-
公开(公告)号：TWI588467B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW100114132
申请日：2011-04-22
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 利茲科夫 雷夫 , RYZHIKOV, LEV , 瓦拉狄米斯基 由利 , VLADIMIRSKY, YULI , 華許 詹姆士H , WALSH, JAMES H.
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G03F7/7015 , G01N21/94 , G02B13/04 , G02B13/18 , G03F1/84 , G03F7/7085 , G03F7/70908
-
公开(公告)号：TW201712436A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105121815
申请日：2016-07-11
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 凡 柏克哈文 羅倫堤斯 約翰納斯 安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS , 華德 克里斯多弗 查爾斯 , WARD, CHRISTOPHER CHARLES , 凡 德 凱格 馬克 黎昂 , 庫尼 約翰 葛卓迪斯 寇尼里斯 , KUNNEN, JOHAN GERTRUDIS CORNELIS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70733 , G03F7/70783 , G03F7/70858 , G03F7/70891
Abstract: 一種微影設備，該微影設備包括：一圖案化裝置支撐結構，其經組態以支撐一圖案化裝置；一氣體入口，其經組態以橫越該圖案化裝置之一表面提供一氣流；及一溫度調節裝置，其經組態以基於一設定點而調節該氣流之溫度。該設備亦包括一感測器，該感測器經組態以在微影系統之操作使用期間量測指示加至該圖案化裝置以及該圖案化裝置與一投影系統之一透鏡之間的一容積之熱之一量的一參數。另外，該設備包括一控制器，該控制器以操作方式耦接至該感測器且經組態以基於藉由該感測器量測之該參數而調整該設定點以控制該圖案化裝置之一溫度。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，该微影设备包括：一图案化设备支撑结构，其经组态以支撑一图案化设备；一气体入口，其经组态以横越该图案化设备之一表面提供一气流；及一温度调节设备，其经组态以基于一设置点而调节该气流之温度。该设备亦包括一传感器，该传感器经组态以在微影系统之操作使用期间量测指示加至该图案化设备以及该图案化设备与一投影系统之一透镜之间的一容积之热之一量的一参数。另外，该设备包括一控制器，该控制器以操作方式耦接至该传感器且经组态以基于借由该传感器量测之该参数而调整该设置点以控制该图案化设备之一温度。
-
公开(公告)号：TWI574122B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW104126276
申请日：2015-08-12
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 萊希克夫 里夫 , RYZHIKOV, LEV
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01N21/474 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2201/0638 , G02B9/64 , G02B13/143 , G02B13/16 , G02B13/18 , G02B21/02 , G02B27/0025 , G03F7/70 , G03F7/70058
-
公开(公告)号：TW201635041A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104143219
申请日：2015-12-22
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡圖瑞譨 湯瑪士 , VENTURINO, THOMAS , 史亞茲 傑佛瑞 , SCHULTZ, GEOFFREY , 蓋伯特 丹尼爾 尼可拉斯 , GALBURT, DANIEL NICHOLAS , 波本克 丹尼爾 奈森 , BURBANK, DANIEL NATHAN , 戴爾樸爾透 山提亞哥E , DELPUERTO, SANTIAGO E. , 沃格 赫曼 , VOGEL, HERMAN , 昂夫里 喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 凡 柏克哈文 羅倫堤斯 約翰納斯 安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS , 華德 克里斯多弗 查爾斯 , WARD, CHRISTOPHER CHARLES
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875
Abstract: 本發明係關於一種藉由供應一非均勻氣流而冷卻一圖案化器件之裝置、系統及方法。該裝置及系統包括橫越該圖案化器件之第一表面供應一氣流的一氣體供應結構。該氣體供應結構包括經特殊地組態以產生一非均勻氣流分佈之一氣體供應噴嘴。將一較大體積或速度之該氣流導向至該圖案化器件之所要部分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种借由供应一非均匀气流而冷却一图案化器件之设备、系统及方法。该设备及系统包括横越该图案化器件之第一表面供应一气流的一气体供应结构。该气体供应结构包括经特殊地组态以产生一非均匀气流分布之一气体供应喷嘴。将一较大体积或速度之该气流导向至该图案化器件之所要部分。
-
公开(公告)号：TW201619692A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104137749
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 , JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS , 阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 , AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL , 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 , BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA , 布魯吉 馬克 , BRUIJN, MARC , 布魯斯 理查 喬瑟夫 , BRULS, RICHARD JOSEPH , 戴克斯 傑洛恩 , DEKKERS, JEROEN , 簡森 保羅 , JANSSEN, PAUL , 卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 , KAMALI, MOHAMMAD REZA , 卡默 羅納 哈莫 剛瑟 , KRAMER, RONALD HARM GUNTHER , 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 , 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 , LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 里普森 馬修 , LIPSON, MATTHEW , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 黎昂斯 喬瑟夫H , LYONS, JOSEPH H , 露克司 史蒂芬 , ROUX, STEPHEN , 凡 登 波許 吉瑞特 , VAN DEN BOSCH, GERRIT , 凡 登 海吉坎特 山德 , VAN DEN HEIJKANT, SANDER , 凡 得 葛絡夫 珊卓拉 , VAN DER GRAAF, SANDRA , 凡 丹 慕蘭 佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 , 凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 , VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K
IPC: G03F1/62
CPC classification number: G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825
Abstract: 本發明係關於一種適合用於一微影製程中之遮罩總成，該遮罩總成包含：一圖案化器件；及一表膜框架，其經組態以支撐一表膜且藉由一安裝台安裝在該圖案化器件上；其中該安裝台經組態以相對於該圖案化器件懸置該表膜框架，使得該表膜框架與該圖案化器件之間存在一間隙；且其中該安裝台在該圖案化器件與該表膜框架之間提供一可釋放式可嚙合附著。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种适合用于一微影制程中之遮罩总成，该遮罩总成包含：一图案化器件；及一表膜框架，其经组态以支撑一表膜且借由一安装台安装在该图案化器件上；其中该安装台经组态以相对于该图案化器件悬置该表膜框架，使得该表膜框架与该图案化器件之间存在一间隙；且其中该安装台在该图案化器件与该表膜框架之间提供一可释放式可啮合附着。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI527150B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100136322
申请日：2011-10-06
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 海勒姆斯 彼得 理察 , HELMUS, PETER RICHARD , 里普森 馬修 , LIPSON, MATTHEW , 維克洛 羅那德A , WILKLOW, RONALD A. , 肯儂 詹姆士 , KENNON, JAMES , 懷特 肯納德 , WHITE, KENNARD , 理查曼二世 韋伯 喬丹 , REICHMANN II, WILBUR JORDAN
IPC: H01L21/683 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/70691 , H01L21/6833 , H02N13/00
-
公开(公告)号：TW201610542A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104126274
申请日：2015-08-12
Applicant: ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 梁 肯樸 , LEUNG, KING PUI , 陳 濤 , CHEN, TAO , 凡雷特 凱文J , VIOLETTE, KEVIN J.
