公开(公告)号：CN101288212A

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200680038415.1

申请日：2006-08-17

Applicant: 阿尔卡特朗讯公司

Inventor： S·布朗尚丹 ,  C·科莱 ,  A·帕斯图雷特 ,  S·德蒙雷多 ,  J-P·若利韦 ,  C·沙内克

IPC: H01S3/067

CPC classification number: C09K11/7701 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/10 ,  C03C13/045 ,  C03C14/004 ,  C03C14/006 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/3476 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/06754 ,  H01S3/169

Abstract: 本发明涉及一种包括放大介质的光纤，其具有：由透明材料和纳米粒子(24)构成的芯(22)，其中所述纳米粒子包括掺杂元素和至少一种改进所述掺杂元素的使用的元素；以及围绕所述芯的外包层(26)。本发明的特征在于，所述掺杂元素是铒(Er)，并且所述改进元素是从锑(Sb)、铋(Bi)以及锑(Sb)和铋(Bi)的组合之中选出的。根据本发明，这种光纤的特征在于，所述纳米粒子的尺寸是变化的，该尺寸是1至500纳米并且优选地大于20纳米。

公开(公告)号：CN108698907A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201680075859.6

申请日：2016-12-13

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： G·E·伯基 ,  S·B·道斯

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03C13/04 ,  G02B6/036 ,  G02B1/00 ,  C03B37/014

CPC classification number: G02B6/03627 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/025 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/24 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/31 ,  C03C2203/54 ,  G02B6/02009 ,  G02B6/036 ,  G02B6/03622

Abstract: 本文展示了掺杂溴的氧化硅玻璃。溴的掺杂可用SiBr4作为前体来实现。溴的掺杂可在加热、固结或烧结多孔氧化硅玻璃主体的过程中发生。溴的掺杂浓度随掺杂前体压力的增大而增大，并且能够用幂律方程模拟，该方程中掺杂浓度正比于掺杂前体压力的平方根。溴在氧化硅中是一种正掺杂剂，氧化硅的相对折射率大致随掺杂浓度线性增加。溴可用作光纤掺杂剂，可结合到纤芯和/或包层区域中。在折射率分布存在凹陷的光纤中，溴的芯层掺杂浓度足以允许光纤中使用未掺杂氧化硅作为内包层材料。本文还展示了用溴和氯对氧化硅玻璃进行共掺杂。

公开(公告)号：CN101288212B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200680038415.1

申请日：2006-08-17

Applicant: 阿尔卡特朗讯公司

Inventor： S·布朗尚丹 ,  C·科莱 ,  A·帕斯图雷特 ,  S·德蒙雷多 ,  J-P·若利韦 ,  C·沙内克

IPC: H01S3/067

CPC classification number: C09K11/7701 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/10 ,  C03C13/045 ,  C03C14/004 ,  C03C14/006 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/3476 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/06754 ,  H01S3/169

Abstract: 本发明涉及一种包括放大介质的光纤，其具有：由透明材料和纳米粒子(24)构成的芯(22)，其中所述纳米粒子包括掺杂元素和至少一种改进所述掺杂元素的使用的元素；以及围绕所述芯的外包层(26)。本发明的特征在于，所述掺杂元素是铒(Er)，并且所述改进元素是从锑(Sb)、铋(Bi)以及锑(Sb)和铋(Bi)的组合之中选出的。根据本发明，这种光纤的特征在于，所述纳米粒子的尺寸是变化的，该尺寸是1至500纳米并且优选地大于20纳米。

公开(公告)号：CN102060432B

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201010546665.4

申请日：2010-11-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 毎田繁 ,  大塚久利

IPC: C03B20/00

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: 本发明涉及氧化钛和硫共掺杂的石英玻璃部件及其制造方法。特别地，提供了氧化钛和硫共掺杂的石英玻璃部件。由于氧化钛和硫的共掺杂，石英玻璃部件在一定温度下经历零膨胀并且在宽温度范围内经历低热膨胀，因此，石英玻璃部件适于用在可商购的EUV光刻工具中。还提供了用于EUV光刻的制备方法和光学部件。

公开(公告)号：CN104053635A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201280056365.5

申请日：2012-09-27

Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司

Inventor： A·多吉蒙特 ,  S·汉内克 ,  T·兰布瑞希特

IPC: C03C3/087

CPC classification number: H01L31/0481 ,  C03C3/087 ,  C03C3/095 ,  C03C4/0092 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3423 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/18 ,  G02B5/08 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/048 ,  H01L31/0525 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明涉及超白玻璃板，即具有高能量透过率的玻璃板，其尤其可用在太阳能领域中。更具体地，本发明涉及具有以下组成的玻璃板，该组成包含以玻璃总重量的百分数表示含量的以下物质：60-78％SiO2，0-10％Al2O3，0-5％B2O3，0-15％CaO，0-10％MgO，5-20％Na2O，0-10％K2O，0-5％BaO，总铁(以Fe2O3的形式表示)为0.002-0.03％，该组成包含1至8.5的锰/(总铁)比，锰含量以相对于玻璃总重量的MnO形式的重量百分数来表示。

公开(公告)号：CN102060432A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN201010546665.4

