold is removed from the coating layer. The microwaves are irradiated on the coating layer with the second pattern(31).
Abstract translation: 目的：提供具有微波的图案形成方法，以在不仅金属 - 有机物质上形成精细图案，而且还使用所有有机膜作为微波，并且使用针对微波优化的有机前体溶液。 构成：具有微波的图案形成方法包括以下步骤。 用有机前体溶液涂布基板（10），形成涂层。 涂覆层被具有第一图案的模具压制，形成第二图案。 从涂层去除模具。 用第二图案（31）将微波照射在涂层上。
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公开(公告)号：KR1020120083808A
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：KR1020110005152
申请日：2011-01-18
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B29C33/3842 , B29C33/424 , B29C59/022 , B29C2033/426 , G03F7/0002
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing nano template with a wide area using a multi stamp is provided to produce the nano template with a desirable size. CONSTITUTION: A method for manufacturing nano template with a wide area using a multi stamp is as follows. A plurality of flexible molds is manufactured using one master stamp(S100). The thermal resist is coated on a substrate with a large size(S200). The flexible molds are on the coated substrate while a pattern surface is downwardly formed(S300). The substrate and the flexible molds are heated at high temperature and pressure, and the pattern is transferred(S400). The nano template is complete by the polymer replication(S500).
Abstract translation: 目的：提供使用多重印记制造具有广泛面积的纳米模板的方法，以产生具有所需尺寸的纳米模板。 构成：使用多重印记制造具有广泛面积的纳米模板的方法如下。 使用一个主印模制造多个柔性模具（S100）。 将热敏涂层涂布在大尺寸的基板上（S200）。 柔性模具在涂布的基材上，而图案表面向下形成（S300）。 基板和柔性模具在高温高压下加热，图案转印（S400）。 纳米模板通过聚合物复制完成（S500）。
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公开(公告)号：KR101827814B1
公开(公告)日：2018-02-12
申请号：KR1020160046280
申请日：2016-04-15
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은나노임프린트방식으로수 나노미터내지수십나노미터크기로패터닝된기능층을다수적층시킴으로써, 고강도이고, 초경량이며, 고기능성인 3차원구조체를쉽고용이하게형성할수 있는나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법에관한것이다. 이를위해나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법은요철부가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계와, 요철부를포함한스탬프에이형층을형성하는이형층형성단계와, 이형층형성단계를거친요철부에기능층을형성하기위해하나이상의재료를수십나노미터내지수백나노미터의크기로형성하는재료형성단계와, 기판상에요철부에형성된재료를적층하는재료적층단계및 재료에압력, 열과압력, 빛과압력중 어느하나를가하여재료를하단의재료에접합시키는기능층고정단계를포함하고, 상술한단계를순차적으로반복실시하여내부에다수의기공이형성되는 3차원구조체를제조할수 있다.
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