CPC classification number: G03F9/7065 , G01B11/272 , G02B6/02214 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7088
Abstract: 一種頻譜加寬輻射設備，其包括：一雷射，其經組態以經由該雷射之一輸出發射實質上僅在電磁頻譜之可見光區中的輻射，該輻射具有一標稱波長；及一光纖，其光學地耦合至該雷射之該輸出，該光纖具有用以自該雷射接收該輻射之一輸入且具有用以提供頻譜加寬輸出輻射之一輸出，該光纖經組態以將來自該雷射之該輻射頻譜上加寬至圍繞該標稱波長的至少0.5奈米之一頻譜寬度。
Abstract in simplified Chinese: 一种频谱加宽辐射设备，其包括：一激光，其经组态以经由该激光之一输出发射实质上仅在电磁频谱之可见光区中的辐射，该辐射具有一标称波长；及一光纤，其光学地耦合至该激光之该输出，该光纤具有用以自该激光接收该辐射之一输入且具有用以提供频谱加宽输出辐射之一输出，该光纤经组态以将来自该激光之该辐射频谱上加宽至围绕该标称波长的至少0.5奈米之一频谱宽度。
-
公开(公告)号：TWI488007B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW098112204
申请日：2009-04-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 , 哈洛 喬治 希拉蕊 , HARROLD, GEORGE HILARY , 強森 理查 約翰 , JOHNSON, RICHARD JOHN , 凡 德 維登 雨果 傑卡布斯 葛瑞德司 , VAN DER WEIJDEN, HUGO JACOBUS GERARDUS
IPC: G03F7/20 , H01L21/673
CPC classification number: G03F7/70741 , G03F7/70983 , H01L21/682
-
公开(公告)号：TWI471599B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW101136400
申请日：2007-10-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 奧斯卡 法蘭西斯科 喬瑟夫 諾德曼 , OSCAR FRANCISCUS JOZEPHUS, NOORDMAN , 賈斯汀L 克魯瑟 , JUSTIN L., KREUZER , 亨利 瓊斯 派崔斯 文克 , HENRI JOHANNES PETRUS, VINK , 度尼斯 康納利斯 凡 丹 朵爾 , TEUNIS CORNELIS, VAN DEN DOOL , 丹尼爾 派瑞斯 卡勒羅 , DANIEL PEREZ, CALERO
CPC classification number: G03F7/70558 , G02B26/001 , G03F7/70041
-
公开(公告)号：TW201416806A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102136624
申请日：2013-10-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 尼梅捷 捷瑞特 喬漢斯 , NIJMEIJER, GERRIT JOHANNES , 克魯瑟 賈斯汀 洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 卓斯奇衛茲 史坦利 , DRAZKIEWICZ, STANLEY
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70141 , G01B11/14 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 一種用以量測一標記之位置之裝置，該裝置包括：一照明配置，其用以引導輻射橫越該裝置之一光瞳，該照明配置包含一照明源以提供實質上相等偏振之多波長輻射，且包含一波片以相依於波長而變更該輻射之該偏振，使得供應不同偏振之輻射；一接物鏡，其用以使用由該照明配置供應之該輻射將輻射引導於該標記上，同時使該輻射在一掃描方向上橫越該標記進行掃描；一輻射處理元件，其用以處理由該標記繞射且由該接物鏡接收之輻射；及一偵測配置，其用以偵測在該掃描期間由該輻射處理元件輸出之輻射之一強度的變化且自該經偵測變化演算該標記在至少一第一量測方向上之一位置。
Abstract in simplified Chinese: 一种用以量测一标记之位置之设备，该设备包括：一照明配置，其用以引导辐射横越该设备之一光瞳，该照明配置包含一照明源以提供实质上相等偏振之多波长辐射，且包含一波片以相依于波长而变更该辐射之该偏振，使得供应不同偏振之辐射；一接物镜，其用以使用由该照明配置供应之该辐射将辐射引导于该标记上，同时使该辐射在一扫描方向上横越该标记进行扫描；一辐射处理组件，其用以处理由该标记绕射且由该接物镜接收之辐射；及一侦测配置，其用以侦测在该扫描期间由该辐射处理组件输出之辐射之一强度的变化且自该经侦测变化演算该标记在至少一第一量测方向上之一位置。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
231
records
(took 0.04 seconds)
