-
公开(公告)号:JP6336014B2
公开(公告)日:2018-06-06
申请号:JP2016229022
申请日:2016-11-25
Applicant: ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト , Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
Inventor: クリスティアン シェンク , フランク ウェスリー , ゲリト シャイヒ
CPC classification number: C03C3/06 , B05D3/007 , B05D7/50 , C03B19/066 , C03B2201/20 , C03B2201/30 , C03B2201/58 , C03C4/082 , C03C14/004 , C03C2201/26 , C03C2201/30 , C03C2203/22 , C03C2214/30
-
72.
公开(公告)号:JP4663860B2
公开(公告)日:2011-04-06
申请号:JP2000270546
申请日:2000-09-06
Applicant: 株式会社オハラ
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1423 , C03B2201/20 , C03B2201/34 , C03B2207/38 , C03C2201/26
-
公开(公告)号:JP4403082B2
公开(公告)日:2010-01-20
申请号:JP2004570726
申请日:2003-11-28
Applicant: 信越石英株式会社
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/20 , C03B2201/24 , C03C2201/02 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/26
-
公开(公告)号:JP4681189B2
公开(公告)日:2011-05-11
申请号:JP2001546594
申请日:2000-12-14
Applicant: ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
Inventor: ヴェルデッカー、ヴァルトラウト , ゲーベル、ロルフ , ゲルティッヒ、ウード , ファビアン、ハインツ , ライスト、ヨハン
CPC classification number: C03C1/026 , C03B19/1065 , C03C3/06 , C03C2201/02 , C03C2201/24 , C03C2201/26 , C03C2201/32 , C03C2201/80 , C03C2203/10 , C03C2203/54
-
公开(公告)号:JPWO2008105191A1
公开(公告)日:2010-06-03
申请号:JP2009501148
申请日:2008-01-17
Applicant: 信越石英株式会社
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/20 , C03C3/06 , C03C2201/23 , C03C2201/26 , C03C2203/40 , C03C2203/44
Abstract: 遠赤外域の放射率が高く、光遮蔽性に優れ、合成石英ガラスと同等の金属不純物の純度を保持し、天然石英ガラス並の高温粘度特性を有し、さらに、表面に電気伝導性を有する、黒色合成石英ガラス及びその製造方法を提供する。遠赤外域の放射率が0.8以上、200〜10000nmの光透過率が厚さ1mmで10%以下、金属不純物濃度の総和が1ppm以下、1280℃での粘度が1011.7ポアズ以上である黒色合成石英ガラスである。含有される炭素の濃度が30ppmを超え50000ppm以下であり、含有される水酸基の濃度が10ppm以下であることが好適である。
-
公开(公告)号:JP2009091221A
公开(公告)日:2009-04-30
申请号:JP2007265582
申请日:2007-10-11
Applicant: Shinetsu Quartz Prod Co Ltd , 信越石英株式会社
Inventor: SATO TATSUHIRO , YOSHIDA YOSHIMASA
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/20 , C03C4/02 , C03C4/082 , C03C23/008 , C03C2201/02 , C03C2201/26 , C03C2203/54 , Y10T428/261
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a black synthetic quartz glass with a transparent layer, which has high emissivity in the far infrared region, has excellent light-shielding properties, maintains the same degree of purity as synthetic quartz glass in terms of metal impurities, has high-temperature viscosity characteristics comparable to natural quartz glass, can undergo high-temperature processing like welding, and does not release carbon from its surface; together with a method for the production thereof. SOLUTION: A porous silica glass body containing hydroxyl groups is subjected to a gas phase reaction in a volatile organosilicon compound atmosphere at a temperature between 100°C and 1,200°C and, following the reaction, evacuation is commenced and, on reaching a degree of vacuum exceeding 10 mmHg, heating is carried out at a temperature between 1,200°C and 2,000°C to produce a compact glass body. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题:为了提供具有透明层的黑色合成石英玻璃,其在远红外区域具有高发射率,具有优异的遮光性能,保持与合成石英玻璃相同的纯度 金属杂质,具有与天然石英玻璃相当的高温粘度特性,可进行焊接等高温加工,不会从表面释放碳; 以及其生产方法。 解决方案:含有羟基的多孔二氧化硅玻璃体在挥发性有机硅化合物气氛中在100℃和1200℃之间的温度下进行气相反应,并且在反应之后开始排气,达到 在超过10mmHg的真空度下,在1,200℃至2000℃的温度下进行加热,以产生紧凑的玻璃体。 版权所有(C)2009,JPO&INPIT
-
公开(公告)号:JP5048445B2
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:JP2007265582
申请日:2007-10-11
Applicant: 信越石英株式会社
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/20 , C03C4/02 , C03C4/082 , C03C23/008 , C03C2201/02 , C03C2201/26 , C03C2203/54 , Y10T428/261
-
公开(公告)号:JP2008056533A
公开(公告)日:2008-03-13
申请号:JP2006236178
申请日:2006-08-31
Applicant: Shinetsu Quartz Prod Co Ltd , 信越石英株式会社
Inventor: SATO TATSUHIRO
IPC: C03C3/06 , C03B8/04 , C03B20/00 , C03C3/078 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/095 , C03C3/112 , H01L21/3065
CPC classification number: C03C1/00 , C03B19/063 , C03B32/005 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/24 , C03B2201/36 , C03C3/06 , C03C3/112 , C03C4/20 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/26 , C03C2201/32 , C03C2201/3411 , C03C2201/3435 , C03C2201/36
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide quartz glass used for semiconductor manufacture and having excellent corrosion resistance to plasma, a quartz glass tool, a method of manufacturing the quartz glass, mixed quartz powder suitably used for the manufacture of the quartz glass and a method of manufacturing the mixed quartz powder.
