公开(公告)号：CN1119966A

公开(公告)日：1996-04-10

申请号：CN94113870.4

申请日：1994-09-30

Applicant: 马自达汽车株式会社

Inventor： 小原敏文

IPC: B05D1/00

CPC classification number: B05D1/002 ,  B05D3/0254

Abstract: 在涂覆步骤中，将含有熔剂的涂层组合物以大于流动极限厚度的厚度施加到工件上，之后，将工件绕一基本水平轴旋转，与此同时，进行将施加到工件上的该涂层组合物中的熔剂蒸发掉的固化步骤和将该涂层组合物硬化的硬化步骤，以防止在工件垂直面上的涂层组合物发生流动或流挂。该涂层组合物被设计成在固化步骤期间或在该步骤结束时具有流动性同时熔剂的含量不超过涂层组合物重量的30％。

公开(公告)号：CN107206409B

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201580068862.0

申请日：2015-11-23

Applicant: 米其林集团总公司 ,  米其林研究和技术股份有限公司 ,  德克萨斯A&M大学体系

Inventor： C·文 ,  P·温斯顿 ,  J·麦克休 ,  J·C·格伦兰

IPC: B05B13/06 ,  B05C9/12 ,  B29D30/06

CPC classification number: B29D30/0061 ,  B05B13/0645 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D5/00 ,  B05D7/02 ,  B05D7/22 ,  B05D7/24 ,  B29D30/0662 ,  B29D30/0685 ,  B29D2030/0663

Abstract: 本发明提供一种用于在轮胎的内胎表面上形成不可渗透屏障层的方法。还提供一种总成连同用于相应地在轮胎的内胎表面上形成不可渗透屏障层的成套工具。

公开(公告)号：CN105899253B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201480069990.2

申请日：2014-12-19

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 黑崎靖夫 ,  古市英资 ,  后藤博

IPC: B05D7/00 ,  A61M25/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05D1/40

CPC classification number: B05D3/007 ,  A61K31/337 ,  A61L29/08 ,  A61L29/16 ,  A61L2300/416 ,  A61L2420/02 ,  A61M25/10 ,  A61M25/1029 ,  A61M2025/1031 ,  A61M2025/105 ,  A61M2207/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/1005 ,  B05C13/025 ,  B05D1/002 ,  B05D1/26

Abstract: 提供一种能够适当设定涂敷于球囊的药物的厚度和/或形态型等的球囊涂敷方法及装置。在球囊(30)的表面形成涂敷层(32)的球囊涂敷方法及球囊涂敷装置(50)，包括：涂布工序，一边使球囊(30)以该球囊(30)的轴心(X)为中心旋转，一边使用于涂布含有药物的涂敷液(R)的涂布部(94)相对于球囊(30)向轴心(X)方向相对移动而将涂敷液(R)涂布于球囊(30)的外表面；检测工序，检测涂布于球囊(30)的外表面的涂敷液(R)已干燥的干燥部位(B)相对于涂布部(94)的距离(L)；控制工序，控制涂布部(94)相对于球囊(30)的移动速度(Sx)，以使干燥部位(B)相对于涂布部(94)的距离(L)维持在预先设定的指定距离(L0)。

公开(公告)号：CN107847971A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680037537.2

申请日：2016-06-22

Applicant: 东洋制罐株式会社

Inventor： 远藤航平 ,  森拓也 ,  真能武俊 ,  宫崎知之 ,  丹生启佑

IPC: B05D7/22 ,  B05B3/02 ,  B05B13/04 ,  B05B13/06 ,  B05D1/02 ,  B05D3/00

CPC classification number: B05B13/0636 ,  B05B3/02 ,  B05B13/04 ,  B05B13/06 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D3/00 ,  B05D7/22 ,  B05D7/227

Abstract: 本发明提供一种即便在以特殊形状的容器为涂布对象的情况下，也能够以简单的构造使涂布剂的涂膜厚度均匀化的涂布方法及涂布装置。一种涂布方法，其为将涂布剂(L)涂布于容器(C)的内壁面的涂布方法，其中，使喷出涂布剂(L)的喷枪(20)和容器(C)沿着枪长度方向进行相对移动，将喷枪(20)插入容器(C)内，调整喷枪(20)与容器(C)之间的枪长度方向上的相对位置关系，并且，使喷枪(20)和容器(C)以沿着枪长度方向的轴线为中心进行相对旋转，根据容器(C)的形状，使喷枪(20)与容器(C)之间的相对旋转速度和旋转角度范围中的至少一方发生变化，从所述喷枪向所述容器内壁面喷出涂布剂。

公开(公告)号：CN104332388B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201410349106.2

申请日：2014-07-22

Applicant: 英飞凌科技股份有限公司

Inventor： S.穆林格 ,  K.皮尔希

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23F1/08 ,  B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05D1/00 ,  B05D1/002 ,  C23F1/14 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/6708 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 公开了用于蚀刻工件的方法、被配置为蚀刻工件的装置以及非瞬态计算机可读介质。可以提供一种用于蚀刻工件的方法，所述方法可以包括：确定用于蚀刻剂分配器的多个位置的多个基准蚀刻曲线，每个基准蚀刻曲线与所述蚀刻剂分配器的所述多个位置中的各个位置对应；确定所述工件的厚度曲线；基于所确定的厚度曲线和所述多个基准蚀刻曲线来确定用于所述蚀刻剂分配器的所述多个位置中的每个位置的各个蚀刻持续时间，以减少所述工件的总厚度变化；以及对于所述多个位置中的每个位置经由所述蚀刻剂分配器在所述工件之上分配蚀刻剂到达所确定的各个蚀刻持续时间。

公开(公告)号：CN107272354A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710213294.X

