公开(公告)号：KR1019960002545A

公开(公告)日：1996-01-26

申请号：KR1019940012262

申请日：1994-06-01

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강광남 ,  이정일 ,  김회종 ,  한일기 ,  최원준 ,  이유종 ,  이명복

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 다층 집적회로 제조용 마스크(Mest)를 제작시 사용하는 전자빔리소그래프(lithography)장치 및 다층의 공정 레벨 관련 패턴을 정렬하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 전자 현미경에 후방 산란 전자를 검지하고 그 검지 신호를 처리하기 우한 부가적인 전자회로 장치를 사용하지 않고, 전자 현미경에 간단한 기능만을 추가한 리소그래피의 다층 정렬방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 다층 집적회로 제조용 마스크를 제작하는데 사용되는 전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치는, 전자빔을 차단하기 위한 전자빔 차단기를 포함하는 전자 현미경, 아날로그 디지탈 변환기, 및 상기 아날로그 디지탈 변환기에 의해 변환된 디지탈 신호를 저장 및 출력하기 위한 컴퓨터를 포함하며 구성된다.