TWO STAGE FLASH ANALOG-TO-DIGITAL SIGNAL CONVERTER
    81.
    发明公开
    TWO STAGE FLASH ANALOG-TO-DIGITAL SIGNAL CONVERTER 失效
    双级并联模拟数字转换器

    公开(公告)号:EP0706731A1

    公开(公告)日:1996-04-17

    申请号:EP94921895.0

    申请日:1994-05-02

    IPC: H03M1

    CPC classification number: H03M1/204 H03M1/365

    Abstract: A two-stage flash analog-to-digital signal converter is described. The first stage has a voltage divider network and a set of amplifiers that perform an initial interpolation. The initial interpolation results are directly coupled, i.e., no resistive or capacitive elements, to a second stage comprising a set of comparators having multiple inputs. The multiple inputs of the second stage comparators are weightily coupled to the first stage amplifiers in a manner so as to cause the second stage comparators to generate a digital representation of the analog signal.

    IMPROVED MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY
    82.
    发明公开
    IMPROVED MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY 失效
    面具光刻。

    公开(公告)号:EP0620931A1

    公开(公告)日:1994-10-26

    申请号:EP93903571.0

    申请日:1993-01-15

    CPC classification number: G03F1/36 G03F7/70433 G03F7/70441

    Abstract: Est décrit un perfectionnement pour réduire les effets de proximité, consistant à ajouter, dans le motif de masque, des lignes minces appelées barres d'égalisation d'intensité. Ces barres d'égalisation ont pour fonction d'ajuster les gradients d'intensité des bords isolés du motif de masque, afin qu'ils correspondent aux gradients d'intensité des bords très rapprochés. Ces barres d'égalisation sont placées parallèlement aux bords isolés de telle manière que l'égalisation des gradients d'intensité s'effectue sur tous les bords isolés du motif de masque. En outre, les barres d'égalisation sont destinées à présenter une largeur notablement inférieure à la résolution de l'outil de sensibilisation. Par conséquent, lesdites barres qui sont présentes dans le motif de masque produisent des motifs de résist qui disparaissent complètement au dléveloppement lorsqu'une énergie de sensibilisation nominale est utilisée pendant l'exposition du photorésist.

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