SOLUTION: The quartz glass contains 0.1 to 20 mass% in total of two or more of dope elements. The dope element contains one or more of first elements selected from the group composed of N, C and F and one or more of second elements selected from the group composed of Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, lanthanoids, and actinoids.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPITAbstract translation: 要解决的问题:提供用于半导体制造的石英玻璃和对等离子体具有优异的耐腐蚀性,石英玻璃工具,石英玻璃的制造方法,适用于制造石英玻璃的混合石英粉末和 一种混合石英粉的制造方法。 解决方案:石英玻璃含有0.1〜20质量%的两种以上的掺杂元素。 掺杂元素含有选自由N,C和F组成的组中的一种或多种第一元素和选自Mg,Ca,Sr,Ba,Sc,Y,Ti,Zr, Hf,镧系元素和锕系元素。 版权所有(C)2008,JPO&INPIT
-
公开(公告)号:JP2004319200A
公开(公告)日:2004-11-11
申请号:JP2003110033
申请日:2003-04-15
Inventor: HIROSE KENICHI , MORIMOTO YUKIHIRO
CPC classification number: C03C4/0085 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/26
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide ultraviolet ray transmitting quartz glass having durability against an ultraviolet ray even when used in a use condition becoming relatively hot such as a discharge vessel of a lamp, and having high transmittance for a short-wavelength ultraviolet ray.
SOLUTION: This lamp emits an ultraviolet ray having a wavelength below 190 nm from a discharge vessel made of quartz glass. The discharge vessel is characterized by being formed of quartz glass containing 110-500 wt.ppm of an OH group, and 1-1,500 wt.ppm of F. In this ultraviolet irradiation device comprising: a lamp for radiating an ultraviolet ray having a wavelength of 190 nm; a casing used for housing the lamp and filled with an inert gas; a window member made of quartz glass for closing the opening formed at a part of the casing. The window member is characteristically formed of the quartz glass containing 110-500 wt.ppm of an OH group, and 1-1,500 wt.ppm of F.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI-
公开(公告)号:JP2017095349A
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:JP2016229022
申请日:2016-11-25
Applicant: ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト , Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
Inventor: クリスティアン シェンク , フランク ウェスリー , ゲリト シャイヒ
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03C3/06 , B05D3/007 , B05D7/50 , C03B19/066 , C03C14/004 , C03C4/082 , C03B2201/20 , C03B2201/30 , C03B2201/58 , C03C2201/26 , C03C2201/30 , C03C2203/22 , C03C2214/30
Abstract: 【課題】85%以上のSiO 2 を含有する高ケイ酸含有材料から機械的及び熱的に安定した、溶接による大面積の接合が可能な複合体を低コストでの製造を可能にする方法の提供。 【解決手段】(a)露出表面を有する第一のスラリー層を、第一の分散媒及びそこに分散された第一のTiO 2 粒子及び第一の濃度の添加成分を含有する第一のスラリー材料を用いて製造する工程、(b)第二の分散媒及びそこに分散された第二のSiO 2 粒子及び第一の濃度とは異なる第二の濃度の添加成分を含有する第二のスラリー材料を準備する工程、(c)第二のスラリー材料を第一のスラリー層の自由表面に施与することによって複合体−前駆生成物を形成する工程並びに(e)複合体−前駆生成物を加熱して複合体を形成する方法。 【選択図】図1
-
-
-
-
-
-
-
-
-