申请日：2017-04-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 桥本祐作 ,  下青木刚 ,  福田昌弘 ,  田中公一朗

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/26 ,  B05D1/002 ,  B05D1/005 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3028 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/6715

Abstract: 在形成有抗蚀剂膜并曝光后的半导体装置的制造用的基板的面内进行显影处理以使抗蚀剂图案的尺寸的均匀性变高。实施以下工序：对上述的基板的表面供给显影液进行显影的显影工序；接着，为了从上述基板将上述显影液的一部分甩掉除去，以上述基板在绕中心轴的第一旋转方向上旋转的方式，使该基板的转速上升的第一旋转工序；和接着，为了将残留在上述基板的上述显影液从该基板甩掉除去，使上述基板在与上述第一旋转方向相反的第二旋转方向上旋转的第二旋转工序。由此，能够防止基板的面内的各部中的显影时间的不均，所以能够在基板的各部以均匀性高的尺寸形成抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN103967830B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201410027391.6

申请日：2014-01-21

Applicant: 普发真空有限公司

Inventor： 马可·安东纳奇 ,  赫伯特·斯塔姆勒

IPC: F04D29/058 ,  F04D19/04 ,  B05D1/02 ,  B05D3/06

CPC classification number: F04D19/048 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0493 ,  F01D5/06 ,  F16C32/0425 ,  F16C32/0468 ,  F16C2360/45 ,  H02K1/22

Abstract: 本发明涉及转子磁轴承、对其磁环涂覆和/或涂漆的方法及真空泵，所述转子磁轴承被布置在转子上，其中所述磁轴承的磁环被布置在转子上的、为该磁环所设置的位置处，并且其中所述磁环的暴露的表面随后被涂覆和/或涂漆。此外本发明涉及一种转子磁轴承，其根据本发明的方法被涂覆和/或涂漆，和一种包含至少一个这种转子的真空泵。

公开(公告)号：CN105899253A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480069990.2

申请日：2014-12-19

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 黑崎靖夫 ,  古市英资 ,  后藤博

IPC: A61M25/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05D1/40 ,  B05D7/00

CPC classification number: B05D3/007 ,  A61K31/337 ,  A61L29/08 ,  A61L29/16 ,  A61L2300/416 ,  A61L2420/02 ,  A61M25/10 ,  A61M25/1029 ,  A61M2025/1031 ,  A61M2025/105 ,  A61M2207/10 ,  B05C5/02 ,  B05C11/1005 ,  B05C13/025 ,  B05D1/002 ,  B05D1/26

Abstract: 提供一种能够适当设定涂敷于球囊的药物的厚度和/或形态型等的球囊涂敷方法及装置。在球囊(30)的表面形成涂敷层(32)的球囊涂敷方法及球囊涂敷装置(50)，包括：涂布工序，一边使球囊(30)以该球囊(30)的轴心(X)为中心旋转，一边使用于涂布含有药物的涂敷液(R)的涂布部(94)相对于球囊(30)向轴心(X)方向相对移动而将涂敷液(R)涂布于球囊(30)的外表面；检测工序，检测涂布于球囊(30)的外表面的涂敷液(R)已干燥的干燥部位(B)相对于涂布部(94)的距离(L)；控制工序，控制涂布部(94)相对于球囊(30)的移动速度(Sx)，以使干燥部位(B)相对于涂布部(94)的距离(L)维持在预先设定的指定距离(L0)。

公开(公告)号：CN103228919B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201180056928.6

申请日：2011-12-01

Applicant: 阿耐思特岩田株式会社

Inventor： 浅见淳一 ,  峰岸辰也 ,  桑田透

IPC: F04C18/02 ,  F04C29/00

CPC classification number: B05D1/02 ,  B05D1/002 ,  F01C1/0269 ,  F04C18/0269 ,  F04C2230/91 ,  F05B2230/90

Abstract: 本发明提供一种涡旋式流体机械的被膜形成方法及装置。在旋转台(22)上固定回转涡旋体(10)，并使回转涡旋体(10)以螺旋中心(C)为中心进行旋转。将喷射喷嘴(42)定位在回转涡旋体(10)的螺旋中心(C)或外侧端，并朝向卷板部(14)的侧面(14a)喷出涂料。喷出涂料并使喷射喷嘴(42)在径向上沿着直线(L)上移动。当使喷射开始位置为螺旋中心(C)时，与喷射喷嘴(42)的移动配合地使回转涡旋体(10)的旋转角速度逐渐减小，当使喷射开始点为外侧端时，与喷射喷嘴(42)的移动配合地使回转涡旋体(10)的旋转角速度逐渐增大。由此，能够均匀地向卷板部侧面(14a)涂敷涂料。

公开(公告)号：CN103370145B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201280006004.X

申请日：2012-01-10

Applicant: 哈利伯顿能源服务公司

Inventor： 卢克·W·霍尔德曼 ,  雅各布·R·休马特

IPC: B05D7/22 ,  B05D1/00 ,  B05C7/00 ,  B05C11/08 ,  B05C13/00

CPC classification number: B05D1/002 ,  B05D7/22 ,  B05D2254/02

Abstract: 一种以热塑性材料涂布第一多孔基体的方法，包括以下步骤：使基体绕该基体的轴线旋转；以及将液态的材料涂覆到该基体上，其中从基体的外部执行涂覆的步骤，根据另一实施例，以热塑性材料涂布多孔基体的方法包含以下步骤：将第一多孔基体连接到旋转器；使基体绕该基体的轴线旋转；将液态的材料从容器泵送到涂覆头；以及将液态的材料涂覆到基体上，其中从基体的外部执行涂覆的步骤。在特定的实施例中，基体上所涂布的材料被用于协助去除至少一部分滤饼。