公开(公告)号：CN1166166A

公开(公告)日：1997-11-26

申请号：CN96191236.7

申请日：1996-10-10

Applicant: 菲利浦电子有限公司

Inventor： R·J·帕特 ,  J·J·添马曼斯

IPC: C03C3/06 ,  H01K1/28

CPC classification number: H01K1/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/36 ,  C03C2201/42

Abstract: 带有一石英玻璃灯容器(1)或围绕灯容器的封皮(4′)的电白炽灯在发光体(3)的侧面区域带有红色掺杂物。带有红色掺杂物的石英玻璃含有一氧化钐，氧化铝、二氧化钛和二氧化硅。分析玻璃的组成，以氧化物形式的含有1-3％重量的Sm2O3，不到3％重量的Al2O3，TiO2，其余为SiO2，Al/Sn的摩尔比至少约为2，并且Sm/Ti的摩尔比为2-8。

公开(公告)号：CN1079722A

公开(公告)日：1993-12-22

申请号：CN93106714.6

申请日：1993-06-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： C·E·斯科特 ,  C·A·西森 ,  T·G·帕汉姆 ,  G·R·阿伦 ,  R·L·贝特曼 ,  P·G·马修斯

IPC: C03C3/06 ,  H01J61/30 ,  H01K1/28

CPC classification number: C03C4/085 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/3423 ,  C03C2201/3447 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  H01J61/302 ,  H01J61/40

Abstract: 现已证实包含铕氧化物、钛二氧化物和铈氧化物的熔凝石英一方面有效地吸收UV辐射，一方面传输可见光辐射。这材料的用处包括用于既发射UV又辐射可见光的卤素白炽灯和金属卤化物电弧放电管的灯泡和灯罩。

公开(公告)号：NO791910A

公开(公告)日：1979-12-13

申请号：NO791910

申请日：1979-06-07

Applicant: CORNING GLASS WORKS

Inventor： SCHULTZ PETER CHARLES

IPC: C03B37/01 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  C03C17/02 ,  C03C23/00 ,  G02B6/00 ,  G02B

CPC classification number: C03C23/0085 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/90

公开(公告)号：WO2015071167A1

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：PCT/EP2014/073921

申请日：2014-11-06

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OCHS, Stefan ,  BECKER, Klaus

IPC: C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/066 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1095 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G03F1/24

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titandotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas mit einem vorgegebenen Fluorgehalt für den Einsatz in der EUV-Lithographie, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient über die Einsatztemperatur möglichst stabil bei Null liegt. Der Verlauf des thermischen Ausdehnungskoeffizienten von Ti-dotiertem Kieselglas hängt von mehreren Einflussfaktoren ab. Neben dem absoluten Titan-Gehalt ist die Verteilung des Titans von großer Bedeutung, wie auch der Anteil und die Verteilung von weiteren Dotierelementen, wie etwa Fluor. Erfindungsgemäß wird ein Verfahren vorgeschlagen, das einen Syntheseprozess umfasst, bei dem fluordotierte TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel erzeugt und durch Konsolidieren und Verglasen zu dem Rohling weiterverarbeitet werden, dadurch gekennzeichnet, dass der Syntheseprozess einen Verfahrensschritt umfasst, bei dem mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel gebildet werden und einen nachfolgenden Verfahrensschritt, in dem die TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel in einem bewegten Pulverbett einem Fluor enthaltenden Reagenz ausgesetzt und zu den fluordotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikeln umgesetzt werden.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备由钛掺杂，高二氧化硅玻璃坯料与预定氟含量在EUV光刻，其中，在所述工作温度的热膨胀系数尽可能为零作为稳定的用途。 的Ti掺杂的石英玻璃的热膨胀系数的过程取决于几个因素。 除了绝对钛含量，钛的分布是非常重要的，以及其它的掺杂元素，如氟的比例和分布。 根据提出了一种方法的本发明，其包括合成过程中氟掺杂TiO2-SiO2的烟尘颗粒产生并进一步通过整合和坯料的玻璃化处理，其特征在于，所述合成方法包括的处理步骤，其中含有硅和钛的火焰水解装置 开始形成TiO2-SiO2的烟灰颗粒材料和随后的方法步骤中，在包含在氟试剂暴露于并与氟掺杂的TiO 2的SiO 2系Sootpartikeln反应的粉末的移动床的TiO2-SiO2的烟灰颗粒。

