公开(公告)号：JP2016105190A

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：JP2016005081

申请日：2016-01-14

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： ヒル アンディ

IPC: G02B21/06 ,  G02B21/10 ,  F21S2/00 ,  F21Y115/10 ,  G02B19/00

CPC classification number: G02B21/084 ,  G01N21/8806 ,  G02B21/10 ,  G02B27/0927 ,  F21W2131/406 ,  F21Y2115/10 ,  G01N2021/8816 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2201/0631 ,  G01N2201/0638

Abstract: 【課題】明確に画定され且つ均一な照明野を照明エリアにおいて形成するリングライト照明器を提供する。 【解決手段】環状に配列された光源を有するリングライト照明器である。集光器60と、光源からの光に対する均一化手段70と、均一化手段70の出力を照明エリアに結像するための結像手段80とを備えるビームシェーパー50が、各光源に対応する。様々な実施形態において、均一化手段70は、集光器60からの光が誘導される棒状体70である。集光器60の反対側にある棒状体70の端部は、結像手段80により照明エリアに結像される。 【選択図】図6

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够在要照明的区域中形成明确且均匀的照明场的环形照明器。公开了一种具有环形布置的光源的环形照明器。 对于每个光源，对应于包括光收集器60的光束整形器50，用于使来自光源的光均匀化的均匀化装置70以及用于将均匀化装置70的输出成像为待照亮区域的成像装置80。 在各种实施例中，均质装置70是杆70，来自光收集器60的光被引导到杆70中。 杆70的与光收集器60相对的端部由成像装置80成像到被照明的区域中。图6

公开(公告)号：JP5745492B2

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：JP2012246605

申请日：2012-11-08

Applicant: シャープ株式会社

Inventor： 渡邉 由紀夫

IPC: G01N21/64

CPC classification number: G01J1/0411 ,  G01J1/0422 ,  G01J1/0488 ,  G01N21/645 ,  G01N21/6456 ,  G01N21/6486 ,  G02B17/08 ,  G02B19/0028 ,  G01N2021/6478 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/103

公开(公告)号：JP2008536127A

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：JP2008505569

申请日：2006-04-06

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： アール サード ゾエラー，レオン

IPC: G01N21/896 ,  G01N21/89

CPC classification number: G01N21/896 ,  G01N21/21 ,  G01N21/45 ,  G01N21/958 ,  G01N2021/1774 ,  G01N2021/8965 ,  G01N2201/0612 ,  G01N2201/0635 ,  G01N2201/0638

Abstract: ガラス板上またはガラス板内の欠陥（例えば、インクルージョン、オンクルージョン、掻き傷、染み、膨れ、脈理、あるいは表面の不連続性または材料の不均一性にともなうその他の欠陥）を識別する、いくつかの異なる検査装置及び方法が説明される。

公开(公告)号：EP3344963A1

公开(公告)日：2018-07-11

申请号：EP16888496.3

申请日：2016-01-29

Applicant: Hewlett-Packard Development Company, L.P.

Inventor： GE, Ning ,  HOLDER, Helen A ,  ROGACS, Anita ,  SHKOLNIKOV, Viktor

IPC: G01J3/44 ,  G01N21/65

CPC classification number: G01N21/658 ,  G01N21/648 ,  G01N2201/0638 ,  G02B3/02 ,  G03F7/2014

Abstract: An analyte detection package includes a chamber, a surface-enhanced luminescence analyte stage within the chamber, and a tunable lens integrated with the package to focus radiation onto the analyte stage.

公开(公告)号：EP3321739A1

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：EP16198346.5

申请日：2016-11-11

Applicant: ASML Netherlands B.V.

Inventor： ROOBOL, Sander, Bas ,  MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/35 ,  G01N21/956 ,  H01S3/00

CPC classification number: G03F7/70591 ,  G01N21/47 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/06146 ,  G01N2201/0631 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/0686 ,  G02B5/10 ,  G02F1/353 ,  G02F2001/354 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70625 ,  H01S3/0092 ,  H05G2/008

Abstract: Disclosed is an illumination source apparatus comprising a high harmonic generation medium (910), a pump radiation source and a spatial filter (940). The pump radiation source emits a beam (900) of pump radiation having a profile comprising no pump radiation in a central region of the beam and excites the high harmonic generation medium so as to generate high harmonic radiation (920). The pump radiation (950) and the generated high harmonic radiation are spatially separated beyond the focal plane of the beam of pump radiation. The spatial filter is located beyond a focal plane of the beam of pump radiation, and blocks the pump radiation. Also disclosed is a method of generating high harmonic measurement radiation optimized for filtration of pump radiation therefrom.

