公开(公告)号：KR100121563B1

公开(公告)日：1997-11-13

申请号：KR1019940011792

申请日：1994-05-28

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강광남 ,  이정일 ,  우덕하 ,  김회종 ,  이석 ,  이유종 ,  이명복

IPC: G03F7/00

Abstract: It is an object to provide a method capable of easily correcting each mask patterns when manufacturing a mulilayer mask by converting an electronic microscope into a simply additional device in order to perform an electron beam lithography while maintaining original functions thereof. The method according to the present invention can easily compensate defects of a mask prior to manufacturing the mask by using functions of a microscope. The method performs an electron beam lithography to directly represent a pattern on a sample and manufacture the mask while maintaining original functions of the microscope.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够在通过将电子显微镜转换为简单的附加装置来制造多层掩模时容易地校正每个掩模图案的方法，以便在保持其原始功能的同时进行电子束光刻。 根据本发明的方法可以通过使用显微镜的功能，在制造掩模之前容易地补偿掩模的缺陷。 该方法进行电子束光刻以直接表示样品上的图案并制造掩模，同时保持显微镜的原始功能。

公开(公告)号：KR100132539B1

公开(公告)日：1998-04-16

申请号：KR1019940012262

申请日：1994-06-01

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강광남 ,  이정일 ,  김회종 ,  한일기 ,  최원준 ,  이유종 ,  이명복

IPC: H01L21/027

Abstract: Computer central processing unit scans electron beam by scanning circuit by running analog/digital convertor and detects generating signal with detector(S10). Detected signal converted through analog/digital convertor after passing through an image signal amplifier and is stored at data storing device by computer central processing unit. Stored signal outputs to computer monitor and outputs to electron microscope monitor(S11) through an image signal amplifier from a detector(S10). Therefore, electron beam lithography device carries mask pattern alignment from an output alignment mark image and by using electron beam blocker(S4) blocks electron beam and controls electron microscope magnification so all electron beam lithography area are positioned within range of scanning.

Abstract translation: 计算机中央处理单元通过运行模拟/数字转换器扫描电路扫描电子束，并用检测器检测生成信号（S10）。 检测信号通过模拟/数字转换器通过图像信号放大器后转换，并由计算机中央处理单元存储在数据存储装置中。 存储的信号输出到计算机监视器并通过来自检测器的图像信号放大器输出到电子显微镜监视器（S11）（S10）。 因此，电子束光刻设备从输出对准标记图像和使用电子束阻挡器（S4）携带掩模图案对准，阻止电子束并控制电子显微镜放大率，使得所有电子束光刻区域位于扫描范围内。

公开(公告)号：KR1019960002545A

公开(公告)日：1996-01-26

申请号：KR1019940012262

申请日：1994-06-01

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강광남 ,  이정일 ,  김회종 ,  한일기 ,  최원준 ,  이유종 ,  이명복

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 다층 집적회로 제조용 마스크(Mest)를 제작시 사용하는 전자빔리소그래프(lithography)장치 및 다층의 공정 레벨 관련 패턴을 정렬하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 전자 현미경에 후방 산란 전자를 검지하고 그 검지 신호를 처리하기 우한 부가적인 전자회로 장치를 사용하지 않고, 전자 현미경에 간단한 기능만을 추가한 리소그래피의 다층 정렬방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 다층 집적회로 제조용 마스크를 제작하는데 사용되는 전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치는, 전자빔을 차단하기 위한 전자빔 차단기를 포함하는 전자 현미경, 아날로그 디지탈 변환기, 및 상기 아날로그 디지탈 변환기에 의해 변환된 디지탈 신호를 저장 및 출력하기 위한 컴퓨터를 포함하며 구성된다.

公开(公告)号：KR1019950033667A

公开(公告)日：1995-12-26

申请号：KR1019940011792

申请日：1994-05-28

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강광남 ,  이정일 ,  우덕하 ,  김회종 ,  이석 ,  이유종 ,  이명복

IPC: G03F7/00

Abstract: 본 발명은 전자 현미경을 그 본래의 기능을 살리면서 전자빔 리소그래피를 할 수 있도록 간단한 부가 장치로 개조하여 사용함으로써 다층의 마스크 제작시 각각의 마스크 패턴을 간단히 수정할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 방법은 전자 현미경의 기능을 활용하므로써 마스크를 만들기 직전에 마스크의 결함을 간단히 수정 보완할 수 있다는 장점과 전자 현미경 기능을 그대로 살리면서 전자빔 리소그래프를 하여 시료위에 패턴을 직접 묘사할 수 있고 마스크를 제작할 수 있다는 장점이 있다.