公开(公告)号：WO2013084978A1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：PCT/JP2012/081611

申请日：2012-12-06

Applicant: 信越石英株式会社 ,  信越化学工業株式会社

Inventor： 江崎　正信 ,  上田　哲司 ,  毎田　繁 ,  大塚　久利

IPC: H01L21/027 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  G03F1/22

CPC classification number: C03B19/1423 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/0006 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24

Abstract: 　ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板に要求される高平坦度を有し、プラズマエッチング、イオンビームエッチング等の表面処理に要するコスト、処理時間等を軽減することができる、チタニア－シリカガラス製ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板を提供する。　１５２．４×１５２．４×６．３５ｍｍのフォトマスク基板形状で、該基板の中央部１４２．４×１４２．４ｍｍ内の屈折率均質性 Δｎが、３×１０ －４ 以下であり、１５２．４×１５２．４ｍｍ面内の中心部２０×２０ｍｍ内の範囲に屈折率の極大値もしくは極小値を１点のみ持ち、１５２．４×１５２．４ｍｍ面内の中央部１４２．４×１４２．４ｍｍ内の範囲で、最も高い位置と最も低い位置との差が５０ｎｍ以下であるようにした。

Abstract translation: 提供一种二氧化钛 - 二氧化硅玻璃EUV光刻用光掩模基板，其具有EUV光刻光掩模基板所需的高度的平坦度，并且能够降低诸如等离子体蚀刻和离子束等表面处理所需的成本，处理时间等 蚀刻。 光掩模基板尺寸为152.4×152.4×6.35 mm; 折射率均匀度Deltan在衬底中间部分的142.4×142.4 mm范围内不超过3×10-4; 折射率的一个最大值或最小值在152.4×152.4mm平面内的中心部分的20×20mm的范围内; 在152.4×152.4mm平面内的中间部分的142.4×142.4mm的范围内的最高位置和最低位置之间的差别不大于50nm。

公开(公告)号：WO2011138340A3

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：PCT/EP2011057074

申请日：2011-05-03

Applicant: ZEISS CARL SMT GMBH ,  KALLER JULIAN ,  CLAUSS WILFRIED ,  GERHARD MICHAEL

Inventor： KALLER JULIAN ,  CLAUSS WILFRIED ,  GERHARD MICHAEL

IPC: G03F7/20 ,  C03B32/02 ,  C03C3/06 ,  C03C10/00

CPC classification number: G02B5/08 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03C3/06 ,  C03C10/00 ,  C03C14/00 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/70891

Abstract: For the production of mirrors for EUV lithography, substrates are suggested having a mean relative thermal longitudinal expansion of no more than 10 ppb across a temperature difference ?? of 15°C and a zero-crossing temperature in the range between 20°C and 40°C. For this purpose, at least one first and one second material having low thermal expansion coefficients and opposite gradients of the relative thermal expansion as a function of temperature are selected and a substrate is produced by mixing and bonding these materials.

Abstract translation: 为了生产用于EUV光刻的反射镜，建议基板的温度差Δθ平均相对热纵向膨胀不超过10ppb 为15°C，过零温度为20°C至40°C。 为此，选择具有低热膨胀系数和相对热膨胀作为温度的函数的相反梯度的至少一种第一和第二材料，并通过混合和粘合这些材料来生产基底。

公开(公告)号：WO2011068064A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：PCT/JP2010/070944

申请日：2010-11-24

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  三森 喬宏 ,  小川 朝敬

Inventor： 小池　章夫 ,  三森　喬宏 ,  小川　朝敬

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C3/089 ,  C03C3/097 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42

Abstract: 　本発明は、ＴｉＯ 2 を５～１０質量％含有し、Ｂ 2 Ｏ 3 、Ｐ 2 Ｏ 5 およびＳのうち、少なくとも一つを合計含有量で５０質量ｐｐｂ～５質量％含有する、ＴｉＯ 2 を含有するシリカガラスに関する。

Abstract translation: 公开了含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其含有5-10质量％的TiO 2，同时含有总共为50ppb〜5质量％的B 2 O 3，P 2 O 5或S中的至少一种。

公开(公告)号：WO2010082586A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：PCT/JP2010/050286