Abstract translation: 公开了一种照明源设备，其包括高次谐波生成介质（910），泵浦辐射源和空间滤波器（940）。 泵浦辐射源在光束的中心区域发射具有不包含泵浦辐射的轮廓的泵浦辐射束（900），并激发高次谐波生成介质以产生高次谐波辐射（920）。 泵浦辐射（950）和产生的高次谐波辐射在泵浦辐射束的焦平面之外空间分离。 空间滤波器位于泵浦辐射束的焦平面之外，并阻挡泵浦辐射。 还公开了一种产生为了过滤泵浦辐射而优化的高次谐波测量辐射的方法。

公开(公告)号：EP3118665B1

公开(公告)日：2017-11-29

申请号：EP16178657.9

申请日：2016-07-08

Applicant: Olympus Corporation

Inventor： UE, Yoshihiro ,  NISHIWAKI, Daisuke ,  OKAZAKI, Kenya ,  ONO, Osamu ,  SUZUKI, Shingo

IPC: G02B21/02 ,  G02B21/24 ,  G01N21/41 ,  G02B21/36 ,  G06T11/20 ,  G06T11/60

CPC classification number: G02B21/367 ,  G01N21/41 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/0697 ,  G01N2201/12 ,  G02B21/02 ,  G02B21/24 ,  G06T11/206 ,  G06T11/60

Abstract: A microscopy system includes a microscope apparatus (100,20;200,20:300,20) that has an objective (110) and a correction device (111) correcting for a spherical aberration, and a refractive index calculator (20d) that calculates a refractive index of a sample (S) at a target position in the sample (S) on the basis of a plurality of target set values each of which is a set value of the correction device (111) and each of which corresponds to an amount of spherical aberration that occurs in the microscope apparatus (100,20;200,20:300,20) when an observation target plane is situated at a different position in the sample (S) in an optical-axis direction of the objective (110).

公开(公告)号：EP3244196A1

公开(公告)日：2017-11-15

申请号：EP15876813.5

申请日：2015-01-05

Applicant: Shimadzu Corporation

Inventor： UEDA, Atsushi

IPC: G01N21/552

CPC classification number: G02B21/04 ,  G01N21/35 ,  G01N21/3577 ,  G01N21/552 ,  G01N2201/0636 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/064 ,  G02B7/1805 ,  G02B21/26

Abstract: In an objective optical system used for sample surface analysis by an attenuated total reflectance method by attaching to an infrared microscope, in the system including a convex secondary mirror (112) configured to reflect a measurement light irradiated from the infrared microscope, a concave primary mirror (111) configured to reflect the measurement light reflected by the secondary mirror, and a prism (138) to which the measurement light reflected by the primary mirror is irradiated, a light shielding means (140) configured to shield a part of the light beam of the measurement light is provided on an optical path of the measurement light between the primary mirror and the prism. According to such a configuration, even if there is no enough space on the front side of the secondary mirror, it becomes possible to adjust the incident angle of the measurement light incident on the prism and the sample, easily switch between the measurements which prioritizes the optical throughput and the measurement which prioritizes mitigation of the anomalous dispersion using a single objective optical system, and easily acquire a plurality of absorption spectra measured at different penetration depths.

Abstract translation: 在用红外线显微镜进行衰减全反射法的试样表面分析所使用的物镜光学系统中，在具有对从红外线显微镜照射的测定光进行反射的凸状的第二反射镜（112）的系统中， （111），被配置为反射由所述次镜反射的所述测量光;以及棱镜（138），所述主镜反射的所述测量光被照射到所述棱镜（138），遮光装置（140），被配置为遮蔽所述光束 在主反射镜和棱镜之间的测量光的光路上提供测量光。 根据这样的结构，即使在副镜的前侧没有足够的空间，也能够调整入射到棱镜和试样上的测量光的入射角，容易地切换优先 光学通过量和优先使用单个物镜光学系统减轻反常色散的测量，并且容易获得在不同穿透深度测量的多个吸收光谱。