申请日：2010-11-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 毎田繁 ,  大塚久利

IPC: C03B20/00

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: 本发明涉及氧化钛和硫共掺杂的石英玻璃部件及其制造方法。特别地，提供了氧化钛和硫共掺杂的石英玻璃部件。由于氧化钛和硫的共掺杂，石英玻璃部件在一定温度下经历零膨胀并且在宽温度范围内经历低热膨胀，因此，石英玻璃部件适于用在可商购的EUV光刻工具中。还提供了用于EUV光刻的制备方法和光学部件。

公开(公告)号：US20150225280A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：US14467369

申请日：2014-08-25

Applicant: Corning Incorporated

Inventor： Brian Lee Harper ,  Rostislav Radiyevich Khrapko ,  Snigdharaj Kumar Mishra ,  Sonya Marie Raney ,  Pushkar Tandon

IPC: C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01453 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/20

Abstract: One embodiment of the disclosure relates to a method of making an optical fiber comprising the steps of: (i) exposing a silica based preform with at least one porous glass region having soot density of ρ to a gas mixture comprising SiCl4 having SiCl4 mole fraction ySiCl4 at a doping temperature Tdop such that parameter X is larger than 0.03 to form the chlorine treated preform, wherein X = 1 1 + [ ( ρ ρ s - ρ )  0.209748  T dop  Exp  [ - 5435.33 / T dop ] y SiCl   4 3 / 4 ] and ρs is the density of the fully densified soot layer; and (ii) exposing the chlorine treated preform to temperatures above 1400° C. to completely sinter the preform to produce sintered optical fiber preform with a chlorine doped region; and (iii) drawing an optical fiber from the sintered optical preform.

Abstract translation: 本公开的一个实施方案涉及一种制造光纤的方法，包括以下步骤：（i）将二氧化硅基预型体暴露于具有烟炱密度的至少一个多孔玻璃区域; 在掺杂温度Tdop下将SiCl 4的SiCl 4摩尔分数为ySiCl4的气体混合物混合，使得参数X大于0.03以形成经氯处理的预制件，其中X = 11 + [（＆rgr; s - ＆rgr;））0.209748 [... 5435.33 / T dop] y SiCl 4 3/4]和＆rgr; s是完全致密的烟灰层的密度; 和（ii）将氯处理的预制件暴露于高于1400℃的温度下，以完全烧结预成型件，以制备具有氯掺杂区域的烧结光纤预制件; 和（iii）从烧结的光学预型件拉制光纤。

公开(公告)号：US08539797B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US12940405

申请日：2010-11-05

Applicant: Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka

Inventor： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka

IPC: C03B37/018 ,  C03B19/01 ,  C03B19/06 ,  C03C3/06

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: A titania and sulfur co-doped quartz glass member is provided. Due to co-doping of titania and sulfur, the quartz glass member undergoes zero expansion at a certain temperature and low thermal expansion over a wide temperature range, and is thus suited for use in a commercial EUV lithography tool. A manufacturing method and an optical member for EUV lithography are also provided.

Abstract translation: 提供二氧化钛和硫共掺杂石英玻璃构件。 由于二氧化钛和硫的共掺杂，石英玻璃构件在宽温度范围内在一定温度下经历零膨胀和低热膨胀，因此适用于商业EUV光刻工具。 还提供了用于EUV光刻的制造方法和光学构件。

公开(公告)号：US08014647B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US12805989

申请日：2010-08-27

Applicant: Stéphanie Blanchandin ,  Christine Collet ,  Alain Pastouret ,  Sophie De Monredon ,  Jean-Pierre Jolivet ,  Corinne Chaneac

Inventor： Stéphanie Blanchandin ,  Christine Collet ,  Alain Pastouret ,  Sophie De Monredon ,  Jean-Pierre Jolivet ,  Corinne Chaneac

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/075 ,  C03C13/00

CPC classification number: C09K11/7701 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/10 ,  C03C13/045 ,  C03C14/004 ,  C03C14/006 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/3476 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/06754 ,  H01S3/169

Abstract: The invention relates to an optical fiber comprising a gain medium which is equipped with: a core (22) which is formed from a transparent material and nanoparticles (24) comprising a doping element and at least one element for enhancing the use of said doping element; and an outer cladding (26) which surrounds the core. The invention is characterized in that the doping element is erbium (Er) and in that the enhancing element is selected from among antimony (Sb), bismuth (Bi) and a combination of antimony (Sb) and bismuth (Bi).According to the invention, one such fiber is characterized in that the size of the nanoparticles is variable and is between 1 and 500 nanometers inclusive, and preferably greater than 20 nm.

Abstract translation: 本发明涉及一种包括增益介质的光纤，该增益介质配备有：由透明材料形成的芯体（22）和包括掺杂元素的纳米颗粒（24），以及用于增强使用所述掺杂元素的至少一个元件 ; 以及围绕所述芯的外包层（26）。 本发明的特征在于掺杂元素是铒（Er），增强元素选自锑（Sb），铋（Bi）和锑（Sb）和铋（Bi）的组合。 根据本发明，一种这样的纤维的特征在于，纳米颗粒的尺寸是可变的，并且在1和500纳米之间，优选大于20纳米。

公开(公告)号：US20020160276A1

公开(公告)日：2002-10-31

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: G03F009/00 ,  C03C015/00 ,  C03C003/04 ,  C03C003/06 ,  C03C003/112 ,  G03C005/00 ,  G02B013/14

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

Abstract translation: 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。