申请日：2010-01-13

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  民辻 慎哉 ,  渡邉 邦夫 ,  小川 朝敬

Inventor： 小池　章夫 ,  民辻　慎哉 ,  渡邉　邦夫 ,  小川　朝敬

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  G02B1/00 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03B19/1461 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: 　本発明は、ＴｉＯ ２ 濃度が３～１０質量％、Ｔｉ ３＋ 濃度が１００ｗｔｐｐｍ以下、０～１００℃での熱膨張係数ＣＴＥ ０～１００ が０±１５０ｐｐｂ／℃であり、４００～７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ ４００～７００ が８０％以上であるＴｉＯ ２ を含有するシリカガラスからなる光学部材であって、光学使用面におけるＴｉ ３＋ 濃度の平均値に対するＴｉ ３＋ 濃度のばらつきの割合ΔＴｉ ３＋ ／Ｔｉ ３＋ が０．２以下である、光学部材に関する。

Abstract translation: 一种光学构件，其包含含有TiO 2的二氧化硅玻璃，所述玻璃的TiO 2浓度为3-10质量％，Ti 3+浓度为100重量％。 ppm或更低，0-100℃，CTE0-100，0±150ppb /ºC的热膨胀系数，400-700nm，T400-700的波长范围内的内部透射率为80％以上 mm的厚度。 在用于光学目的的表面中，Ti 3+浓度不均匀与平均Ti 3+浓度，Ti 3+ / Ti 3+的比例为0.2以下。

公开(公告)号：WO2009034954A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：PCT/JP2008/066199

申请日：2008-09-09

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  生田 順亮 ,  岩橋 康臣 ,  岡村 研治

Inventor： 生田 順亮 ,  岩橋 康臣 ,  岡村 研治

IPC: B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  C03C3/06 ,  G02B5/18 ,  H01L21/027

CPC classification number: B29C33/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/0002

Abstract: 　本発明は、ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ 2 含有石英ガラス基板を提供することを課題とする。本発明は、１５～３５°Cにおける熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／°C以内であり、ＴｉＯ 2 濃度が４～９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面におけるＴｉＯ 2 濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ 2 含有石英ガラス基板に関する。

Abstract translation: 一种含TiO2的石英玻璃基板，当用作纳米压印光刻的成型基板时，可以形成尺寸波动在±10％以内的粗糙图案。 含TiO 2的石英玻璃基板的特征在于，15-35℃的热膨胀系数在±200ppb /℃以内，TiO 2浓度为4-9重量％，基板中的TiO 2浓度分布 要形成转印图案的一侧的表面在±1重量％以内。

公开(公告)号：WO2009007146A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：PCT/EP2008/054287

申请日：2008-04-09

Applicant: EVONIK DEGUSSA GMBH ,  OSWALD, Monika ,  SCHULZE-ISFORT, Christian ,  SCHUMACHER, Kai ,  HOFMANN, Ralph ,  KISSNER, Corinna

Inventor： OSWALD, Monika ,  SCHULZE-ISFORT, Christian ,  SCHUMACHER, Kai ,  HOFMANN, Ralph ,  KISSNER, Corinna

IPC: C03B19/10 ,  C03C12/00

CPC classification number: C03B19/1005 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C3/083 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/20 ,  C04B35/14 ,  C04B35/62655 ,  C04B2235/72

Abstract: Process for producing a sintered granular material containing silicon dioxide and having a BET surface area of less than 1 m 2 g and a proportion of impurities of less than 50 ppm, in which a mixture which contains silicon dioxide powder and a metal compound is intensively mixed in an atmosphere having a relative atmospheric humidity of from 1.0 to 100% at temperatures of from 0 to 50°C by means of a dispersing apparatus, the crumbly mass is divided into pieces, subsequently dried, purified 'and sintered. The moisture content of the silicon dioxide powder and/or the atmospheric humidity are/is at least sufficient to hydrolyse the metal compound completely.

Abstract translation: 制备含有二氧化硅并且BET表面积小于1m 2 g的烧结颗粒材料和小于50ppm的杂质比例的方法，其中含有二氧化硅粉末和金属化合物的混合物在 气氛通过分散装置在0至50℃的温度下具有1.0至100％的相对大气湿度，将碎屑块分成几块，随后干燥，纯化并烧结。 二氧化硅粉末和/或大气湿度的水分含量至少足以使金属化合物完全水解。