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公开(公告)号：CN101506739A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200780031539.1
申请日：2007-08-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/70258
Abstract: 本发明涉及一种用于补偿光学系统中、特别是微光刻系统的投影透镜阵列(3)中强度分布所致成像误差的方法，该方法包括以下步骤：确定光学系统的至少一个光学元件中与位置和时间有关的强度分布；确定已经为之确定强度分布的至少光学元件中与位置和/或时间有关的吸收能量；确定光学元件由所述能量造成的变形和/或光学属性变化；以及根据先前步骤的结果来选择一个或者多个补偿措施。并且本发明涉及一种用于对物体、特别是用于微光刻的投影透镜进行成像的光学系统，该光学系统优选地用于将所述的方法与至少一个、优选为多个光学元件(4，5)一起应用，其中为强度测量提供可以位于光路中的至少一个图像检测器(6，7)，该检测器直接地测量光学系统的光路中的位置和/或时间分解强度分布。
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公开(公告)号：CN101454724A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780020002.5
申请日：2007-07-23
Applicant: 卡尔·蔡司SMT股份公司
Inventor： 延斯·奥斯曼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70108 , G03F7/70358 , G03F7/70558
Abstract: 本发明涉及一种用于微光刻－投影曝光设备的照明系统，其中，该照明系统包括：光源，其发射≤100nm的波长范围的光，特别是在EUV－波长范围内的光，用来照明出射光瞳平面(121)，以及一种元件，利用该元件在出射光瞳平面(121)的至少一个第一照明(22)中可向第二照明(24)改变，以及至少一个探测器(160.1，160.2)用来检测光，其中，其特征在于，该照明系统包括一种装置(164)，其获取探测器(160.1，160.2)的至少一个光强度信号并至少根据所获取的光强度信号来提供控制信号，利用该信号可以调节在微光刻－投影曝光设备的像平面(221)中的光敏物体的扫描速度。
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公开(公告)号：CN100495210C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN03147022.X
申请日：2003-08-26
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20 , G21K1/06 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/062 , Y10T428/24355 , Y10T428/30
Abstract: 一种光刻投影设备的光学元件，包括Si/Mo多层结构、外覆盖层和位于多层结构和外覆盖层之间的夹层，其中夹层具有为入射光束波长的0.3倍和0.7倍之间的厚度。在第一实施例中，该夹层由选自C和Mo的材料构成，并且具有6.0nm和9.0nm之间的厚度。在第二实施例中，该夹层由紧邻多层结构的Mo内夹层和紧邻覆盖层的C外层构成。在第二实施例中，C夹层至少3.4nm厚，Ru覆盖层至少2.0nm厚。
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公开(公告)号：CN101223459A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680018511.X
申请日：2006-05-23
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
Inventor： U·韦格曼
CPC classification number: G02B5/0278 , G01J1/04 , G01J1/0474 , G01J9/0215 , G02B5/0242 , G02B5/0294 , G03F7/70341 , G03F7/706
Abstract: 1.光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。2.1.本发明涉及一种光学散射盘，包括透明基底(1)和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。2.2.依据本发明，光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质(4)，并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。2.3.借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。
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公开(公告)号：CN101221279A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200710300394.2
申请日：2007-12-04
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G03F7/70958 , G02B5/0891 , G03F7/70233 , G03F7/70891
Abstract: 一种光学系统具有多个使波长为λ的光从物平面向像平面成像的元件，该多个元件包括在光路上的具有反射表面的多个反射镜元件。多个反射镜元件中的至少一个是光瞳反射镜，其具有设置在或接近光学系统的光瞳表面的位置处的光瞳反射镜表面。剩余反射镜元件中的至少一个是高负荷的反射镜，其具有反射镜表面并被设置在产生所有剩余反射镜的入射角范围的最大值和平均入射角的最大值中的至少一个的位置，其中该剩余反射镜包括除了光瞳反射镜之外的所有反射镜。光瞳反射镜表面由设计为包括不同材料层的多层堆叠的一维渐变涂层的反射涂层形成，该层具有几何层厚度，其根据第一渐变函数在涂层的第一方向上变化且在垂直于第一方向的第二方向上基本恒定。高负荷的反射镜的反射镜表面被涂覆有根据第二渐变函数设计的渐变涂层的反射镜涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101171547A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200680015147.1
申请日：2006-04-27
Applicant: 卡尔·蔡司SMT股份公司
Inventor： 汉斯-于尔根·曼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70233 , G02B27/286 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70566
Abstract: 本发明涉及一种微光刻投射曝光装置，其使用的波长≤100nm，尤其是用于EUV光刻的波长＜50nm，优选地＜20nm，该微光刻投射曝光装置具有：照明系统，该照明系统使用限定的偏振状态的光来照亮物体平面中的场；以及物镜，其将物体平面中的场投射到像平面中，所述偏振光从物体平面穿过所述物镜到达像平面。
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公开(公告)号：CN101088039A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200580044848.3
申请日：2005-12-22
Applicant: 卡尔·蔡司SMT股份公司
IPC: G02B17/06
Abstract: 本发明涉及一种物镜，尤指一种特别在波长≤193nm中使用的微光刻投影物镜，包括有：第一局部物镜(100)，具有至少一个镜体，其中镜体(S1)不具有能由光束穿过的孔；第二局部物镜(200)，具有至少一个主凹面镜(SK1)和副凹面镜(SK2)，其中主凹面镜(SK1)和副凹面镜(SK2)都具有能由光束穿过的孔。
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公开(公告)号：CN1985206A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200580023994.8
申请日：2005-05-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G03F7/70058 , G02B17/06 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G03F7/7015 , G03F7/70225 , G03F7/70275
Abstract: 一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面上的图案成像在投影物镜的像面上，具有用于物场的成像以形成第一真实的中间图像的第一物镜部分，利用来自第一物镜部分的辐射产生第二真实的中间图像的第二物镜部分；以及将第二真实的中间图像成像在像面上的第三物镜部分。第二物镜部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供沿凹面镜的方向偏转来自物面的辐射的第一折叠式反射镜和沿像面的方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠式反射镜。在接近于第一中间图像的场的区域中，具有正折射本能的场透镜布置在第一中间图像和/或第一折叠式反射镜和凹面镜之间。
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公开(公告)号：CN1910522A
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200580002241.9
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件(1)具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件(1)具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作用，其中第一旋转角和第二旋转角彼此不同。
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公开(公告)号：CN1894632A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200480037372.6
申请日：2004-12-10
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于把在投影物镜的物面上提供的图案成像到适合微光刻投影曝光机的投影物镜的图像面的投影物镜，具有多个对于投影物镜的工作波长的辐射是透明的光学单元。至少一个光学单元是由具有在工作波长上折射率n≥1.6的高折射率材料制成的高折射率光学单元。
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