公开(公告)号：EP3215828A1

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：EP15857580.3

申请日：2015-11-06

Applicant: National Research Council of Canada

Inventor： BOUCHARD, Paul ,  SABSABI, Mohamad ,  DOUCET, Francois ,  ÖZCAN, Lütfü Celebi

IPC: G01N21/71 ,  G01J3/443

CPC classification number: G01J3/443 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0243 ,  G01N21/718 ,  G01N2201/0221 ,  G01N2201/0638

Abstract: The present invention provides a method and compact apparatus for laser induced breakdown atomic emission spectroscopy from a targeted sample having a laser generating a laser beam, the laser beam directed to the sample, optical means for manipulating the laser beam in order maximize laser fluency at the target surface of the sample, the laser beam generating ablation and plasma emission from the sample at the target surface, an emission spectrometer having a detector for detecting a plasma plume from the plasma emission.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于激光诱导击穿原子发射光谱学的方法和紧凑装置，该装置具有产生激光束的激光器，激光束指向样品，用于操纵激光束的光学装置，以便使激光束在 目标表面上的激光束产生消融和来自样品的等离子体发射，发射光谱仪具有用于从等离子体发射中检测等离子体羽流的检测器。

公开(公告)号：EP3120382A1

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：EP15765881.6

申请日：2015-03-13

Applicant: Kla-Tencor Corporation

Inventor： CHUANG, Yung-Ho Alex ,  ZHANG, Jingjing ,  FIELDEN, John

IPC: H01L27/146 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L27/14632 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/061 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/12 ,  H01L27/14609 ,  H01L27/1461 ,  H01L27/14612 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14643 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14647 ,  H01L27/14681 ,  H01L27/14685 ,  H01L27/14687 ,  H01L27/14689 ,  H01L27/14698 ,  H01L27/14825 ,  H01L27/14831 ,  H01L27/14856 ,  H01L31/028 ,  H01L31/107 ,  H01L31/1804

Abstract: A high sensitivity image sensor comprises an epitaxial layer of silicon that is intrinsic or lightly p doped (such as a doping level less than about 1013 cm-3). CMOS or CCD circuits are fabricated on the front-side of the epitaxial layer. Epitaxial p and n type layers are grown on the backside of the epitaxial layer. A pure boron layer is deposited on the n-type epitaxial layer. Some boron is driven a few nm into the n-type epitaxial layer from the backside during the boron deposition process. An anti-reflection coating may be applied to the pure boron layer. During operation of the sensor a negative bias voltage of several tens to a few hundred volts is applied to the boron layer to accelerate photo-electrons away from the backside surface and create additional electrons by an avalanche effect. Grounded p-wells protect active circuits as needed from the reversed biased epitaxial layer.

Abstract translation: 高灵敏度图像传感器包括硅的外延层，其是固有的或轻掺杂的（例如掺杂水平小于约1013cm-3）。 CMOS或CCD电路制造在外延层的前侧。 外延p和n型层生长在外延层的背面。 纯硼层沉积在n型外延层上。 在硼沉积过程中，一些硼从背面被驱动到n型外延层中几nm。 可以将抗反射涂层施加到纯硼层。 在传感器的操作期间，将几十到几百伏特的负偏压施加到硼层以加速光电子离开背面，并通过雪崩效应产生额外的电子。 接地的p阱可以根据需要从反向偏置的外延层保护有源电路。

公开(公告)号：EP2100127B1

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：EP07819870.2

申请日：2007-11-20

Applicant: NanoTemper Technologies GmbH

Inventor： DUHR, Stefan ,  BAASKE, Philipp

IPC: G01N21/17 ,  G01N21/64 ,  G01N15/02 ,  G01N15/14 ,  B01L3/00 ,  G01N15/00 ,  G01K11/12 ,  B01F13/00

CPC classification number: G01N33/6803 ,  B01F13/0079 ,  B01L3/502715 ,  B01L3/502761 ,  B01L2200/0668 ,  B01L2400/0442 ,  B01L2400/0451 ,  B01L2400/0454 ,  C12Q1/68 ,  G01K11/12 ,  G01N15/0205 ,  G01N15/1434 ,  G01N15/1475 ,  G01N21/171 ,  G01N21/6408 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/6458 ,  G01N21/6486 ,  G01N33/6845 ,  G01N2015/0065 ,  G01N2015/0092 ,  G01N2015/025 ,  G01N2021/6439 ,  G01N2201/02 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0638 ,  Y10T436/143333